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Fowler-Nordheim公式用于实际场发射体的修正 被引量:2
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作者 罗恩泽 刘云鹏 +2 位作者 刘卫东 陈陆君 郑茂盛 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期5-9,共5页
Fowler-Nordheim公式是一个在理想条件下推导的计算场致发射电流的公式。对场发射体的实验测量表明:实测结果往往比根据Fowler-Nordheim公式计算的结果大很多,说明这一理想化了的公式应用于实际场发射... Fowler-Nordheim公式是一个在理想条件下推导的计算场致发射电流的公式。对场发射体的实验测量表明:实测结果往往比根据Fowler-Nordheim公式计算的结果大很多,说明这一理想化了的公式应用于实际场发射体时,必须给予修正。本文讨论了产生这一问题的原因,并提出了合理的定量修正方法。 展开更多
关键词 场致发射 场发射体 场致发射电流 公式 计算
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Fowler-Nordheim公式应用于实际场发射体的修正 被引量:4
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作者 罗恩泽 刘云鹏 +2 位作者 刘卫东 陈陆君 郑茂盛 《电子器件》 CAS 1994年第3期1-7,共7页
Fowler-Nordbeim公式是一个在理想条件下推导的计算场致发射电流的公式。对场发射体的实验测量表明:实验结果往往比根据Fowler-Nordheim公式计算的结果大得很多,说明这一理想化了的公式应用于实际场发... Fowler-Nordbeim公式是一个在理想条件下推导的计算场致发射电流的公式。对场发射体的实验测量表明:实验结果往往比根据Fowler-Nordheim公式计算的结果大得很多,说明这一理想化了的公式应用于实际场发射体时,必需得到修正。本文讨论了产生这一问题的原因,并提出了合理的定量修正方法。 展开更多
关键词 场致发射 场发射体 金属场 电流 公式 修正
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Extracting the effective mass of fewer layers 2D h-BN nanosheets using the Fowler-Nordheim tunneling model
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作者 QIN Jia-Yi LUO Man +4 位作者 CHENG Tian-Tian MENG Yu-Xin ZU Yuan-Ze WANG Xin YU Chen-Hui 《红外与毫米波学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期744-748,共5页
Hexagonal boron nitride(h-BN)is found to have widespread application,owing to its outstanding properties,including gate dielectrics,passivation layers,and tunneling layers.The current studies on the funda⁃mental physi... Hexagonal boron nitride(h-BN)is found to have widespread application,owing to its outstanding properties,including gate dielectrics,passivation layers,and tunneling layers.The current studies on the funda⁃mental physical properties of these ultrathin h-BN films and the electron tunneling effect among them are inade⁃quate.In this work,the effective mass in h-BN was successfully determined through a combined approach of ex⁃perimental and theoretical research methods by fitting the current-voltage curves of metal/insulator/metal struc⁃tures.It was observed that within a range of 4-22 layers,the effective mass of h-BN exhibits a monotonic de⁃crease with an increase in the number of layers.The physical parameters of the Fowler-Nordheim tunneling model in the context of electron tunneling in h-BN are precisely ascertained by utilizing the extracted