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晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池 被引量:1
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作者 蒋卓宇 李娟 +2 位作者 孔祥力 代盼 孙强健 《半导体技术》 北大核心 2025年第4期365-371,共7页
为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起... 为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起,制备了晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池。测试结果显示,通过晶圆键合技术制备的双结太阳电池具有较低的电损耗,在聚光下获得了超过31.7%的光电转换效率。双结太阳电池的晶圆键合技术改善了常规直接材料生长方法因晶格失配造成的位错问题,可以更灵活地实现双结太阳电池的优化设计。 展开更多
关键词 分子束外延(MBE) ingaas GAAS 晶圆键合 双结太阳电池
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基于线阵InGaAs相机的亮环境下光伏电池板缺陷检测方法
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作者 徐晗 钱芸生 +2 位作者 张益军 郎怡政 黄益东 《应用光学》 北大核心 2025年第1期156-162,共7页
亮环境下太阳光容易淹没光伏电池板光致发光(photoluminescence,PL)现象的缺陷信息,使检测设备无法直接感知缺陷。针对此问题,提出了一种基于时域误差的检测方法,能够有效降低亮环境下太阳光的干扰。该方法利用快速PWM(pulse width modu... 亮环境下太阳光容易淹没光伏电池板光致发光(photoluminescence,PL)现象的缺陷信息,使检测设备无法直接感知缺陷。针对此问题,提出了一种基于时域误差的检测方法,能够有效降低亮环境下太阳光的干扰。该方法利用快速PWM(pulse width modulation)斩波恒流电源输出高频调制电流信号,驱动850 nm光源输出调制光激励光伏电池板,使用短波红外线阵InGaAs相机捕捉具有调制特性的图像序列,经现场可编程门阵列(field programmable gate array,FPGA)从图像序列中提取光伏电池板的缺陷信息。实验结果表明,该方法能够在2.9 lx~(12580±5)lx的照度范围内有效地检测缺陷图案信息,实现亮环境下光伏电池板的连续性缺陷检测。 展开更多
关键词 光致发光 线阵ingaas相机 亮环境 缺陷检测
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基于XRD和PL光谱分析的InGaAs/GaAs量子阱生长温度依赖性研究
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作者 李博 马淑芳 +9 位作者 阳智 程睿思 刘思敏 王嘉惠 郝晓东 尚林 仇伯仓 董海亮 韩丹 许并社 《光谱学与光谱分析》 北大核心 2025年第6期1584-1591,共8页
InGaAs/GaAs多量子阱(MQWs)结构因其具有独特的量子限制效应和优异的光电性能,使其作为激光器的有源区在光通信和光电器件中具有广泛应用。在该结构中通过改变In组分来调控带隙宽度进而满足不同波长的需求,分子束外延(MBE)生长MQWs时可... InGaAs/GaAs多量子阱(MQWs)结构因其具有独特的量子限制效应和优异的光电性能,使其作为激光器的有源区在光通信和光电器件中具有广泛应用。在该结构中通过改变In组分来调控带隙宽度进而满足不同波长的需求,分子束外延(MBE)生长MQWs时可以高精度的控制材料的组分和厚度,从而优化光学性能。尽管InGaAs/GaAs MQWs在许多方面取得了进展,但在In组分较高的InGaAs量子阱中,由于晶格失配会导致位错产生,进而引发界面缺陷,影响材料的晶体质量和光学性能,所以通过MBE生长调控来提高晶体质量对改善光学性质极具意义。在MBE生长过程中,利用生长温度来优化生长动力学,进而调控原子在界面的迁移,尤其是In、Ga原子的迁移,对于提高InGaAs/GaAs MQWs的界面质量和晶体质量有着至关重要的作用。为了探究生长温度对MQWs晶体质量、界面质量和发光性能的影响,我们采用MBE方法分别在505和490℃下生长了两组InGaAs/GaAs MQWs样品,并使用高分辨率X射线衍射(HRXRD)、光致发光(PL)进行了晶体质量和光学性能表征分析。HRXRD结果表明,由于高温下生长有利于提高Ⅲ族原子动力学和原子扩散长度,使得生长工艺中In和Ga原子的迁移增加,这有利于原子在外延层表面找到能量较低的位置形核;因此,在505℃生长的MQWs样品的缺陷密度为1.02×10^(5) cm^(-2),较小,缺陷少应力小,具有较好的晶体质量和界面质量。此外,光致发光性能测试分析结果表明,在505℃生长的MQWs样品发光强度高,发光均匀性良好,并进一步证明其晶体质量优于490℃生长的样品。说明了合适的生长温度有利于提高InGaAs/GaAs MQWs的界面质量和光学性能。该工艺参数对MBE制备MQWs材料具有重要的参考意义。 展开更多
