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热载流子诱生MOSFET/SOI界面陷阱的正向栅控二极管技术表征 被引量:2
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作者 何进 张兴 +1 位作者 黄如 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期252-254,共3页
本文完成了热载流子诱生MOSFET/SOI界面陷阱正向栅控二极管技术表征的实验研究 .正向栅控二极管技术简单、准确 ,可以直接测得热载流子诱生的平均界面陷阱密度 ,从而表征器件的抗热载流子特性 .实验结果表明 :通过体接触方式测得的MOSFE... 本文完成了热载流子诱生MOSFET/SOI界面陷阱正向栅控二极管技术表征的实验研究 .正向栅控二极管技术简单、准确 ,可以直接测得热载流子诱生的平均界面陷阱密度 ,从而表征器件的抗热载流子特性 .实验结果表明 :通过体接触方式测得的MOSFET/SOI栅控二极管R G电流峰可以直接给出诱生的界面陷阱密度 .抽取出来的热载流子诱生界面陷阱密度与累积应力时间呈幂指数关系 ,指数因子约为 0 展开更多
关键词 热载流子 应力效应 界面陷阱 正向栅控二级管 mosfet/soi
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纳米MOSFET/SOI器件新结构 被引量:1
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作者 张正选 林成鲁 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第2期222-226,共5页
重点介绍器件进入纳米尺度后出现的MOSFET/SOI器件的新结构,如超薄SOI器件、双栅MOSFET、FinFET和应变沟道等SOI器件,并对它们的性能进行了分析。
关键词 纳米mosfet/soi器件 双栅mosfet FINFET 应变沟道 结构 CMOS器件
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Forward Gated-Diode Monitoring of F-N Stressing-Ind uced Interface Traps of NMOSFET/SOI
3
作者 何进黄 爱华 +1 位作者 张兴 黄如 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期957-961,共5页
The forward gated-diode R-G current method is used to monitor the F-N stressing-induced interface traps of NMOSFET/SOI.This simp le and accurate experiment method can directly give the interface trap density i nduced... The forward gated-diode R-G current method is used to monitor the F-N stressing-induced interface traps of NMOSFET/SOI.This simp le and accurate experiment method can directly give the interface trap density i nduced by F-N stressing effect for characterizing the device's reliability.For the measured NMOS/SOI device with a body structure,an expected power-law relati onship as Δ N it - t 0 4 between the pure F-N stressing-indu ced interface trap density and the accumulated stressing time is obtained. 展开更多
关键词 F-N effect stressing-induced interface tra p density R-G current gated-diode mosfet/soi
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FORWARD GATED-DIODE METHOD FOR DIRECTLY MEASURING STRESS-INDUCED INTERFACE TRAPS IN NMOSFET/SOI 被引量:1
4
作者 HuangAihua YuShan 《Journal of Electronics(China)》 2002年第1期104-107,共4页
Forward gated-diode Recombination-Generation(R-G) current method is applied to an NMOSFET/SOI to measure the stress-induced interface traps in this letter. This easy but accurate experimental method can directly give ... Forward gated-diode Recombination-Generation(R-G) current method is applied to an NMOSFET/SOI to measure the stress-induced interface traps in this letter. This easy but accurate experimental method can directly give stress-induced average interface traps for characterizing the device’s hot carrier characteristics. For the tested device, an expected power law relationship of △Nit-t0.787 between pure stress-induced interface traps and accumulated stressing time is obtained. 展开更多