effective mass.Ad⁃ditionally,the impact of fixed charges at the metal/h-BN interface and various metal electrode types on FowlerNordheim tunneling within this structure is investigated utilizing this physical parameter in Sentaurus TCAD soft⁃ware.This work is informative and instructive in promoting applications in the fields of h-BN related infrared physics and technology. 展开更多
关键词 H-BN 2D layered material Fowler-nordheim tunneling gate dielectrics TCAD simulation
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用Fowler-Nordheim公式测定ITO功函数的研究 被引量:2
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作者 程洁 朱文清 +2 位作者 委福祥 蒋雪茵 张志林 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期907-910,共4页
通过制备双边注入型单载流子器件ITO/TPD(NPB)/Cu,运用Fowler-Nordheim(F-N)公式变换,消除了载流子有效质量和器件厚度因素的影响,提高了测量的精度,简单准确地测定了ITO的功函数。实验测得值分别为4.85eV、4.88eV,与ITO的文献报道值接... 通过制备双边注入型单载流子器件ITO/TPD(NPB)/Cu,运用Fowler-Nordheim(F-N)公式变换,消除了载流子有效质量和器件厚度因素的影响,提高了测量的精度,简单准确地测定了ITO的功函数。实验测得值分别为4.85eV、4.88eV,与ITO的文献报道值接近。该方法操作简便,可以用来测定半导体和金属电极特别是合金电极的功函数。 展开更多
关键词 Fowler-nordheim(F-N)公式 ITO功函数 双边注入
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Hole-dominated Fowler–Nordheim tunneling in 2D heterojunctions for infrared imaging 被引量:3
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作者 Lei Tong Meng Peng +10 位作者 Peisong Wu Xinyu Huang Zheng Li Zhuiri Peng Runfeng Lin Qiaodong Sun Yaxi Shen Xuefeng Zhu Peng Wang Jianbin Xu Lei Ye 《Science Bulletin》 SCIE EI CSCD 2021年第2期139-146,M0004,共9页
Heterostructures based on diverse two-dimensional(2D)materials are effective for tailoring and further promoting device performance and exhibit considerable potential in photodetection.However,the problem of high-dens... Heterostructures based on diverse two-dimensional(2D)materials are effective for tailoring and further promoting device performance and exhibit considerable potential in photodetection.However,the problem of high-density thermionic carriers can be hardly overcome in most reported heterostructure devices based on type I and type II band alignment,which leads to an unacceptably small Iphoto/Idark and strong temperature dependence that limit the performance of photodetectors.Here,using the MoTe_(2)/h-BN/MoTe_(2)/h-BN heterostructure,we report the hole-dominated Fowler–Nordheim quantum tunneling transport in both on and off states.The state-of-the-art device operating at room temperature shows high detectivity of>10^(8) Jones at a laser power density of<0.3 nW μm^(-2) from the visible to near infrared range.In addition,the fast on–off switching and highly sensitive photodetection properties promise superior imaging capabilities.The tunneling mechanism,in combination with other unique properties of 2D materials,is significant for novel photodetection. 展开更多