关键词 ingaas/GaAs多量子阱 MBE生长 高分辨率X射线衍射谱 光致发光谱
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InGaAs焦平面探测器可见光波长拓展技术
4
作者 张圆圆 张夏琦 +4 位作者 任江 陈扬 张金龙 姚彬彬 刘琨 《电子工业专用设备》 2025年第5期46-48,58,共4页
研究了“减薄/腐蚀”厚度比例分配、腐蚀液优化、读出电路金属PAD保护、减反膜设计制备等技术,获得表面光亮、最终厚度3~6μm、对0.4~1.7μm光谱范围内可见光和短波红外光同时响应的焦平面探测器。器件性能测试结果表明,可实现0.4~1.7μ... 研究了“减薄/腐蚀”厚度比例分配、腐蚀液优化、读出电路金属PAD保护、减反膜设计制备等技术,获得表面光亮、最终厚度3~6μm、对0.4~1.7μm光谱范围内可见光和短波红外光同时响应的焦平面探测器。器件性能测试结果表明,可实现0.4~1.7μm波长的响应。 展开更多
关键词 ingaas焦平面 衬底移除 可见光波长
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High-Mobility InGaAs HEMT Epitaxially Grown on Silicon
5
作者 Qiao-Chu Li Dong Han +3 位作者 Jie-Yin Zhang Zi-Hao Wang Ting Wang Jian-Jun Zhang 《Chinese Physics Letters》 2025年第12期375-380,共6页
The direct growth of InGaAs high-electron-mobility transistors(HEMTs)on silicon facilitates their low-cost production on large-scale wafers.On a U-shaped patterned Si(001)substrate,we have achieved a high-quality In_(... The direct growth of InGaAs high-electron-mobility transistors(HEMTs)on silicon facilitates their low-cost production on large-scale wafers.On a U-shaped patterned Si(001)substrate,we have achieved a high-quality In_(0.36)Ga_(0.64)As film with a threading dislocation density of∼7×10^(6)cm^(−2).The fabricated HEMT devices exhibit outstanding electrical characteristics,including a high Hall mobility of 4732 cm^(2)/V·s and an effective mobility of 3305 cm^(2)/V・s at room temperature.Through precise gate-recess processing and surface passivation,both depletion-mode and enhancement-mode devices were realized with transconductances reaching 500mS/mm for a channel length of 100 nm.These results indicate their significant potential for the development of next-generation high-speed Ⅲ-Ⅴ electronic devices on silicon platforms that are compatible with CMOS technology. 展开更多
关键词 ingaas SILICON HEMT high mobility threading dislocation density epitaxially grown direct growth
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不同光敏元尺寸对InGaAs探测器光电流的影响
6
作者 黄郑东 《应用物理》 2025年第5期405-412,共8页