关键词 Hot-carrier effect Interface traps R-G current Gated-diode mosfet/soi
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电磁脉冲与单粒子效应对SOI MOSFET电学特性的影响
5
作者 宋沛洋 郝建红 +4 位作者 张志远 赵强 张芳 范杰清 董志伟 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第9期173-181,共9页
SOI MOSFET器件广泛应用于航天电子设备中,但它们容易受到空间中电磁脉冲及粒子辐照效应的影响,进而影响航天器的稳定性。通过建立二维的短沟道SOI MOSFET器件模型,探究电磁脉冲和重离子辐照引起的单粒子效应对器件电学特性的影响。研... SOI MOSFET器件广泛应用于航天电子设备中,但它们容易受到空间中电磁脉冲及粒子辐照效应的影响,进而影响航天器的稳定性。通过建立二维的短沟道SOI MOSFET器件模型,探究电磁脉冲和重离子辐照引起的单粒子效应对器件电学特性的影响。研究结果表明,在电磁脉冲作用下,随着电磁脉冲电压幅值的增大,SOI MOSFET会发生雪崩击穿,雪崩击穿现象导致PN结内建电场的电场强度和电流密度的增加,继而导致晶格温度上升;器件发生雪崩击穿的阈值电压随着栅极电压的增加而降低,同时也随着源极和漏极之间沟道长度的减小而降低。重离子入射会使SOI MOSFET器件的瞬态漏电流激增,随着电子-空穴对的复合和扩散,电流逐渐减小。电磁脉冲和重离子协同作用于器件时,重离子辐照降低了器件发生雪崩击穿的阈值电压。 展开更多
关键词 mosfet 电磁脉冲 单粒子效应 雪崩击穿 仿真模拟
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基于SiC MOSFET的新能源汽车电机控制器散热与效率优化
6
作者 豆飞娟 李银霞 白惠珍 《专用汽车》 2026年第1期25-27,49,共4页
通过理论分析与实验验证相结合的方法,针对硅基器件热管理瓶颈,利用SiC MOSFET的高温与高频特性,优化散热设计以实现控制器效率整体提升。建立控制器热阻模型、设计高效液冷散热系统并探究结温对导通损耗的影响机制,解决新能源汽车电机... 通过理论分析与实验验证相结合的方法,针对硅基器件热管理瓶颈,利用SiC MOSFET的高温与高频特性,优化散热设计以实现控制器效率整体提升。建立控制器热阻模型、设计高效液冷散热系统并探究结温对导通损耗的影响机制,解决新能源汽车电机控制器的高效散热问题。通过优化散热方案,显著降低了器件工作温度,既保障了可靠性,又降低了导通电阻,进一步提升了系统效率,尤其在高负载工况下效果显著。实验结果表明,散热与效率优化存在协同效应,为新能源汽车电驱系统的高性能设计提供了实践依据。 展开更多
关键词 SiC mosfet 电机控制器 散热设计 效率优化 液冷系统
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A low-thermal-budget MOSFET-based reservoir computing for temporal data classification
7
作者 Yanqing Li Feixiong Wang +5 位作者 Heyi Huang Yadong Zhang Xiangpeng Liang Shuang Liu Jianshi Tang Huaxiang Yin 《Journal of Semiconductors》 2026年第1期42-48,共7页
Neuromorphic devices have garnered significant attention as potential building blocks for energy-efficient hardware systems owing to their capacity to emulate the computational efficiency of the brain.In this regard,r... Neuromorphic devices have garnered significant attention as potential building blocks for energy-efficient hardware systems owing to their capacity to emulate the computational efficiency of the brain.In this regard,reservoir computing(RC)framework,which leverages straightforward training methods and efficient temporal signal processing,has emerged as a promising scheme.While various physical reservoir devices,including ferroelectric,optoelectronic,and memristor-based systems,have been demonstrated,many still face challenges related to compatibility with mainstream complementary metal oxide semiconductor(CMOS)integration processes.This study introduced a