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SiO_2纳米粒子对PMMA/PS共混物共连续相结构退火粗化过程的影响 被引量:3
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作者 孔米秋 黄亚江 +1 位作者 刘文娟 李光宪 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第9期1070-1076,共7页
考察了亲水性纳米SiO2粒子的加入对聚甲基丙烯酸甲酯/聚苯乙烯(PMMA/PS)共混体系的共连续相结构在静态高温退火时形态稳定性的影响,发现静态高温退火条件下,填充体系共连续组成范围变窄幅度较小、特征结构尺寸的粗化速率减慢.流变测试... 考察了亲水性纳米SiO2粒子的加入对聚甲基丙烯酸甲酯/聚苯乙烯(PMMA/PS)共混体系的共连续相结构在静态高温退火时形态稳定性的影响,发现静态高温退火条件下,填充体系共连续组成范围变窄幅度较小、特征结构尺寸的粗化速率减慢.流变测试表明纳米SiO2粒子加入之后PMMA/PS共混体系的黏弹性显著提高,从而能减缓破坏构成共连续相结构的纤维断裂或回缩等松弛过程的速率,有效地抑制PMMA/PS共混体系的共连续相结构粗化进程,提高相结构的稳定性.根据现有的两种粗化理论的定性分析表明,在高填充量的共混体系中,加入纳米SiO2粒子导致共混体系的黏弹性的显著改变是影响PMMA/PS共混体系在静态高温退火时共连续相结构粗化速率的主要因素,相对而言界面张力的变化对共连续相结构在静态高温退火时的粗化速率影响则应该较小. 展开更多
关键词 pmma/ps共混物 SIO2纳米粒子 共连续结构 稳定性
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微量二茂铁衍生物对PMMA/PS复合光散射材料性能的影响 被引量:1
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作者 邢华 孟庆云 《塑料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期40-43,共4页
讨论了α-羟基乙基二茂铁的加入对PMMA/PS复合光散射材料制备工艺、微观结构及光散射性能的影响。实验表明:α-羟基乙基二茂铁的加入,降低了MMA原位聚合的温度;材料的散射能力增强;红外谱图中PMMA的特征峰值相对于未加添加物的复合材料... 讨论了α-羟基乙基二茂铁的加入对PMMA/PS复合光散射材料制备工艺、微观结构及光散射性能的影响。实验表明:α-羟基乙基二茂铁的加入,降低了MMA原位聚合的温度;材料的散射能力增强;红外谱图中PMMA的特征峰值相对于未加添加物的复合材料有不同程度的下降;扫描电镜分析表明是由于自组装材料内部散射体相分离形成了个畴。 展开更多
关键词 α-羟基乙基二茂铁 pmma/ps复合光散射材料 软物质自组装
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MWCNTs与疏水纳米SiO2填充PMMA/PS共混物的导电与动态流变行为 被引量:2
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作者 黄真芝 宋义虎 +1 位作者 谭业强 郑强 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第1期88-94,共7页
以多壁碳纳米管(MWCNTs)为导电填料、疏水纳米二氧化硅(SiO2)为非导电填料,填充不相容聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/聚苯乙烯(PS)(1/1,V/V)共混物,制备(PMMA/SiO2)/(PS/MWCNTs)四元导电高分子复合材料(CPC),研究其导电逾渗与动态流变行为,并... 以多壁碳纳米管(MWCNTs)为导电填料、疏水纳米二氧化硅(SiO2)为非导电填料,填充不相容聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/聚苯乙烯(PS)(1/1,V/V)共混物,制备(PMMA/SiO2)/(PS/MWCNTs)四元导电高分子复合材料(CPC),研究其导电逾渗与动态流变行为,并与PMMA/(PS/MWCNTs)三元CPC进行对比.发现三元、四元CPC具有类似的导电逾渗行为,且逾渗阈值显著低于PS/MWCNTs二元CPC.在四元CPC中,SiO2粒子可细化相区尺寸,提高熔体模量,但不影响熔体热处理过程中的依时性动态导电逾渗行为.MWCNTs与SiO2均显著影响熔体热处理中的依时性模量逾渗行为,分别缩短、延长四元CPC相粗化起始时间,但均延长相粗化时间区间. 展开更多
关键词 多壁碳纳米管 疏水纳米二氧化硅 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯共混物 逾渗 动态流变特性