InGaAs光电探测器因其优异的短波红外响应特性、低暗电流和高响应度,在红外成像、激光通信和光谱检测等领域具有广泛应用。光敏元作为探测器的核心结构,其面积大小不仅影响光通量的吸收效率,还关系到器件的空间分辨率和光电性能。然而,... InGaAs光电探测器因其优异的短波红外响应特性、低暗电流和高响应度,在红外成像、激光通信和光谱检测等领域具有广泛应用。光敏元作为探测器的核心结构,其面积大小不仅影响光通量的吸收效率,还关系到器件的空间分辨率和光电性能。然而,光敏元面积对光电流特性的具体影响规律仍需系统实验验证。为此,本文设计并制备了光敏元面积从30 × 30 μm2至500 × 500 μm2的InGaAs探测器样品,测试并分析了其在暗态和光照条件下的电流–电压(I-V)特性。结果表明,随着光敏面积的增加,光电流呈明显增强趋势,且I-V曲线形状保持一致,反映出材料制程的一致性。在暗态下,暗电流随光敏元面积的增大而增大,但单位面积暗电流密度基本稳定,说明其主要来源为体电流。在光照条件下,不同面积器件的光电流接近线性增长,验证了光敏面积对光响应能力的直接影响。研究结果为InGaAs光电探测器在高分辨率与多像元集成应用中的结构设计提供了重要参考。This InGaAs photodetector, with its excellent short-wavelength infrared response, low dark current, and high responsivity, has been widely applied in infrared imaging, laser communication, and spectral detection. As the core structure of the detector, the area of the photosensitive element not only affects the efficiency of light flux absorption but also relates closely to the spatial resolution and photoelectric performance of the device. However, the specific influence of the photosensitive area on photocurrent characteristics still requires systematic experimental verification. To this end, this study designs and fabricates InGaAs detector samples with photosensitive areas ranging from 30 × 30 μm2 to 500 × 500 μm2, and investigates their current-voltage (I-V) characteristics under both dark and illuminated conditions. The results show that as the photosensitive area increases, the photocurrent exhibits a significant rising trend, while the overall I-V curve shape remains consistent, reflecting the uniformity of the material fabrication process. Under dark conditions, the dark current increases with the photosensitive area, but the dark current density per unit area remains nearly constant, indicating that the primary source is bulk current. Under illumination, the photocurrent of devices with different areas increases nearly linearly, confirming the direct impact of the photosensitive area on light response capability. These findings provide valuable reference for structural design in high-resolution and multi-pixel integrated applications of InGaAs photodetectors. 展开更多
关键词 ingaas光电探测器 光敏元 光电流 电流–电压特性
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低温InGaAs/InAlAs多量子阱的分子束外延生长与表征 被引量:1
7
作者 万文坚 尹嵘 +3 位作者 韩英军 王丰 郭旭光 曹俊诚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1523-1526,共4页
采用气源分子束外延(GSMBE)生长了低温InGaAs材料,研究了生长温度及As压对InGaAs材料性质的影响,得到优化的生长条件为:生长温度为300℃、As压为77.3kPa。通过Be掺杂,并采用In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As多量子阱结构,将材料的方块电... 采用气源分子束外延(GSMBE)生长了低温InGaAs材料,研究了生长温度及As压对InGaAs材料性质的影响,得到优化的生长条件为:生长温度为300℃、As压为77.3kPa。通过Be掺杂,并采用In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As多量子阱结构,将材料的方块电阻提高到1.632×106Ω/Sq,载流子数密度降低至1.058×1014 cm-3。X射线衍射结果表明:InGaAs多量子阱材料具有较高的晶体质量。这种Be掺杂InGaAs多量子阱材料缺陷密度大且电阻率高,是制作太赫兹光电导天线较理想的基质材料。 展开更多
