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太赫兹InP基InAlAs/InGaAs PHEMTs的研制(英文) 被引量:4
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作者 王志明 黄辉 +6 位作者 胡志富 赵卓彬 崔玉兴 孙希国 李亮 付兴昌 吕昕 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期135-139,共5页
研制了一种T型栅长为90 nm的InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.65)Ga_(0.35)As赝配高电子迁移率晶体管(PHEMTs).该器件的总栅宽为2×25μm,展现了极好的DC直流和RF射频特性,其最大饱和电流密度和最大有效跨导分别为894 m A/mm和1 64... 研制了一种T型栅长为90 nm的InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.65)Ga_(0.35)As赝配高电子迁移率晶体管(PHEMTs).该器件的总栅宽为2×25μm,展现了极好的DC直流和RF射频特性,其最大饱和电流密度和最大有效跨导分别为894 m A/mm和1 640 m S/mm.采用LRM+(Line-Reflect-Reflect-Match)校准方法实现系统在1~110 GHz全频段内一次性校准,减小了传统的分段测试多次校准带来的误差,且测试数据的连续性较好.在国内完成了器件的1~110 GHz全频段在片测试,基于1~110 GHz在片测试的S参数外推获得的截止频率ft和最大振荡频率f_(max)分别为252 GHz和394 GHz.与传统的测试到40 GHz外推相比,本文外推获得的f_(max)更加准确.这些结果的获得是由于栅长的缩短,寄生效应的减小以及1~110 GHz全频段在片测试的实现.器件的欧姆接触电阻率减小为0.035Ω·mm. 展开更多
关键词 磷化铟 赝配高电子迁移率晶体管 inalas/ingaas 在片测试 单片集成电路
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栅长90nm的晶格匹配InAlAs/InGaAs/InP HEMT 被引量:1
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作者 高喜庆 高建峰 +1 位作者 康耀辉 张政 《电子与封装》 2009年第7期34-36,共3页
文章报道了90nm栅长的晶格匹配InP基HEMT器件。栅图形是通过80kV的电子束直写的,并采用了优化的三层胶工艺。器件做在匹配的InAlAs/InGaAs/InPHEMT材料上。当Vds=1.0V时,两指75μm栅宽器件的本征峰值跨导达到720ms/mm,最大电流密度为500... 文章报道了90nm栅长的晶格匹配InP基HEMT器件。栅图形是通过80kV的电子束直写的,并采用了优化的三层胶工艺。器件做在匹配的InAlAs/InGaAs/InPHEMT材料上。当Vds=1.0V时,两指75μm栅宽器件的本征峰值跨导达到720ms/mm,最大电流密度为500mA/mm,器件的阈值电压为-0.8V,截止频率达到127GHz,最大振荡频率达到152GHz。 展开更多
关键词 截止频率 高电子迁移率晶体管 inalas/ingaas InP
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InAlAs/InGaAs复合限制层对InAs量子点发光性质的影响
3
作者 张子旸 金鹏 +5 位作者 曲胜春 李成明 孟宪权 徐波 叶小玲 王占国 《微纳电子技术》 CAS 2003年第2期14-16,共3页
系统研究了InAlAs/InGaAs复合限制层对InAs量子点光学性质的影响;发现InAs量子点的基态发光峰位、半高宽以及基态与第一激发态的能级间距都强烈地依赖于InAlAs薄层的厚度和In的组分;得到了室温发光波长在1.35μm,基态与第一激发态的能... 系统研究了InAlAs/InGaAs复合限制层对InAs量子点光学性质的影响;发现InAs量子点的基态发光峰位、半高宽以及基态与第一激发态的能级间距都强烈地依赖于InAlAs薄层的厚度和In的组分;得到了室温发光波长在1.35μm,基态与第一激发态的能级间距高达103 meV的InAs量子点的发光特性。这一结果对实现高T_0的长波长InAs量子点激光器的室温激射具有重要意义。 展开更多
关键词 量子点 光致发光 能级间距 inalas/ingaas复合限制层
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GaAs基InAlAs/InGaAsMHEMT直流特性研究 被引量:2
4
作者 李献杰 敖金平 +4 位作者 曾庆明 刘伟吉 徐晓春 刘式墉 梁春广 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期235-237,共3页
报道了用 MBE技术生长的 Ga As基 In Al As/In Ga As改变结构高电子迁移率晶体管 (MHEMT)的制作过程和器件的直流性能。对于栅长为 0 .8μm的器件 ,最大非本征跨导和饱和电流密度分别为 3 5 0 m S/mm和1 90 m A/mm。源漏击穿电压和栅反... 报道了用 MBE技术生长的 Ga As基 In Al As/In Ga As改变结构高电子迁移率晶体管 (MHEMT)的制作过程和器件的直流性能。对于栅长为 0 .8μm的器件 ,最大非本征跨导和饱和电流密度分别为 3 5 0 m S/mm和1 90 m A/mm。源漏击穿电压和栅反向击穿电压分别为 4V和 7.5 V。这些直流特性超过了相同的材料和工艺条件下 Ga As基 PHEMT的水平 ,与 In P基 In Al As/In Ga As 展开更多
关键词 MHEMT 直流特性 砷化镓 铟铝砷 铟镓砷 电子迁移率晶体管
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InAlAs/InGaAs/InP基PHEMTs小信号建模及低噪声应用(英文) 被引量:2
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作者 刘军 于伟华 +3 位作者 杨宋源 侯彦飞 崔大胜 吕昕 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期683-687,共5页