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基板界面对PS/PMMA共混物薄膜相逆转组成比的影响 被引量:11
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作者 方健 孔祥明 +2 位作者 郭宝华 胡平 谢续明 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期151-153,共3页
The effect of substrate on the phase morphologies of PMMA/PS blend films was investigated by means of phase contrast microscope. PMMA/PS blend films were cast onto various substrates(such as glass substrate and PP sub... The effect of substrate on the phase morphologies of PMMA/PS blend films was investigated by means of phase contrast microscope. PMMA/PS blend films were cast onto various substrates(such as glass substrate and PP substrate) by spin-coating with thickness of about 10 μm. It was observed that there was a large difference of the phase inversion region between the blend films cast on glass and on PP substrates. On glass substrate, the phase inversion occurred at about \%Φ\%_m=0 4(PS mass fraction) while at \%Φ\%_m=0 5 on PP substrate. This implies that there is a shift of the phase inversion region with the change of substrate in cast polymer blend films. In other words, phase inversion region depends on the substrate. ATR-FTIR analysis was used to detect the composition of the surface and the bottom of the films(about 100 μm thick) obtained by evaporating solvent from the polymer blend solution. The ATR-FTIR spectra of the surface and the bottom of the PMMA/PS blend thin films cast on glass substrate and PP substrate showed that PMMA component preferentially segregated to glass substrate and PS component was enriched on the PP substrate. This selective segregation was due to the difference of the wetting abilities of PS and PMMA on the two kinds of substrates. The polymer-substrate interfacial tension γ were calculated and the results supported the ATR-FTIR results. It could be inferred that the shift of the phase inversion region with the change of the substrate in PMMA/PS blend film was due to the fact that the composition of the blend in the bulk changed, owing to the selective enrichment of one component of polymer blend to the substrate. In other words, the affinity between polymer and substrate can strongly influence the phase morphologies and the phase inversion region in polymer blend films. 展开更多