关键词 MoTe2 Fowler–nordheim quantum tunneling Response speed PHOTODETECTION High detectivity
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碳纳米管的场致发射及在平板显示领域中的应用 被引量:6
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作者 秦玉香 胡明 +2 位作者 李海燕 张之圣 邹强 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期277-283,共7页
碳纳米管(CNTs)具有低的阈值电场和高的发射电流密度,是一种性能优良的场发射阴极材料,在平板显示领域具有潜在的应用价值.CNTs的场发射性能直接关系到CNTs场发射阴极在未来的实际应用.本文从Fowler-Nordheims场发射理论出发,阐述了C... 碳纳米管(CNTs)具有低的阈值电场和高的发射电流密度,是一种性能优良的场发射阴极材料,在平板显示领域具有潜在的应用价值.CNTs的场发射性能直接关系到CNTs场发射阴极在未来的实际应用.本文从Fowler-Nordheims场发射理论出发,阐述了CNTs的场发射机制;详细论述了各种因素包括CNTs的定向性、层结构、几何特征、阵列密度、系统真空度以及CNTs与基底材料之间的键合等对CNTs场发射特性的影响;介绍了CNTs场发射特性在平板显示领域中的实际应用. 展开更多
关键词 碳纳米管 场发射 Fowler—nordheims模型 平板显示器
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碳纳米管场发射特性研究 被引量:11
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作者 田进寿 李冀 +2 位作者 王俊锋 杨勤劳 牛憨笨 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1442-1445,共4页
从Fowler Nordheims理论出发 ,对实验中测得的碳管场发射中ln(I/V2 )~ 1/V并不是严格的线性关系进行了分析 ,认为主要是碳管吸附态 (主要是水蒸气 )的改变引起有效功函数改变 ,同时随着发射电流的增大 ,个别较长碳管表面的突起在残余... 从Fowler Nordheims理论出发 ,对实验中测得的碳管场发射中ln(I/V2 )~ 1/V并不是严格的线性关系进行了分析 ,认为主要是碳管吸附态 (主要是水蒸气 )的改变引起有效功函数改变 ,同时随着发射电流的增大 ,个别较长碳管表面的突起在残余气体离子轰击下变得平滑甚至缩短 ,热熔化也可能造成碳管缩短 .另一方面 ,随着电场强度的增大 ,较短碳管的场发射对总发射电流的贡献也相对提升 这些因素都会造成场发射中F 展开更多
关键词 Fowler-nordheim理论 碳纳米管 场增强因子 功函数
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用有限元方法计算X光源场发射阴极电流 被引量:1
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作者 解滨 陈波 +2 位作者 韩邦诚 尼启良 巩岩 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2004年第2期221-225,共5页
针对场致发射阵列建立了有效的三维有限元模型来分析单个尖锥的发射电流。考虑到场致发射阵列的周期性和尖锥的轴对称性,仅对一个尖锥单元的1/4进行分析。对模型的表面施加电压边界条件,计算得到尖锥表面电场强度分布,电场强度在尖锥顶... 针对场致发射阵列建立了有效的三维有限元模型来分析单个尖锥的发射电流。考虑到场致发射阵列的周期性和尖锥的轴对称性,仅对一个尖锥单元的1/4进行分析。对模型的表面施加电压边界条件,计算得到尖锥表面电场强度分布,电场强度在尖锥顶点最强,场发射电流在此处也最强。由Fowler Nordheim函数可得到尖锥表面的场致发射电流密度分布,对整个尖锥表面进行积分后得到了单个尖锥的场致发射电流约为7μA。计算了在100V门电压下不同顶端半径的场致发射电流。结果显示,场发射对顶端半径有很强的依赖性。计算了100个顶端半径为8nm的尖锥在不同门电压下的总场致发射电流,发射电流与开启电压与实际测量值符合得很好。 展开更多
关键词 场发射阴极 有限元 Spindt型阴极 发射电流 Fowler-nordheim函数 计算 X光源
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基于有限元软件分析碳纳米管的最佳阵列密度 被引量:1
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作者 解滨 陈波 《光学技术》 CAS CSCD 2004年第4期403-405,共3页