关键词 低温ingaas ingaas INALAS 多量子阱 分子束外延
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HCl/HF/CrO_3溶液对InGaAs/InGaAsP的选择性湿法刻蚀——应用于楔形结构的制备 被引量:1
8
作者 黄辉 王兴妍 +4 位作者 任晓敏 王琦 黄永清 高俊华 马晓宇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1469-1474,共6页
利用动态掩膜湿法腐蚀技术,研究了HCl/HF/CrO3溶液对与InP衬底晶格匹配的InxGa1-xAs1-yPy(y=0,0.2,0.4,0.6)材料的腐蚀特性.对于HCl(36wt%)/HF(40wt%)/CrO3(10wt%)的体积比为x∶0.5∶1的溶液,随着x由0增加到1.25,相应的腐蚀液对In0.53Ga... 利用动态掩膜湿法腐蚀技术,研究了HCl/HF/CrO3溶液对与InP衬底晶格匹配的InxGa1-xAs1-yPy(y=0,0.2,0.4,0.6)材料的腐蚀特性.对于HCl(36wt%)/HF(40wt%)/CrO3(10wt%)的体积比为x∶0.5∶1的溶液,随着x由0增加到1.25,相应的腐蚀液对In0.53Ga0.47As/In0.72Ga0.28As0.6P0.4的选择性由42.4降到1.4;通过调节腐蚀液的选择性,在In0.72Ga0.28As0.6P0.4外延层上制备出了倾角从1.35°到35.9°的各种楔形结构;当x为0.025和1.25时,相应的In0.72Ga0.28As0.6P0.4腐蚀表面的均方根粗糙度分别为1.1nm和1.6nm.还研究了溶液的组分与InxGa1-xAs1-yPy(y=0,0.2,0.4)的腐蚀速率间的关系,并对腐蚀机理进行了分析. 展开更多
关键词 半导体器件 制造工艺 楔形结构 动态掩膜湿法腐蚀技术 刻蚀 选择性湿法 HCl/HF/CrO3溶液 ingaasP ingaas
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InGaAs纳电子学的进展 被引量:1
9
作者 赵正平 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第4期209-219,226,共12页
InGaAs HEMT器件和纳米加工技术的结合推动了InGaAs纳电子学的发展,在太赫兹和后CMOS逻辑电路两大领域产生重要影响。综述了InGaAs纳电子学近10年在两大领域的发展路径和最新进展。在太赫兹领域,InGaAs纳电子学以InGaAs HEMT发展为主,... InGaAs HEMT器件和纳米加工技术的结合推动了InGaAs纳电子学的发展,在太赫兹和后CMOS逻辑电路两大领域产生重要影响。综述了InGaAs纳电子学近10年在两大领域的发展路径和最新进展。在太赫兹领域,InGaAs纳电子学以InGaAs HEMT发展为主,沿着提高沟道In组分、缩小T型栅长、减少势垒层厚度和寄生电阻的技术路线发展。InGaAs太赫兹单片集成电路(TMIC)的工作频率达到1 THz,成为目前工作频率最高的晶体管。在后CMOS逻辑电路领域,InGaAs纳电子学以InGaAs MOSFET发展为主,沿着提高复合量子阱沟道中的In组分、缩小平面器件结构中的栅长、缩小立体器件结构中的鳍宽、减少埋栅结构中复合高k介质栅厚度、减少寄生电阻和在大尺寸Si晶圆上与Ge MOSFET共集成的技术路线发展。鳍宽为30 nm的InGaAs FinFET的亚阈值斜率(SS)为82 mV/dec,漏感生势垒降低(DIBL)为10 mV/V,最大跨导(g_(m,max))为1.8 mS/μm,导通电流(I_(ON))为0.41 mA/μm,关断电流(I_(OFF))为0.1μA/μm,其性能优于同尺寸的Si FinFET,具有成为后CMOS的7 nm节点后替代NMOSFET器件的潜力。 展开更多
关键词 纳电子学 ingaas INAS InP高电子迁移率晶体管(HEMT) GaAs变构高电子迁移率晶体管(MHEMT) ingaas金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET) 太赫兹 后互补金属氧化物半导体(CMOS)
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短波红外InGaAs焦平面探测器研究进展 被引量:27
10
作者 李雪 邵秀梅 +8 位作者 李淘 程吉凤 黄张成 黄松垒 杨波 顾溢 马英杰 龚海梅 方家熊 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2020年第1期56-63,共8页