关键词 共混物薄膜 相逆转 基板界面 界面张力 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯
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PS/PMMA复合材料的光散射 被引量:10
5
作者 孟庆华 郭安儒 +2 位作者 张勇杰 孟庆云 向阳 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期2646-2650,共5页
对以聚苯乙烯(PS)和自行合成的纳米"类双亲"PMMAPS为光散射剂,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为基体的复合光散射材料进行了实验研究。测试并分析了样品的雾度及透光率与添加量之间的关系,目的在于通过调节散射剂添加量来调控以PMM... 对以聚苯乙烯(PS)和自行合成的纳米"类双亲"PMMAPS为光散射剂,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为基体的复合光散射材料进行了实验研究。测试并分析了样品的雾度及透光率与添加量之间的关系,目的在于通过调节散射剂添加量来调控以PMMA为基体的高聚物材料的光散射性能。实验结果表明,添加少量PS到PMMA中即可制备出光散射材料,PS添加量为1%时,复合光散射材料的透光率为80%;不添加PMMAPS时雾度为50%,添加了PMMAPS时雾度达到80%,PMMAPS可以改善PMMA和PS之间的相容性,提高样品的雾度值。因此通过调节散射剂PS和PM-MAPS添加量可实现光散射高雾度和高透光率的双高要求。 展开更多
关键词 光散射 雾度 透光率 ps pmma pmmaps
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PS-PMMA-PBMA三嵌段聚合物的ATRP合成及表征 被引量:5
6
作者 李艳明 孔娟 +2 位作者 杨柏林 李海英 雷良才 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期10-14,共5页
以氯化亚铜(CuCl)/2,2'-联吡啶(bpy)为催化体系,苄基氯为引发剂,采用本体原子转移自由基聚合(ATRP)方法,引发苯乙烯(St)聚合,合成出大分子引发剂聚苯乙烯(PS-Cl)。用此大分子引发剂在溶液体系下引发第二单体甲基丙烯酸甲酯(MMA)聚合... 以氯化亚铜(CuCl)/2,2'-联吡啶(bpy)为催化体系,苄基氯为引发剂,采用本体原子转移自由基聚合(ATRP)方法,引发苯乙烯(St)聚合,合成出大分子引发剂聚苯乙烯(PS-Cl)。用此大分子引发剂在溶液体系下引发第二单体甲基丙烯酸甲酯(MMA)聚合,合成出PS-PMMA-Cl二嵌段聚合物。再以此二嵌段聚合物为大分子引发剂引发甲基丙烯酸丁酯(BMA)聚合,合成出三嵌段聚合物PS-PMMA-PBMA。运用凝胶色谱、红外光谱、核磁共振氢谱及差示扫描量热技术等对三嵌段聚合物进行表征。 展开更多
关键词 原子转移自由基聚合 大分子引发剂 三嵌段聚合物 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯 聚甲基丙烯酸丁酯
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基板界面对PS/PMMA溶液共混物溶剂挥发成膜相结构的影响 被引量:4
7
作者 孔祥明 谢续明 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第1期124-128,共5页
研究了PS PMMA的共混物溶液溶剂蒸发成膜时的基板界面效应 .利用扫描电子显微镜 (SEM)研究了PS PMMA(5 5 ) (W W) THF高分子共混物溶液在不同基板上通过溶剂挥发成膜的相形态结构 .通过FTIR及ATR FTIR检测了共混物薄膜及其表面的共混... 研究了PS PMMA的共混物溶液溶剂蒸发成膜时的基板界面效应 .利用扫描电子显微镜 (SEM)研究了PS PMMA(5 5 ) (W W) THF高分子共混物溶液在不同基板上通过溶剂挥发成膜的相形态结构 .通过FTIR及ATR FTIR检测了共混物薄膜及其表面的共混组成 .研究结果表明 ,成膜基板对高分子共混物溶液成膜后的相形态有很重要的影响 .控制共混物溶液体系成膜过程中的动力学因素 。 展开更多
关键词 基板界面 ps/pmma 溶液共混物 溶剂 挥发成膜 相结构 相形态 梯度结构 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯
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PMMA-b-PS基凝胶聚合物电解质的性能
8
作者 宋颖 马晓燕 +1 位作者 唐林 周华龙 《功能高分子学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期335-339,358,共6页
通过原子转移自由基聚合反应(ATRP)合成了含刚性聚苯乙烯(PS)链段的聚(甲基丙烯酸甲酯-b-苯乙烯)嵌段共聚物(PMMA-b-PS)。用红外光谱、核磁共振氢谱和凝胶渗透色谱分析了该共聚物的化学结构、分子量及其分布。结果表明:PMMA-b-PS的数均... 通过原子转移自由基聚合反应(ATRP)合成了含刚性聚苯乙烯(PS)链段的聚(甲基丙烯酸甲酯-b-苯乙烯)嵌段共聚物(PMMA-b-PS)。用红外光谱、核磁共振氢谱和凝胶渗透色谱分析了该共聚物的化学结构、分子量及其分布。结果表明:PMMA-b-PS的数均分子量为2.69×105,分子量分布为1.53。以合成的PMMA-b-PS为基体,通过溶液浇铸法制备凝胶聚合物电解质(GPE)薄膜,研究了其电导率。PMMA-b-PS质量分数为40%的GPE具有较好的成膜性和导电性,室温下其电导率为8.82×10-5S/cm;热失重分析表明,该GPE在质量损失5%时的热分解温度为139°C,比相应的纯PMMA基GPE高49°C。 展开更多
关键词 聚(甲基丙烯酸甲酯-b-苯乙烯) 原子转移自由基聚合 凝胶电解质 离子电导率 热稳定性
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PS/PMMA共混物薄膜的旋涂法制备及3D轮廓仪检测
9
作者 王晓云 阿依江·布胡达西 +2 位作者 王玉玉 卫来 张丽 《伊犁师范学院学报(自然科学版)》 2017年第4期35-38,共4页
采用旋转涂膜法在亲水性玻璃基底上制备了不同溶液浓度及不同质量分数的聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)共混物薄膜,通过3D轮廓仪观测并分析了溶液浓度、质量分数对薄膜厚度、平均粗糙度的影响.结果表明:相同质量分数的共混物溶液... 采用旋转涂膜法在亲水性玻璃基底上制备了不同溶液浓度及不同质量分数的聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)共混物薄膜,通过3D轮廓仪观测并分析了溶液浓度、质量分数对薄膜厚度、平均粗糙度的影响.结果表明:相同质量分数的共混物溶液所制得的薄膜,溶液浓度越大,平均厚度也较大,这是由于在旋涂过程中,对于同样体积的溶液,浓度较大的溶液挥发溶剂后残留的溶质量较多.相同浓度的共混物溶液所制得的薄膜,其平均厚度随着PS质量分数的增大而呈先减小后增大的趋势,在PS质量分数为30 wt%附近为最小,主要是由于PMMA的支链都是短链,能够较为容易地填充PS的空隙,从而形成共混状态,同时,PS分子支链上的苯环和PMMA分子的酯基都是极性疏水基团,因此在共混时有相互吸引作用.各浓度下PS/PMMA共混物薄膜的平均粗糙度随着溶质中PS质量分数增加呈先增大后减小的趋势,在PS质量分数为50 wt%附近其粗糙度都达到最大,这可能是由于PS和PMMA中的极性疏水基团相互吸引,使得分子链折叠隆起,导致薄膜的平均粗糙度增大,而PS质量分数约为50 wt%时,这种相互作用点较多,作用较强.同等情况下溶液浓度越大,所制备的共混物薄膜平均粗糙度越大,原因可能是溶液浓度较大时,分子链之间距离更近,能够有效引起分子链折叠隆起的相互作用点也更多. 展开更多
关键词 ps/pmma 3D轮廓仪 表面轮廓
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PS/PMMA共混物薄膜相分离行为的拉曼光谱分析 被引量:3
10
作者 夏欢 杨榕 +3 位作者 李红梅 张强 王晓云 卫来 《伊犁师范学院学报(自然科学版)》 2016年第4期19-24,共6页
采用旋涂法按质量比1∶1制备了聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的共混物薄膜,厚度约为7μm,并利用共聚焦显微拉曼光谱对其退火前后的相分离行为进行了拉曼光谱分析.结果显示:共混物薄膜中PS富集相呈海岛状,而PMMA富集相呈连续分布;... 采用旋涂法按质量比1∶1制备了聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的共混物薄膜,厚度约为7μm,并利用共聚焦显微拉曼光谱对其退火前后的相分离行为进行了拉曼光谱分析.结果显示:共混物薄膜中PS富集相呈海岛状,而PMMA富集相呈连续分布;在220℃恒温退火150 min后,PS富集相的拉曼光谱结果显示谱峰峰比由退火前的I3052I2951≈0.88,变为退火后的I3056I2940≈5.74,而PMMA富集相的拉曼光谱结果显示谱峰峰比由退火前的I3054I3002≈1.16,变为退火后的I3054I3000≈0.66,表明退火后PS/PMMA薄膜中两物质进一步分离;此外,PS富集相中PMMA的特征峰1 728 cm-1谱峰红移至1 684 cm-1,而PMMA富集相中PMMA的特征峰3 002 cm-1、2 953 cm-1、1 729 cm-1等谱峰都发生了蓝移,表明PS与PMMA的部分基团存在较强的相互作用,使得共混状态下PMMA分子中部分分子键的振动受到抑制. 展开更多