silicon-based schottky barrier metal-oxide-semiconductor field effect transistor(SB-MOSFET),which was fabricated under low thermal budget and compatible with back-end-of-line(BEOL).The device demonstrated short-term memory characteristics,facilitated by the modulation of schottky barriers and charge trapping.Utilizing these characteristics,a RC system for temporal data processing was constructed,and its performance was validated in a 5×4 digital classification task,achieving an accuracy exceeding 98%after 50 training epochs.Furthermore,the system successfully processed temporal signal in waveform classification and prediction tasks using time-division multiplexing.Overall,the SB-MOSFET's high compatibility with CMOS technology provides substantial advantages for large-scale integration,enabling the development of energy-efficient reservoir computing hardware. 展开更多
关键词 schottky barrier mosfet back-end-of-line integration reservoir computing
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氧化温度与NO退火组分协同优化提升SiC MOSFET界面特性与器件性能
8
作者 刘玮 陈刚 +4 位作者 夏云 桂雅雯 陈昱 田佳民 杜融鑫 《微纳电子技术》 2026年第1期104-109,共6页
针对碳化硅(SiC)金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)中SiC/SiO2界面态密度偏高、迁移率低、栅氧击穿场强退化与阈值电压不稳定问题,系统研究了氧化温度、NO退火组分对界面特性及器件性能的调控机制。通过设计三组对比实验(氧化温度... 针对碳化硅(SiC)金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)中SiC/SiO2界面态密度偏高、迁移率低、栅氧击穿场强退化与阈值电压不稳定问题,系统研究了氧化温度、NO退火组分对界面特性及器件性能的调控机制。通过设计三组对比实验(氧化温度1200~1350℃;退火温度1250~1300℃;NO组分10%~100%),制备金属-氧化物-半导体(MOS)电容、平面MOSFET及横向MOSFET。电学表征与物性分析发现:温度升至1300℃可抑制界面碳团簇,阈值电压负漂移率改善44%,但1350℃工艺因氧空位增多导致栅氧反向击穿场强下降7%;10%NO退火较100%NO显著提升场效应迁移率38%,这源于氮原子对界面悬挂键的高效钝化。在最优工艺(1300℃氧化温度结合1300℃/10%NO退火)条件下,器件综合性能最优:栅氧正向击穿场强9.65 MV/cm、迁移率14.4 cm^(2)/(V·s)、阈值电压负漂移率-9%。本研究为SiC MOSFET栅氧工艺提供了明确的参数窗口与机理解释。 展开更多
关键词 SiC金属-氧化物-半导体(MOS)电容 SiC横向金属-氧化物-半导体场效应晶体管(mosfet) 栅氧工艺 场效应迁移率 栅氧击穿场强 阈值电压漂移
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源区浅结SOI MOSFET的辐照效应模拟 被引量:9
9
作者 赵洪辰 海潮和 +1 位作者 韩郑生 钱鹤 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期735-740,共6页
研究了源区浅结的不对称SOIMOSFET对浮体效应的改善 ,模拟了总剂量、抗单粒子事件 (SEU)、瞬时辐照效应以及源区深度对抗辐照性能的影响 .这种结构器件的背沟道抗总剂量能力比传统器件有显著提高 ,并且随着源区深度的减小 ,抗总剂量辐... 研究了源区浅结的不对称SOIMOSFET对浮体效应的改善 ,模拟了总剂量、抗单粒子事件 (SEU)、瞬时辐照效应以及源区深度对抗辐照性能的影响 .这种结构器件的背沟道抗总剂量能力比传统器件有显著提高 ,并且随着源区深度的减小 ,抗总剂量辐照的能力不断加强 .体接触不对称结构的抗SEU和瞬时辐照能力优于无体接触结构和传统结构器件 。 展开更多
关键词 源区浅结 不对称soi mosfet 辐照效应
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短沟道SOI MOSFET总剂量辐照效应模型 被引量:2
10
作者 万新恒 甘学温 +2 位作者 张兴 黄如 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1154-1159,共6页
报道了一个含总剂量辐照效应的 SOI MOSFET统一模型 .该模型能自动计入体耗尽条件 ,不需要分类考虑不同膜厚时的情况 .模型计算结果与实验吻合较好 .该模型物理意义明确 ,参数提取方便 ,适合于抗辐照 SOI器件与电路的模拟 .
关键词 soi mosfet 总剂量辐照效应模型 场效应晶体管
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SOI MOSFETI-V特性的计算机模拟 被引量:2