利用有限元软件ANSYS,对碳纳米管的最佳阵列密度进行了分析。针对碳纳米管阵列静电场分布的特点,建立了碳纳米管的模型,确定了模型的边界条件。为了便于对计算结果进行对照,在分析时采用的参数是:阵列周期T=2000nm,单根碳纳米管长度L=1... 利用有限元软件ANSYS,对碳纳米管的最佳阵列密度进行了分析。针对碳纳米管阵列静电场分布的特点,建立了碳纳米管的模型,确定了模型的边界条件。为了便于对计算结果进行对照,在分析时采用的参数是:阵列周期T=2000nm,单根碳纳米管长度L=1μm,顶端半径r=2nm。通过计算得到了单根碳纳米管的场增强因子为321。在长度L和顶端半径r不变的情况下,使用了参数化设计语言,计算了在不同周期(200~4000μm)下碳纳米管场增强因子随周期变化的情况,进一步利用Fowler Nordheim函数得到最佳阵列周期(1600μm)。结果证明,利用有限元软件,其分析过程不仅正确性,而且实用,并且为此类问题的解决提供了一个通用的方法。 展开更多
关键词 碳纳米管 最佳密度 场增强因子 ANSYS LAPLACE方程 Fowler-nordheim函数
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A Novel Flash Memory Using Band-to-Band Tunneling Induced Hot Electron Injection to Program
10
作者 潘立阳 朱钧 +2 位作者 刘志宏 曾莹 鲁勇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期690-694,共5页
A novel band to band hot electron programming flash memory device,which features programming with high speed,low voltage,low power consumption,large read current and short access time,is proposed.The new memory cell... A novel band to band hot electron programming flash memory device,which features programming with high speed,low voltage,low power consumption,large read current and short access time,is proposed.The new memory cell is programmed by band to band tunneling induced hot electron (BBHE) injection method at the drain,and erased by Fowler Nordheim tunneling through the source region.The work shows that the programming control gate voltage can be reduced to 8V,and the drain leakage current is only 3μA/μm.Under the proposed operating conditions,the program efficiency and the read current rise up to 4×10 -4 and 60μA/μm,respectively,and the program time can be as short as 16μs 展开更多
关键词 flash memory band to band channel hot electron Fowler nordheim
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可嵌入RFID标签的低功耗单栅非易失性存储器
11
作者 杨亚楠 杨晓龙 陈力颖 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期16-21,共6页
采用Skysilicon 0.35μm标准CMOS工艺设计并制造了一种可嵌入射频识别(RFID)标签的低功耗单栅非易失性存储器(SPNVM)。与传统的采用双栅工艺制造的电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)和快闪存储器相比较,所提出的单栅存储器具有更低的制... 采用Skysilicon 0.35μm标准CMOS工艺设计并制造了一种可嵌入射频识别(RFID)标签的低功耗单栅非易失性存储器(SPNVM)。与传统的采用双栅工艺制造的电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)和快闪存储器相比较,所提出的单栅存储器具有更低的制造成本和功耗,更多的可编程次数以及更简单的控制电路。该存储器是将三个MOS晶体管的栅极连在一起作为等效浮栅,数据以电压的形式输出。利用Fowler-Nordheim电子隧穿机制对浮栅注入或泄放电子,这使得编程过程可以自动停止,且浮栅不会被过度编程。所提出的存储器结构仅使用两个正电压便可实现擦除、写入和读取操作。测试结果表明,对存储单元进行擦除和数据写入所需时间均为80 ms,存储器可以实现超过1 000次的编程循环,在芯片未封装的情况下,数据保持时间至少为14天。 展开更多