关键词 ps/pmma 相分离 共聚焦显微拉曼光谱 拉曼成像
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添加SBR原位聚合制备PS/PMMA高聚物复合光散射材料
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作者 李海花 孟庆华 孟庆云 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期606-608,共3页
将丁苯橡胶添加到预聚MMA和St的混合溶液中经过原位聚合的方法制备PS/PMMA高聚物复合材料。研究了散射体物质添加量对样品的光学性能的影响。实验结果表明:SBR和预聚MMA对样品的光散射性能产生了协同作用;PS/PMMA高聚物复合材料的雾度值... 将丁苯橡胶添加到预聚MMA和St的混合溶液中经过原位聚合的方法制备PS/PMMA高聚物复合材料。研究了散射体物质添加量对样品的光学性能的影响。实验结果表明:SBR和预聚MMA对样品的光散射性能产生了协同作用;PS/PMMA高聚物复合材料的雾度值随SBR添加量的改变而产生明显的振荡,而样品的透光率随SBR添加量的改变则其振荡关系存在,但是不显著;PS/PMMA/SBR样品的雾度值及透光率随预聚MMA添加量的改变呈现弱的振荡变化关系。形貌分析表明:散射剂能够很好地分散于基体中。 展开更多
关键词 ps/pmma 丁苯橡胶 光散射 雾度
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雪人状(SiO_(2)-PMMA)/PS粒子的制备
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作者 段延萍 杜鲜萍 +1 位作者 郝红 邓静文 《化学工程》 CAS CSCD 北大核心 2021年第11期20-24,36,共6页
为制备清洁且形貌可控的雪人状粒子,探究制备条件对微粒形貌的影响,以二氧化硅-聚甲基丙烯酸甲酯(SiO_(2)-PMMA)核壳微粒为种子,苯乙烯(St)为溶胀聚合单体,无皂种子乳液聚合制备雪人状(SiO_(2)-PMMA)/PS粒子。采用SEM、TEM、FTIR对微粒... 为制备清洁且形貌可控的雪人状粒子,探究制备条件对微粒形貌的影响,以二氧化硅-聚甲基丙烯酸甲酯(SiO_(2)-PMMA)核壳微粒为种子,苯乙烯(St)为溶胀聚合单体,无皂种子乳液聚合制备雪人状(SiO_(2)-PMMA)/PS粒子。采用SEM、TEM、FTIR对微粒的结构和化学组成进行表征。在SiO_(2)与MMA质量比13∶100,SiO_(2)-PMMA与St质量比1∶13—1∶18,KPS质量分数3%,搅拌速度540—860 r/min,聚合温度65℃的条件下,制备出雪人状(SiO_(2)-PMMA)/PS Janus粒子。得出种子壳层的交联密度是形成相分离的关键因素,种子与单体的质量比,KPS质量分数及聚合温度都会对微粒的形貌进行调节。 展开更多
关键词 Janus粒子 雪人状(SiO_(2)-pmma)/ps粒子 无皂种子乳液聚合 相分离
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PS/PMMA共混物中超声波传播特性研究
13
作者 何伟 晋刚 孙会波 《塑料科技》 CAS 北大核心 2013年第1期42-46,共5页
利用自行设计的装置,采用改变入射角的方法将超声波纵波和横波导入不相容的聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯(PS/PMMA)共混物体系中。研究了两种波的声速和声衰减随共混体系共混比变化的情况,并结合扫描电子显微镜(SEM)检测得到的相畴尺寸进... 利用自行设计的装置,采用改变入射角的方法将超声波纵波和横波导入不相容的聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯(PS/PMMA)共混物体系中。研究了两种波的声速和声衰减随共混体系共混比变化的情况,并结合扫描电子显微镜(SEM)检测得到的相畴尺寸进行了分析。结果表明:共混物中的相畴尺寸与其散射衰减之间存在对应关系;由于横波波长更为接近共混体系中的相畴尺寸,横波的散射衰减明显大于纵波。 展开更多
关键词 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯 超声波 散射衰减 相畴尺寸