利用改进的小信号模型对采用100nmInAlAs/InGaAs/InP工艺设计实现的PHEMTs器件进行建模,并设计实现了一款W波段单片低噪声放大器进行信号模型的验证。为了进一步改善信号模型低频S参数拟合差的精度,该小信号模型考虑了栅源和栅漏二极管... 利用改进的小信号模型对采用100nmInAlAs/InGaAs/InP工艺设计实现的PHEMTs器件进行建模,并设计实现了一款W波段单片低噪声放大器进行信号模型的验证。为了进一步改善信号模型低频S参数拟合差的精度,该小信号模型考虑了栅源和栅漏二极管微分电阻,在等效电路拓扑中分别用Rfs和Rfd表示.为了验证模型的可行性,基于该信号模型研制了W波段低噪声放大器单片.在片测试结果表明:最大小信号增益为14.4dB@92.5GHz,3dB带宽为25GHz@85-110GHz.而且,该放大器也表现出了良好的噪声特性,在88GHz处噪声系数为4.1dB,相关增益为13.8dB.与同频段其他芯片相比,该放大器单片具有宽3dB带宽和高的单级增益. 展开更多
关键词 inalas/ingaas/InP 赝高电子迁移率晶体管(PHEMTs) 小信号模型 毫米波和亚毫米波 单片微波集成电路(MMIC) 低噪声放大器
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High-power InAlAs/InGaAs Schottky barrier photodiodes for analog microwave signal transmission 被引量:1
6
作者 K.S.Zhuravlev A.L.Chizh +6 位作者 K.B.Mikitchuk A.M.Gilinsky I.B.Chistokhin N.A.Valisheva D.V.Dmitriev A.I.Toropov M.S.Aksenov 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2022年第1期44-48,共5页
The design,manufacturing and DC and microwave characterization of high-power Schottky barrier In Al As/In Ga As back-illuminated mesa structure photodiodes are presented.The photodiodes with 10 and 15μm mesa diameter... The design,manufacturing and DC and microwave characterization of high-power Schottky barrier In Al As/In Ga As back-illuminated mesa structure photodiodes are presented.The photodiodes with 10 and 15μm mesa diameters operate at≥40 and 28 GHz,respectively,have the output RF power as high as 58 m W at a frequency of 20 GHz,the DC responsivity of up to 1.08 A/W depending on the absorbing layer thickness,and a photodiode dark current as low as 0.04 n A.We show that these photodiodes provide an advantage in the amplitude-to-phase conversion factor which makes them suitable for use in highspeed analog transmission lines with stringent requirements for phase noise. 展开更多
关键词 inalas/ingaas heterostructures microwave photodiodes microwave photonics
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Effects of proton irradiation at different incident angles on InAlAs/InGaAs InP-based HEMTs 被引量:1
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作者 孙树祥 魏志超 +6 位作者 夏鹏辉 王文斌 段智勇 李玉晓 钟英辉 丁芃 金智 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第2期625-629,共5页
InP-based high electron mobility transistors(HEMTs) will be affected by protons from different directions in space radiation applications. The proton irradiation effects on InAlAs/InGaAs hetero-junction structures o... InP-based high electron mobility transistors(HEMTs) will be affected by protons from different directions in space radiation applications. The proton irradiation effects on InAlAs/InGaAs hetero-junction structures of InP-based HEMTs are studied at incident angles ranging from 0 to 89.9° by SRIM software. With the increase of proton incident angle, the change trend of induced vacancy defects in the InAlAs/InGaAs hetero-junction region is consistent with the vacancy energy loss trend of incident protons. Namely, they both have shown an initial increase, followed by a decrease after incident