短波红外InGaAs焦平面探测器具有探测率高、均匀性好等优点,在航天遥感、微光夜视、医疗诊断等领域具有广泛应用。近十年来,中国科学院上海技术物理研究所围绕高灵敏度常规波长(0.9~1.7μm)InGaAs焦平面、延伸波长(1.0~2.5μm)InGaAs焦... 短波红外InGaAs焦平面探测器具有探测率高、均匀性好等优点,在航天遥感、微光夜视、医疗诊断等领域具有广泛应用。近十年来,中国科学院上海技术物理研究所围绕高灵敏度常规波长(0.9~1.7μm)InGaAs焦平面、延伸波长(1.0~2.5μm)InGaAs焦平面以及新型多功能InGaAs探测器取得了良好进展。在常规波长InGaAs焦平面方面,从256×1、512×1元等线列向320×256、640×512、4000×128、1280×10^24元等多种规格面阵方面发展,室温暗电流密度优于5 n A/cm2,室温峰值探测率优于5×10^12cm·Hz1/2/W。在延伸波长InGaAs探测器方面,发展了高光谱高帧频10^24×256、10^24×512元焦平面,暗电流密度优于10 n A/cm^2和峰值探测率优于5×10^11cm·Hz1/2/W@200 K。在新型多功能InGaAs探测器方面,发展了一种可见近红外响应的InGaAs探测器,通过具有阻挡层结构的新型外延材料和片上集成微纳陷光结构,实现0.4~1.7μm宽谱段响应,研制的320×256、640×512焦平面组件的量子效率达到40%@0.5 m、80%@0.8 m、90%@1.55 m;发展了片上集成亚波长金属光栅的InGaAs偏振探测器,其在0°、45°、90°、135°的消光比优于20:1。 展开更多
关键词 ingaas 焦平面 短波红外 暗电流 探测率
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32×32面阵InGaAs Gm-APD激光主动成像实验 被引量:27
11
作者 孙剑峰 姜鹏 +4 位作者 张秀川 周鑫 付宏明 高新江 王骐 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第12期82-86,共5页
近十年来,由于盖革模式APD焦平面探测器在探测灵敏度、空间分辨率和距离分辨率等方面的优势,使得面阵APD激光主动成像技术成为国际上的研究热点。考虑到大气传输特性,InGaAs材料或者HgCdTe材料的面阵APD探测器成为研制首选。在国内自研I... 近十年来,由于盖革模式APD焦平面探测器在探测灵敏度、空间分辨率和距离分辨率等方面的优势,使得面阵APD激光主动成像技术成为国际上的研究热点。考虑到大气传输特性,InGaAs材料或者HgCdTe材料的面阵APD探测器成为研制首选。在国内自研InGaAs材料的32×32像元Gm-APD基础上,搭建了一套1570nm激光主动成像实验平台,在成像帧频1kHz、单脉冲能量2mJ条件下,获得了外场3.9km目标的轮廓像,在720m处能获得目标的清晰表面结构距离像。通过该外场实验,证实了国内自研的面阵Gm-APD探测器性能良好,能够演示外场激光主动成像功能。实验结果表明,1570nm面阵APD激光成像雷达成像性能良好,能够实现远距离目标遥感探测,为未来实际应用奠定了良好的研究基础。 展开更多
关键词 激光成像雷达 面阵Gm-APD ingaas
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高性能短波红外InGaAs焦平面探测器研究进展 被引量:25
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作者 邵秀梅 龚海梅 +5 位作者 李雪 方家熊 唐恒敬 李淘 黄松垒 黄张成 《红外技术》 CSCD 北大核心 2016年第8期629-635,共7页
中科院上海技物所近十年来开展了高性能短波红外InGaAs焦平面探测器的研究。0.9~1.7mm近红外In Ga As焦平面探测器已实现了256×1、512×1、1024×1等多种线列规格,以及320×256、640×512、4000×128等面阵,... 中科院上海技物所近十年来开展了高性能短波红外InGaAs焦平面探测器的研究。0.9~1.7mm近红外In Ga As焦平面探测器已实现了256×1、512×1、1024×1等多种线列规格,以及320×256、640×512、4000×128等面阵,室温暗电流密度<5 n A/cm^2,室温峰值探测率优于5×10^(12)cm×Hz^(1/2)/W。同时,开展了向可见波段拓展的320×256焦平面探测器研究,光谱范围0.5~1.7mm,在0.8mm的量子效率约20%,在1.0mm的量子效率约45%。针对高光谱应用需求,上海技物所开展了1.0~2.5mm短波红外InGaAs探测器研究,暗电流密度小于10 n A/cm^2@200 K,形成了512×256、1024×128等多规格探测器,峰值量子效率高于75%,峰值探测率优于5×10^(11)cm×Hz^(1/2)/W。 展开更多
关键词 ingaas 焦平面 短波红外 暗电流 探测率
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128×1线列InGaAs短波红外焦平面的研究 被引量:14
13
作者 吕衍秋 徐运华 +6 位作者 韩冰 孔令才 亢勇 庄春泉 吴小利 张永刚 龚海梅 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期333-337,共5页