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聚偏氟乙烯共混膜的制备和性能研究 被引量:3
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作者 张娇 邱广明 +3 位作者 杨春霞 李浩 朱晓燕 孙汉明 《内蒙古石油化工》 CAS 2011年第8期29-31,共3页
主要讨论了聚偏氟乙烯(PVDF)膜以及聚甲基丙烯酸甲酯(PVDF/PMMA)、PVDF/PMMA/PS(聚砜)共混膜的制备及性能,并研究了不同添加剂对PVDF/PMMA/PS共混膜的结构和性能的影响。实验数据表明:PVDF/PMMA/PS共混膜的通量最大;PVPK 40成膜通量最大... 主要讨论了聚偏氟乙烯(PVDF)膜以及聚甲基丙烯酸甲酯(PVDF/PMMA)、PVDF/PMMA/PS(聚砜)共混膜的制备及性能,并研究了不同添加剂对PVDF/PMMA/PS共混膜的结构和性能的影响。实验数据表明:PVDF/PMMA/PS共混膜的通量最大;PVPK 40成膜通量最大;T iO 2成膜截留率最大。 展开更多
关键词 PVDF pvdf/pmma pvdf/pmma/ps 共混膜 添加剂
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聚偏氟乙烯共混膜的制备和性能研究
15
作者 张娇 邱广明 《内蒙古工业大学学报(自然科学版)》 2011年第3期346-350,共5页
主要讨论了聚偏氟乙烯(PVDF)膜以及聚甲基丙烯酸甲酯(PVDF/PMMA)、PVDF/PMMA/PS(聚砜)共混膜的制备及性能,并研究了不同添加剂对PVDF/PMMA/PS共混膜的结构和性能的影响。实验数据表明:PVDF/PMMA/PS共混膜的通量最大。SEM表明,添加剂对... 主要讨论了聚偏氟乙烯(PVDF)膜以及聚甲基丙烯酸甲酯(PVDF/PMMA)、PVDF/PMMA/PS(聚砜)共混膜的制备及性能,并研究了不同添加剂对PVDF/PMMA/PS共混膜的结构和性能的影响。实验数据表明:PVDF/PMMA/PS共混膜的通量最大。SEM表明,添加剂对本体系有较大的影响,其中PVPK40成膜通量最大,TiO2成膜截留率最大。 展开更多
关键词 PVDF PVDF/pmma PVDF/pmma/ps 共混膜 添加剂
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用显微红外光谱法研究高分子共混物溶液自组织形成的相组成分布 被引量:10
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作者 孔祥明 谢续明 +3 位作者 杨睿 汪昆华 张增民 雷华 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期623-625,共3页
本文制备了PS/PC(7/ 3)和PS/PMMA(5 / 5 )的四氢呋喃 (THF)溶液 ,通过缓慢蒸发溶剂制得PS/PC和PS/PMMA的共混物薄膜。利用不同的FTIR测试方法检测了制得薄膜中的组成分布。将PS/PC薄膜超薄切片 ,通过显微投射红外方法检测了其纵剖面的... 本文制备了PS/PC(7/ 3)和PS/PMMA(5 / 5 )的四氢呋喃 (THF)溶液 ,通过缓慢蒸发溶剂制得PS/PC和PS/PMMA的共混物薄膜。利用不同的FTIR测试方法检测了制得薄膜中的组成分布。将PS/PC薄膜超薄切片 ,通过显微投射红外方法检测了其纵剖面的组成分布 (测试步长为 16 μm)。结果表明 :PS含量从膜底面到表面缓慢增大呈梯度分布 ,在膜表面附近急剧增大 ,即PS组分在成膜过程中向表面 (与空气接触 )富集。利用显微反射红外法 ,调整红外显微镜聚焦面到膜的不同深度平面上 ,测量了PS/PMMA薄膜的纵向组成分布 (调焦步长为 10 μm)。结果表明 :PMMA组分呈从膜表面到底面逐渐增多的梯度分布。这种溶剂蒸发成膜过程中组分向表面或底面迁移被认为是由于共混物某一组分对表面 (空气 )或基板 (玻璃 )的选择性浸润析出的结果。 展开更多
关键词 显微红外光谱 ps/PC ps/pmma 相组成分布 共混物
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聚合物光纤光谱损耗特性的研究 被引量:4
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作者 冯春媛 金永兴 +1 位作者 金尚忠 张在宣 《中国计量学院学报》 2004年第3期206-209,共4页