angle has reached 30°. Besides, the average range and ultimate stopping positions of incident protons shift gradually from buffer layer to hetero-junction region, and then go up to gate metal. Finally, the electrical characteristics of InP-based HEMTs are investigated after proton irradiation at different incident angles by Sentaurus-TCAD. The induced vacancy defects are considered self-consistently through solving Poisson's and current continuity equations. Consequently, the extrinsic transconductance, pinch-off voltage and channel current demonstrate the most serious degradation at the incident angle of 30?, which can be accounted for the most severe carrier sheet density reduction under this condition. 展开更多
关键词 proton irradiation InP-based HEMTs inalas/ingaas hetero-junction incident angle
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InAlAs/InGaAs Quantum Well Infrared Photodetectors with 3-5μm Band Grown by Gas Source Molecular Beam Epitaxy
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作者 ZHANG Yong-gang LI Ai-zhen +1 位作者 CHEN Jian-xin REN Yao-cheng 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1997年第6期443-445,共3页
The relationship between well width and subband energy as well as response wavelength of the InAlAs/InGaAs multi-quantum well structures have been calculated for the design of the devices by using Kronig-Penney model.... The relationship between well width and subband energy as well as response wavelength of the InAlAs/InGaAs multi-quantum well structures have been calculated for the design of the devices by using Kronig-Penney model.By using gas source molecular beam epitaxy grown InAlAs/InGaAs quantum well infrared photodetector(QWIP)materials have been used to fabricate QWIP devices with 3-5μm band.Ⅰ-Ⅴ characteristics and response spectra of the devices have been measured.Results show that the devices have peak response at 4.0μm with full width of half maximum of about 29.5meV. 展开更多
关键词 inalas/ingaas EPITAXY INFRARED
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InAlAs/InGaAs调制掺杂场效应晶体管研究
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作者 敖金平 曾庆明 《半导体情报》 1992年第3期22-34,共13页
从理论上和实验上对InAlAs/InGaAs调制掺杂场效应晶体管(MODFET)进行了研究。建立了简单的一维电荷控制模型,并进行二维数值模拟,得到了不同偏压下器件内部电势分布和电子浓度分布。在上述理论的指导下,设计了我们所需要的器件纵向和横... 从理论上和实验上对InAlAs/InGaAs调制掺杂场效应晶体管(MODFET)进行了研究。建立了简单的一维电荷控制模型,并进行二维数值模拟,得到了不同偏压下器件内部电势分布和电子浓度分布。在上述理论的指导下,设计了我们所需要的器件纵向和横向结构,并对设计器件的直流特性进行了计算机辅助分析。最后叙述了利用国产Ⅳ型MBE设备生长的材料制作出MODFET的工艺过程,并对器件的直流特性和射频特性进行了测试和分析。直流测试表明,器件的最大饱和电流密度为125mA/mm,最大非本征跨导达250mS/mm;射频测试得到器件(L_g=1.0~1.2βm,W_g=150μm)的特征频率f_T为26GHz,最高振荡频率f_(max)为43GHz。 展开更多
关键词 调制掺杂 场效应 晶体管 inalas
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双基区条准平面型InAlAs/InGaAs异质结双极型晶体管 被引量:1
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作者 苏里曼 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1991年第4期286-290,共5页
本文提出和制作了双基区条准平面InAIAs/InGaAs HBT.准平面和低基区电阻是该设计的主要特点.文中介绍了制管工艺.直流特性的测量表明,器件的共发射极增益h_(fe)为50左右.