报道了用分子束外延(MBE)方法生长的掺杂InGaAs吸收层PIN InP/InGaAs/InP双异质结外延材料,通过干法刻蚀和湿法腐蚀相结合制作台面、硫化和聚酰亚胺钝化、电极生长等工艺,制备了128×1台面正照射InGaAs探测器阵列.测试了器件的变温... 报道了用分子束外延(MBE)方法生长的掺杂InGaAs吸收层PIN InP/InGaAs/InP双异质结外延材料,通过干法刻蚀和湿法腐蚀相结合制作台面、硫化和聚酰亚胺钝化、电极生长等工艺,制备了128×1台面正照射InGaAs探测器阵列.测试了器件的变温I-V、响应光谱和探测率,在278K时平均峰值探测率为1.03×1012cmHz1/2W-1.实现了128元InGaAs探测器阵列与CTIA结构L128读出电路相互连,经封装后,在室温(291K)时成功测出128元响应信号.焦平面响应的不均匀性为18.3%,并对不均匀性产生的原因进行了分析. 展开更多
关键词 探测器 焦平面 ingaas 钝化
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InGaAs近红外线列焦面阵的研制进展 被引量:17
14
作者 龚海梅 张可锋 +5 位作者 唐恒敬 李雪 张永刚 缪国庆 宋航 方家熊 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2009年第1期14-18,共5页
研制出光谱响应为0.9~1.7μm的256×1、512×1元InGaAs线列焦平面组件,和光谱响应延展至2.4μm的256×1元InGaAs线列焦平面组件。焦平面组件包括光敏芯片、读出电路、热电制冷器以及管壳封装。光敏芯片在InP/InGaAs/InP(p-... 研制出光谱响应为0.9~1.7μm的256×1、512×1元InGaAs线列焦平面组件,和光谱响应延展至2.4μm的256×1元InGaAs线列焦平面组件。焦平面组件包括光敏芯片、读出电路、热电制冷器以及管壳封装。光敏芯片在InP/InGaAs/InP(p-i-n)双异质结外延材料上采用台面结构实现,并与128×1或512×1元CTIA结构的读出电路耦合。焦平面器件置于双列直插金属管壳中,采用平行缝焊的方式进行封装。介绍了高均匀性长线列InGaAs焦平面组件的关键技术和主要性能结果,为更长线列焦平面组件的研制提供了坚实的基础。 展开更多
关键词 短波近红外 ingaas 焦平面组件 读出电路
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基于线阵InGaAs光电二极管阵列的光纤光栅传感解调 被引量:19
15
作者 李国玉 刘波 +4 位作者 郭团 张键 袁树忠 开桂云 董孝义 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期1591-1594,共4页
采用线阵InGaAs光电二极管阵列和体相位光栅并结合空分复用和波分复用技术,对光纤光栅传感进行解调.设计了基于线阵InGaAs光电二极管阵列和体相位光栅的光纤光栅传感解调系统,通过系统测试和性能分析,该解调系统解调带宽42 nm,信噪比30 ... 采用线阵InGaAs光电二极管阵列和体相位光栅并结合空分复用和波分复用技术,对光纤光栅传感进行解调.设计了基于线阵InGaAs光电二极管阵列和体相位光栅的光纤光栅传感解调系统,通过系统测试和性能分析,该解调系统解调带宽42 nm,信噪比30 dB,波长偏移测量精确度±15 pm,功率测量精确度为±0 .3 dB.基于线阵InGaAs光电二极管阵列和体相位光栅的光纤光栅解调系统不但尺寸小,功耗低,而且具有较高的解调速度. 展开更多
关键词 光纤光栅传感 ingaas光电二极管阵列 解调系统
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短波红外InGaAs/InP光伏探测器系列的研制 被引量:13
16
作者 张永刚 顾溢 +3 位作者 朱诚 郝国强 李爱珍 刘天东 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期6-9,共4页
采用气态源分子束外延方法及应用有源区同质结构及较薄的组分渐变InxGa1-xAs缓冲层,研制了波长扩展的InGaAs/InP光伏探测器系列,其室温下的截止波长分别约为1.9μm,2.2μm.和2.5μm.对此探测器系列在较宽温度范围内的性能进行了细致表征... 采用气态源分子束外延方法及应用有源区同质结构及较薄的组分渐变InxGa1-xAs缓冲层,研制了波长扩展的InGaAs/InP光伏探测器系列,其室温下的截止波长分别约为1.9μm,2.2μm.和2.5μm.对此探测器系列在较宽温度范围内的性能进行了细致表征,结果表明在室温下其R0A乘积分别为765,10.3和12.7Ωcm2,比室温降低100K时其暗电流和R0A可改善约3个量级.瞬态特性测量表明此探测器系列适合高速工作,实测响应速度已达数十ps量级. 展开更多
关键词 光伏探测器 短波红外 ingaas 气态源分子束外延
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InGaAs/GaAs异质薄膜的MBE生长研究 被引量:11
17
作者 罗子江 周勋 +4 位作者 杨再荣 贺业全 何浩 邓朝勇 丁召 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期846-849,共4页