截断法测量聚合物光纤 ( POF)的光谱特性是研究其损耗的一种有效方法 .用平面光栅单色仪对聚合物光纤聚甲基丙烯酸甲酯 ( PMMA)和聚苯乙烯 ( PS)的损耗光谱进行了测量 ,结果 PMMA芯 POF有三个传输窗口 ,分别为 5 2 0 nm,5 74nm,65 0 nm.... 截断法测量聚合物光纤 ( POF)的光谱特性是研究其损耗的一种有效方法 .用平面光栅单色仪对聚合物光纤聚甲基丙烯酸甲酯 ( PMMA)和聚苯乙烯 ( PS)的损耗光谱进行了测量 ,结果 PMMA芯 POF有三个传输窗口 ,分别为 5 2 0 nm,5 74nm,65 0 nm.在 5 2 0 nm,5 74nm处的损耗较小 ,且特性较为平坦 ,有很好的应用前景 . PS芯 POF窗口分别为 5 5 0 nm,5 80 nm,63 0 nm,670 nm,73 3 nm和 780 nm.在 5 5 0 nm,5 80 展开更多
关键词 聚合物光纤 POF 损耗特性 光栅 传输 pmma 光谱特性 平坦 单色仪 聚甲基丙烯酸甲酯
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N-取代马来酰亚胺在开发新材料中的应用 被引量:6
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作者 董绍胜 张志谦 +1 位作者 苏荣军 魏月贞 《中国塑料》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期24-29,共6页
本文着重介绍了N取代马来酰亚胺与异丁烯交替共聚合成新型透明材料、用N取代马来酰亚胺改性有机玻璃、聚苯乙烯、聚酰亚胺树脂、ABS树脂、不饱和聚酯等的研究情况,N取代马来酰亚胺可以显著提高上述材料的耐热性,又保持它... 本文着重介绍了N取代马来酰亚胺与异丁烯交替共聚合成新型透明材料、用N取代马来酰亚胺改性有机玻璃、聚苯乙烯、聚酰亚胺树脂、ABS树脂、不饱和聚酯等的研究情况,N取代马来酰亚胺可以显著提高上述材料的耐热性,又保持它们优异的力学性能和工艺性。 展开更多
关键词 马来酰亚胺 共聚 RMI 改性 高聚物
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表面增强拉曼光谱研究高分子共混物薄膜相结构 被引量:4
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作者 宗骐 谢续明 +1 位作者 陈凤恩 郁鉴源 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1064-1067,共4页
采用拉曼光谱法研究了由聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的四氢呋喃(THF)溶液在玻璃基板上旋转涂膜得到的共混物薄膜。应用显微共焦拉曼光谱,根据PS在1604,1585cm-1处苯环的伸缩振动峰和PMMA在1728cm-1处羰基的伸缩振动峰,可以确... 采用拉曼光谱法研究了由聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的四氢呋喃(THF)溶液在玻璃基板上旋转涂膜得到的共混物薄膜。应用显微共焦拉曼光谱,根据PS在1604,1585cm-1处苯环的伸缩振动峰和PMMA在1728cm-1处羰基的伸缩振动峰,可以确定薄膜(厚度约为800nm)表面海岛状相结构的组分分布信息。另外,还对210℃下PS/PMMA(30/70)共混物薄膜退火过程中表面的变化进行了分析。采用表面增强拉曼散射效应对高聚物的增强作用得到了薄膜(厚度约为400nm)的Raman光谱,并且成功地对其组成进行了分析。 展开更多
关键词 ps/pmma 薄膜 相结构 表面增强拉曼散射
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聚苯乙烯芯塑料光纤共挤拉制工艺的研究 被引量:10
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作者 江源 王志明 《塑料工业》 CAS CSCD 北大核心 1996年第5期76-78,共3页
介绍聚苯乙烯芯聚甲基丙烯酸甲酯皮塑料光纤的共挤拉制工艺。PS芯材挤出机螺杆直径60mm,PMMA皮材挤出机螺杆直径45~30mm,长径比25,常规渐变型螺杆,直角型共挤机头,定型段长度8~30倍流道直径,芯材和皮材螺... 介绍聚苯乙烯芯聚甲基丙烯酸甲酯皮塑料光纤的共挤拉制工艺。PS芯材挤出机螺杆直径60mm,PMMA皮材挤出机螺杆直径45~30mm,长径比25,常规渐变型螺杆,直角型共挤机头,定型段长度8~30倍流道直径,芯材和皮材螺杆Ⅰ区、Ⅱ区、Ⅲ区、Ⅳ区、Ⅴ区的加工温度分别是130~180℃、170~210℃、170~210℃、180~230℃、180~220℃和140~190℃、180~230℃、180~230℃、180~230℃、180~220℃,采用上述共挤设备和工艺,拉制的塑料光纤其损耗在1.0~1.5dB/m,塑料光纤的数值孔径、透过率、丝径均匀性、韧性。 展开更多
关键词 聚苯乙烯 聚甲基 丙烯酸甲酯 挤拉 光纤传输线
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