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作者 王煜 张鹏飞 +2 位作者 侯东彦 钱佩信 罗台秦 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期30-34,共5页
本文研究了SOIMOSFET的I-V特性,建立了一套模拟SOI器件工作特性的解析模型,适用于不同的SOI膜厚和各种前、背栅的偏置情况,在各种不同情况下由计算机自动选择适当模型进行拟合,该模型物理意义明确,计算简便快速... 本文研究了SOIMOSFET的I-V特性,建立了一套模拟SOI器件工作特性的解析模型,适用于不同的SOI膜厚和各种前、背栅的偏置情况,在各种不同情况下由计算机自动选择适当模型进行拟合,该模型物理意义明确,计算简便快速,所用参数易于提取。 展开更多
关键词 计算机模拟 soi/MOS器件 I-V特性 场效应晶体管
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异质栅非对称Halo SOI MOSFET亚阈值电流模型 被引量:2
12
作者 栾苏珍 刘红侠 +1 位作者 贾仁需 王瑾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期746-750,共5页
在沟道源端一侧引入高掺杂Halo结构的异质栅SOI MOSFET,可以有效降低亚阈值电流.通过求解二维泊松方程,为该器件建立了亚阈值条件下的表面势模型.利用常规漂移-扩散理论,在表面势模型的基础上,推导出新结构器件的亚阈值电流模型.为了求... 在沟道源端一侧引入高掺杂Halo结构的异质栅SOI MOSFET,可以有效降低亚阈值电流.通过求解二维泊松方程,为该器件建立了亚阈值条件下的表面势模型.利用常规漂移-扩散理论,在表面势模型的基础上,推导出新结构器件的亚阈值电流模型.为了求解简单,文中给出了一种分段近似方法,从而得到表面势的解析表达式.结果表明,所得到的表面势解析表达式和确切解的结果高度吻合.二维器件数值模拟器ISE验证了通过表面势解析表达式得到的亚阈值电流模型,在亚阈值区二者所得结果吻合得很好. 展开更多
关键词 异质栅 soi mosfet 亚阈值电流 二维解析模型
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全耗尽SOI MOSFET的阈电压的解析模型 被引量:2
13
作者 付军 田立林 +1 位作者 钱佩信 罗台秦 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第5期48-52,共5页
本文在近似求解全耗尽SOIMOSFET所满足的二维泊松方程的基础上,建立了阈电压的解析模型。通过与PISCES的模拟结果以及相应的实验数据的比较,证明本模型的误差较小。此外,本模型还具有计算简便、快速,形式直观,物理... 本文在近似求解全耗尽SOIMOSFET所满足的二维泊松方程的基础上,建立了阈电压的解析模型。通过与PISCES的模拟结果以及相应的实验数据的比较,证明本模型的误差较小。此外,本模型还具有计算简便、快速,形式直观,物理意义明确等优点。本模型的建立对于全耗尽SOIMOSFET电路模拟、器件物理特性研究及相关的工艺设计是很有意义的。 展开更多
关键词 全耗尽 soi mosfet 阈电压 场效应器件
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SOIMOSFET因辐照引起的部分耗尽与全耗尽过渡区的漂移 被引量:1
14
作者 万新恒 张兴 +2 位作者 黄如 甘学温 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期358-361,共4页
首次报道了辐照所引起的 SOI/ MOS器件 PD (部分耗尽 )与 FD (全耗尽 )过渡区的漂移 .基于含总剂量辐照效应的 SOI MOSFET统一模型 ,模拟了 FD与 PD过渡区随辐照剂量的漂移 .讨论了辐照引起 FD与 PD器件转化的原因 ,进一步分析了 FD与
关键词 soi mosfet 辐照特性 过渡区 漂移 长效应晶体管
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适用于数模混合集成的SOI MOSFET的失真分析 被引量:1
15
作者 张国艳 廖怀林 +3 位作者 黄如 Mansun CHAN 张兴 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期232-235,共4页
本文较为详细地分析了SOIMOSFET的失真行为 .利用幂级数方法对不同结构包括部分耗尽PD、全耗尽FD和体接触BC的SOI器件的谐波失真进行了对比性的实验研究 .同时 ,在实验分析的基础上提出了描述失真行为的连续的SOIMOSFET失真模型 .该模... 本文较为详细地分析了SOIMOSFET的失真行为 .利用幂级数方法对不同结构包括部分耗尽PD、全耗尽FD和体接触BC的SOI器件的谐波失真进行了对比性的实验研究 .同时 ,在实验分析的基础上提出了描述失真行为的连续的SOIMOSFET失真模型 .该模型通过引入平滑函数和主要的影响失真的物理机制 ,使得模拟计算结果能够与实验结果较好的吻合 .本文所得到的结果可用于低失真的数模混合电路的设计 ,并对低失真电路的优化提供指导方向 . 展开更多
关键词 场效应晶体管 数模混合集成 失真分析 soi mosfet
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一个适用于模拟电路的深亚微米SOIMOSFET器件模型 被引量:1
16
作者 廖怀林 张兴 +1 位作者 黄如 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期329-334,共6页