利用分子束外延技术,在GaAs(001)基片上外延InGaAs/GaAs异质薄膜,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,确定薄膜中In/Ga的组分比,并提出控制InGaAs薄膜中In/Ga组分比的生长方法。根据RHEED图像,... 利用分子束外延技术,在GaAs(001)基片上外延InGaAs/GaAs异质薄膜,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,确定薄膜中In/Ga的组分比,并提出控制InGaAs薄膜中In/Ga组分比的生长方法。根据RHEED图像,指出获得的InGaAs薄膜处于(2×3)表面重构相。样品经过淬火至室温后对样品做STM扫描分析,证实样品为表面原子级平整的InGaAs/GaAs异质薄膜。 展开更多
关键词 MBE RHEED STM ingaas异质薄膜
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InGaAs短波红外探测器研究进展 被引量:24
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作者 张卫锋 张若岚 +2 位作者 赵鲁生 胡锐 史衍丽 《红外技术》 CSCD 北大核心 2012年第6期361-365,共5页
InxGa1-xAs材料属于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体合金材料,随In组分含量的不同,其光谱响应的截止波长可在0.87~3.5μm范围内变化,并具有高量子效率,加之成熟的MBE和MOVCD材料生长方式,很容易获得大面积高质量的外延材料,InGaAs材料因此成为一... InxGa1-xAs材料属于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体合金材料,随In组分含量的不同,其光谱响应的截止波长可在0.87~3.5μm范围内变化,并具有高量子效率,加之成熟的MBE和MOVCD材料生长方式,很容易获得大面积高质量的外延材料,InGaAs材料因此成为一种重要的短波红外探测材料。InGaAs探测器可以在室温或近室温下工作,且具有较高的灵敏度和探测率,是小型化、低成本和高可靠性的短波红外探测系统的最佳选择,因此InGaAs短波红外探测器获得了飞速的发展和广泛的应用。同时对国内外InGaAs焦平面探测器发展状况和趋势进行了介绍。 展开更多
关键词 ingaas 短波红外 焦平面阵列 红外探测器
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InGaAs PIN光电探测器的暗电流特性研究 被引量:22
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作者 郝国强 张永刚 +1 位作者 刘天东 李爱珍 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期341-344,379,共5页
 从理论上分析了In0.53Ga0.47AsPIN光电探测器在不同掺杂浓度及反向偏压下的暗电流特性,并与研制的器件的实测结果进行了比较和讨论。模拟结果表明:在低偏压下,器件中的产生复合电流起主要作用,偏压增大时,隧道电流起主要作用,且In0.53...  从理论上分析了In0.53Ga0.47AsPIN光电探测器在不同掺杂浓度及反向偏压下的暗电流特性,并与研制的器件的实测结果进行了比较和讨论。模拟结果表明:在低偏压下,器件中的产生复合电流起主要作用,偏压增大时,隧道电流起主要作用,且In0.53Ga0.47As光吸收层的载流子浓度对器件的暗电流有很大的影响,实测器件特性与模拟结果完全符合。文中还对器件结面积和电极尺寸等对暗电流的影响进行了比较和分析。 展开更多
关键词 光电探测器 暗电流 ingaas 化合物半导体
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线阵InGaAs扫描FBG反射谱的传感解调方法 被引量:9
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作者 李红 祝连庆 +3 位作者 张钰民 刘锋 骆飞 黄强先 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第1期224-228,共5页
研究并实现了一种基于256像元线阵In Ga As扫描的光纤布拉格光栅传感解调系统。针对线阵In Ga As探测器,分析了光纤光栅反射谱中心波长定位原理,可实现多个FBG光谱的同时解调,单通道解调传感器数量取决于FBG的带宽和中心波长漂移范围。... 研究并实现了一种基于256像元线阵In Ga As扫描的光纤布拉格光栅传感解调系统。针对线阵In Ga As探测器,分析了光纤光栅反射谱中心波长定位原理,可实现多个FBG光谱的同时解调,单通道解调传感器数量取决于FBG的带宽和中心波长漂移范围。对256个像素点的光谱数据,通过设置的阈值判断反射谱的个数,分别对每一个谱峰进行拟合,基于高斯指数曲线模型实现了寻峰算法,获得了中心波长。搭建FBG解调系统采集光谱数据,寻峰算法的稳定性达到±0.5 pm。该解调方法无机械移动部件,实现了多光纤光栅波长寻峰的并行快速响应,波长解调范围为1 525~1 570 nm,为多光纤光栅传感提供了高速解调方案。 展开更多
关键词 光纤布拉格光栅解调 ingaas探测器 256像元 中心波长检测 高斯曲线
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