关键词 非易失性存储器(NVM) Fowler-nordheim(FN)隧穿 射频识别(RFID) 标准CMOS工艺 单栅
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EEPROM单元的电荷保持特性 被引量:5
12
作者 成伟 郝跃 +1 位作者 马晓华 刘红侠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1290-1293,共4页
利用理论推导和实验方法对电可擦除可编程只读存储器EEPROM单元在给定电压下的电荷保持特性进行了分析和研究,得出了EEPROM单元电荷保持能力的理论公式,得到了单元保持状态下的电特性曲线,发现在双对数坐标下,阈值电压的退化率与时间成... 利用理论推导和实验方法对电可擦除可编程只读存储器EEPROM单元在给定电压下的电荷保持特性进行了分析和研究,得出了EEPROM单元电荷保持能力的理论公式,得到了单元保持状态下的电特性曲线,发现在双对数坐标下,阈值电压的退化率与时间成线性关系.在假定电荷流失机制为Fowler-Nordheim隧穿效应的情况下,推出了EEPROM单元在给定外加电压下的电荷保持时间,并通过实验得出了简化的EEPROM单元寿命公式. 展开更多
关键词 电可擦除可编程只读存储器 电荷保持 阈值电压 Fowler-nordheim隧穿效应
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取向碳纳米管膜的大面积制备及其场发射性能的研究 被引量:2
13
作者 葛颂 冯孙齐 +2 位作者 俞大鹏 张广宇 刘双 《北京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期341-346,共6页
利用热丝增强化学气相沉积法 ,在镀Ni的Si基片上成功地生长大面积取向碳纳米管膜 ,并研究了其场发射性质。研究表明 ,碳纳米管膜的场发射Fowler Nordheim曲线上存在一转折点Es(“饱和”场强 ) ,低场区域 (E <Es)的F N曲线斜率明显高... 利用热丝增强化学气相沉积法 ,在镀Ni的Si基片上成功地生长大面积取向碳纳米管膜 ,并研究了其场发射性质。研究表明 ,碳纳米管膜的场发射Fowler Nordheim曲线上存在一转折点Es(“饱和”场强 ) ,低场区域 (E <Es)的F N曲线斜率明显高于高场 (E >Es)区域。实验证实 ,低场区域的场放大系数 β与极间距d成正比 ,Es 与极间距d成反比 ,它们可用双区域场模型唯像地解释。讨论了高场区域场发射电流“饱和”(变化趋缓 ) 展开更多
关键词 取向碳纳米管膜 场发射 Fowler-nordheim公式 场放大系数β
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真空微电子微三极管特性的计算机模拟 被引量:5
14
作者 杨中海 周勇 杨存宇 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期299-305,共7页
用计算机模拟方法研究了真空微电子场致发射微三极管的特性,建立了数理模型。用差分方法求解泊松方程,以福勒──诺德海姆理论处理场致发射特性。细致处理了阴极表面电场,考虑了空间电荷效应的影响,并对模拟结果进行了分析讨论。
关键词 真空微电子学 微三极管 计算机模拟
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场致发射体的局域功函数研究 被引量:10
15
作者 曾葆青 杨中海 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第3期201-206,共6页
实际场致发射体表面不可能绝对光滑 ,而具有原子尺度的微小凸起会导致发射电流大大增加。基于发射电流主要来自于原子尺度微小凸起的假设 ,提出了局域半球镜像电荷模型 ,研究了场致发射功函数的降低 ,发现微小凸起处场致发射的局域功函... 实际场致发射体表面不可能绝对光滑 ,而具有原子尺度的微小凸起会导致发射电流大大增加。基于发射电流主要来自于原子尺度微小凸起的假设 ,提出了局域半球镜像电荷模型 ,研究了场致发射功函数的降低 ,发现微小凸起处场致发射的局域功函数会降低而场增强因子将增大。将它代入F N公式计算了一个典型的单尖Spindt阴极的发射电流 ,所得结果与实验符合。在只考虑Nottingham效应的情况下 。 展开更多
关键词 场致发射体 功函数 阴极电子学 F-N公式
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碳纳米管薄膜的场发射及其有效发射面积 被引量:3
16
作者 董建会 曾葆青 +1 位作者 田时开 崔文丽 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第10期599-603,共5页
讨论了薄膜与阳极间隔以及有效发射面积对碳纳米管薄膜场发射性能的影响。以磁控溅射Al和Ni在Si片上做为缓冲层和催化剂,以乙炔为C源气体,利用化学气相沉积法制备了碳纳米管薄膜。扫描电镜观测结果表明,碳纳米管的直径为50~80nm。采用... 讨论了薄膜与阳极间隔以及有效发射面积对碳纳米管薄膜场发射性能的影响。以磁控溅射Al和Ni在Si片上做为缓冲层和催化剂,以乙炔为C源气体,利用化学气相沉积法制备了碳纳米管薄膜。扫描电镜观测结果表明,碳纳米管的直径为50~80nm。采用二极管结构,测试了样品的场发射性能,结果表明碳纳米管薄膜具有优异的场发射特性,薄膜与阳极距离为400μm时开启场为0.85V/μm、阈值场为1.22V/μm。F-N理论计算结果表明,碳纳米管薄膜的有效发射面积几乎不随场发射所加电压的变化而改变;有效发射面积随着薄膜与阳极距离的增加而增大。 展开更多