从数值解源端和饱和点的表面电势出发 ,考虑模拟电路对 SOI MOSFET模型的一些基本要求如电荷守恒、器件源漏本征对称、各个工作区间连续并且高阶可导以及全耗尽和部分耗尽两种工作模式的转变 ,构建了一个能够满足这些要求的精确的器件模... 从数值解源端和饱和点的表面电势出发 ,考虑模拟电路对 SOI MOSFET模型的一些基本要求如电荷守恒、器件源漏本征对称、各个工作区间连续并且高阶可导以及全耗尽和部分耗尽两种工作模式的转变 ,构建了一个能够满足这些要求的精确的器件模型 .同时包含了深亚微米 SOI MOSFET的一些二级效应如漏极诱生势垒降低效应 (DIBL )、速度饱和效应、自热效应等 .这个模型的参数相对较少并且精确连续 。 展开更多
关键词 深亚微米器件 模拟电路 soi mosfet 模型
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短沟道SOI MOSFET栅结构研究与进展 被引量:1
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作者 曹寒梅 杨银堂 +1 位作者 朱樟明 刘莉 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期180-184,共5页
 系统比较了几种不同栅结构短沟道SOIMOSFET的性能,包括短沟道效应、电流驱动能力、器件尺寸等特性,获得了栅的数目与短沟道SOI器件的性能成正比的结论。介绍了两种新的短沟道SOI器件栅结构:Π栅和Ω栅,指出了短沟道SOIMOSFET栅结构的...  系统比较了几种不同栅结构短沟道SOIMOSFET的性能,包括短沟道效应、电流驱动能力、器件尺寸等特性,获得了栅的数目与短沟道SOI器件的性能成正比的结论。介绍了两种新的短沟道SOI器件栅结构:Π栅和Ω栅,指出了短沟道SOIMOSFET栅结构的发展方向。 展开更多
关键词 短沟道mosfet soi 栅结构 半导体器件
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高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET漏致势垒降低效应研究 被引量:2
18
作者 许立军 张鹤鸣 杨晋勇 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期753-758,共6页
高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET结合了应变硅工程、高k栅介质、SOI结构和肖特基源漏四者的优点,是一种实现小尺寸MOSFET的潜力器件.通过求解二维泊松方程建立了该结构的阈值电压模型,模型中考虑了镜像力势垒和小尺寸量子化效应对... 高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET结合了应变硅工程、高k栅介质、SOI结构和肖特基源漏四者的优点,是一种实现小尺寸MOSFET的潜力器件.通过求解二维泊松方程建立了该结构的阈值电压模型,模型中考虑了镜像力势垒和小尺寸量子化效应对源漏极的电子本征肖特基势垒高度的影响,在阈值电压模型基础上获得了漏致势垒降低模型.从文献中提取漏致势垒降低的实验数据与模型进行对比,验证了其正确性,随后在此基础上讨论分析了漏致势垒降低和各项参数的变化关系.结果表明,漏致势垒降低随应变硅层厚度的变厚、沟道掺杂浓度的提高和锗组分的增大而增大,随沟道长度的变长、栅介质介电常数的增大、电子本征肖特基势垒高度的提高和漏源电压的增大而减小.适当调节模型参数,该结构可很好的抑制漏致势垒降低效应,对高k栅介质SOI应变硅肖特基源漏MOSFET器件以及电路设计具有一定的参考价值. 展开更多
关键词 mosfet 漏致势垒降低 应变硅 高K栅介质 soi 肖特基
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超深亚微米SOI NMOSFET中子辐照效应数值模拟 被引量:5
19
作者 胡志良 贺朝会 +1 位作者 张国和 郭达禧 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期456-460,共5页
考虑3种特征尺寸的超深亚微米SOI NMOSFET的中子辐照效应。分析了中子位移辐照损伤机理,数值模拟了3种器件输出特性曲线随能量为1MeV的等效中子在不同辐照注量下的变化关系及中子辐照环境下器件工艺参数对超深亚微米SOI NMOSFET的影响... 考虑3种特征尺寸的超深亚微米SOI NMOSFET的中子辐照效应。分析了中子位移辐照损伤机理,数值模拟了3种器件输出特性曲线随能量为1MeV的等效中子在不同辐照注量下的变化关系及中子辐照环境下器件工艺参数对超深亚微米SOI NMOSFET的影响。数值模拟部分结果与反应堆中子辐照实验结果一致。 展开更多
关键词 中子辐照 超深亚微米 soi Nmosfet 数值模拟
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SOI NMOSFET单粒子效应的3-D模拟 被引量:6
20
作者 赵发展 郭天雷 +1 位作者 海潮和 彭菲 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期159-162,205,共5页
随着SOI器件尺寸不断缩小,单粒子效应敏感区域相对有源区比例增加,对于其敏感区域的机理研究显得越来越重要。本文利用软件对SOI MOSFET的敏感区域进行了3-D空间模拟,阐述了敏感区域的机理:截止NMOSFET的反偏漏结迫使单粒子轰击产生的... 随着SOI器件尺寸不断缩小,单粒子效应敏感区域相对有源区比例增加,对于其敏感区域的机理研究显得越来越重要。本文利用软件对SOI MOSFET的敏感区域进行了3-D空间模拟,阐述了敏感区域的机理:截止NMOSFET的反偏漏结迫使单粒子轰击产生的电子空穴对分离,漏极迅速收集电子产生瞬时电流,空穴向体区漂移并在体区堆积,使体电势升高导致寄生三极管开启产生较长时间的放大电流。良好的体接触能够快速抽走堆积的空穴,抑制体电位的升高,降低漏极收集电流。 展开更多
关键词 单粒子效应 soi SRAM 加固
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