期刊文献+

反应离化团束沉积技术及其在薄膜制备中的应用

Reactive Ionized Cluster Beam Deposition and Its Application in the Films Growth
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 反应离化团束沉积技术是在离化团束沉积技术基础上加入了反应材料。本文讨论了簇团的产生、离化、加速,成膜的机制,及其在薄膜制备中的应用。 Reactive ionized cluster beam deposition is based on ionized cluster beam deposition with reactive materials. The formation、ionizing、accelerating of the clusters and the formation mechanism of the films are discussed. The application of this technology is also mentioned.
作者 王琼 张观明
机构地区 武汉大学理学院
出处 《半导体杂志》 1998年第2期43-48,共6页
关键词 R-ICBD 离化团束沉积 薄膜 制备 Reactive Ionized Cluster Beam Deposition Ionized Clusterbeam Deposition  Films
  • 相关文献

参考文献15

  • 1Takagi T, et al. Proc. 2nd Int. Conf. on Ion Source, Vienna, 1972:790.
  • 2田民波.气体离化团束技术[J].物理,1997,26(2):117-121. 被引量:1
  • 3Yamada J, et al. Jpn. J. Appl. Phys, 1993, 32:2121.
  • 4Frenkel J. Kinetic Theory of Liquids, Dover, New York, 1955.
  • 5Yamada I, Prec. Int. Ion Engineering Congr., Kyoto, 1983, 2:1177.
  • 6Brown W L, et al. Nucl. Instrum. & Methods. in Phys. Res., 1991, B59/60 : 182.
  • 7Feng S W, et al. Thin Solid Films, 1994, 253:402.
  • 8Yamamura Y, et al. Nucl. instrum, & Methods. in Phys. Res.,1989, B37/38:902.
  • 9Miiller K H. J. Appl. Phys., 1987, 61:402.
  • 10Chi S C, et al. Nucl. Instrum. & Methods. in Phys. Res., 1997, B121:170.

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部