关键词 场发射 F—N理论 有效发射面积 碳纳米管 磁控溅射
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Au/(Si/SiO_2)/p-Si结构中电流输运机制的研究 被引量:3
17
作者 张开彪 马书懿 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期56-57,60,共3页
用射频磁控溅射法制备了Si/SiO2薄膜,利用Au/(Si/SiO2)/p-Si结构的I-V特性曲线对其输运机制进行了分析。结果表明,在较高的正向电场下,载流子主要是以电场协助隧穿(Fowler-Nordheim隧穿)方式通过氧化层,而在低场范围内和反向电场下,电... 用射频磁控溅射法制备了Si/SiO2薄膜,利用Au/(Si/SiO2)/p-Si结构的I-V特性曲线对其输运机制进行了分析。结果表明,在较高的正向电场下,载流子主要是以电场协助隧穿(Fowler-Nordheim隧穿)方式通过氧化层,而在低场范围内和反向电场下,电流的产生则以热电子发射的方式为主。 展开更多
关键词 半导体技术 射频磁控溅射 I-V特性 电场协助隧穿
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自支撑衬底n-GaN肖特基接触的电流输运机制研究
18
作者 牟文杰 赵琳娜 +4 位作者 翟阳 朱培敏 陈雷雷 闫大为 顾晓峰 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第3期168-171,181,共5页
在自支撑衬底n-GaN外延片上制备了圆形Ni/Au/n-GaN肖特基接触结构,测量和分析器件的变温电流-电压(I-V)特性,研究了其正向和反向电流的输运机制。结果表明:在正向偏压下,随着温度从300K增加至420K,器件的理想因子由1.8减小至1.2,表明在... 在自支撑衬底n-GaN外延片上制备了圆形Ni/Au/n-GaN肖特基接触结构,测量和分析器件的变温电流-电压(I-V)特性,研究了其正向和反向电流的输运机制。结果表明:在正向偏压下,随着温度从300K增加至420K,器件的理想因子由1.8减小至1.2,表明在高温下复合机制逐渐被热发射机制替代;在反向小偏压下,漏电流表现显著的温度和电压依赖特性,且ln(I)-E^(1/2)数据满足较好线性规律,这表明肖特基效应的电子热发射机制应占主导;而在更高的反向偏压下,电流逐渐变成温度的弱函数,且数据遵循ln(I/E^2)-1/E线性依赖关系,该行为与Fowler-Nordheim隧穿特性一致。 展开更多
关键词 体衬底氮化镓 肖特基二极管 肖特基效应 Fowler-nordheim隧穿
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场发射理论研究进展 被引量:5
19
作者 元光 《真空电子技术》 2012年第6期30-34,共5页
场发射现象在上世纪早期进行过深入的理论和实验研究,但是近年来在显示领域的应用潜力而引起人们的广泛关注和重视;同时场发射现象涉及典型的量子效应即隧穿效应,其细致的物理过程依然值得重视的一个研究领域。近年来场发射的理论研究... 场发射现象在上世纪早期进行过深入的理论和实验研究,但是近年来在显示领域的应用潜力而引起人们的广泛关注和重视;同时场发射现象涉及典型的量子效应即隧穿效应,其细致的物理过程依然值得重视的一个研究领域。近年来场发射的理论研究主要是在两个领域:一是以提高场发射电流为目的进行的理论探索;二是场发射的物理过程。本文介绍近年来场发射理论研究的部分进展。 展开更多
关键词 隧穿效应 场发射理论 F-N理论
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Y_(1-x)Dy_xMnO_3薄膜的制备及磁性能研究
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作者 谈国强 任茜茜 +3 位作者 柴正军 郭美佑 夏傲 任慧君 《陕西科技大学学报》 CAS 2019年第3期112-117,共6页
采用溶胶-凝胶法在Pt/Si基板上制备了Y_(1-x)Dy_xMnO_3(x=0.0~0.5)磁性薄膜,并对薄膜的微观结构和磁性能进行表征和测试.结果表明:Y_(1-x)Dy_xMnO_3薄膜的晶体结构为六方结构,空间点群为P6_3cm.Dy^(3+)掺杂进入到的YMnO_3晶胞结构中,... 采用溶胶-凝胶法在Pt/Si基板上制备了Y_(1-x)Dy_xMnO_3(x=0.0~0.5)磁性薄膜,并对薄膜的微观结构和磁性能进行表征和测试.结果表明:Y_(1-x)Dy_xMnO_3薄膜的晶体结构为六方结构,空间点群为P6_3cm.Dy^(3+)掺杂进入到的YMnO_3晶胞结构中,使晶胞参数增大,结构发生畸变,改变了MnO_5与Y^(3+)的连接方式,从而诱导Y-Mn键角发生改变致其自旋结构的倾斜度增加,提升磁性能,Y_(0.5)Dy_(0.5)MnO_3薄膜的饱和磁化强度值Ms为2.58 emu/cm^3,比YMnO_3薄膜的饱和磁化强度值提高了2.8倍.高电场下的F-N机制影响了薄膜表面电荷对D-M的贡献作用,最终使自旋倾斜程度改善,薄膜磁性能提高. 展开更多
关键词 Y1-xDyxMnO3 溶胶-凝胶法 薄膜 磁性能 F-N隧穿
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