关键词 异质结 双极晶体管 ingaas
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Impact of gate offset in gate recess on DC and RF performance of InAlAs/InGaAs InP-based HEMTs
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作者 Shurui Cao Ruize Feng +3 位作者 Bo Wang Tong Liu Peng Ding Zhi Jin 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第5期720-724,共5页
A set of 100-nm gate-length In P-based high electron mobility transistors(HEMTs)were designed and fabricated with different gate offsets in gate recess.A novel technology was proposed for independent definition of gat... A set of 100-nm gate-length In P-based high electron mobility transistors(HEMTs)were designed and fabricated with different gate offsets in gate recess.A novel technology was proposed for independent definition of gate recess and T-shaped gate by electron beam lithography.DC and RF measurement was conducted.With the gate offset varying from drain side to source side,the maximum drain current(I_(ds,max))and transconductance(g_(m,max))increased.In the meantime,fTdecreased while f;increased,and the highest fmax of 1096 GHz was obtained.It can be explained by the increase of gate-source capacitance and the decrease of gate-drain capacitance and source resistance.Output conductance was also suppressed by gate offset toward source side.This provides simple and flexible device parameter selection for HEMTs of different usages. 展开更多
关键词 InP HEMT ingaas/inalas cut-off frequency(fT) maximum oscillation frequency(fmax) asymmetric gate recess
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Thermal Analysis of InAlAs/InGaAs/InP Mid-infrared QCLs Operating in CW Mode 被引量:1
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作者 HE You jun, ZHANG Yong gang, LI Ai zhen (State Key Lab.of Function.Mater.for Inform., Shanghai Institute of Microsyst. and Inform.Technol., CAS,Shanghai 200050,CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2003年第3期158-161,共4页
A simulation method for the thermal analysis of InAlAs/InGaAs/InP mid-infrared quantum cascade lasers (QCLs) based on finite-element method (FEM) is presented. The thermal distribution of the QCLs on substrate-side or... A simulation method for the thermal analysis of InAlAs/InGaAs/InP mid-infrared quantum cascade lasers (QCLs) based on finite-element method (FEM) is presented. The thermal distribution of the QCLs on substrate-side or epilayer-side mounting forms is simulated and the results are compared. Results show that the epilayer-side mounting form has much better heat dissipation capability than the substrate-side mounting. 展开更多
关键词 QCLs thermal analysis finite―element method thermal resistance
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电流增益截止频率为441 GHz的InGaAs/InAlAs InP HEMT
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作者 封瑞泽 曹书睿 +4 位作者 冯识谕 周福贵 刘同 苏永波 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期329-333,共5页
本文设计并制作了fT>400 GHz的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT)。采用窄栅槽技术优化了寄生电阻。器件栅长为54.4 nm,栅宽为2×50μm。最大漏极电流IDS.max为957 mA/mm,最大跨导gm.... 本文设计并制作了fT>400 GHz的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT)。采用窄栅槽技术优化了寄生电阻。器件栅长为54.4 nm,栅宽为2×50μm。最大漏极电流IDS.max为957 mA/mm,最大跨导gm.max为1265 mS/mm。即使在相对较小的VDS=0.7 V下,电流增益截止频率fT达到了441 GHz,最大振荡频率fmax达到了299 GHz。该器件可应用于太赫兹单片集成放大器和其他电路中。 展开更多
关键词 铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMTs) ingaas/inalas 电流增益截止频率(f_(T)) 最大振荡频率(f_(max)) 栅槽
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单边掺杂InAlAs/InGaAs单量子阱中二维电子气的磁输运特性 被引量:5
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作者 周文政 姚炜 +6 位作者 朱博 仇志军 郭少令 林铁 崔利杰 桂永胜 褚君浩 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期2044-2048,共5页
研究了双子带占据的In_(0·52)Al_(0·48)As/In_(0·53)Ga_(0·47)As单量子阱中磁电阻的Shubnikov-de Haas(SdH)振荡效应和霍耳效应,获得了不同子带电子的浓度、迁移率、有效质量和能级位置.低磁感应强度(B<1·... 研究了双子带占据的In_(0·52)Al_(0·48)As/In_(0·53)Ga_(0·47)As单量子阱中磁电阻的Shubnikov-de Haas(SdH)振荡效应和霍耳效应,获得了不同子带电子的浓度、迁移率、有效质量和能级位置.低磁感应强度(B<1·5T)下由迁移率谱和多载流子拟合相结合的方法得到的各子带电子浓度与通过SdH振荡得到的结果一致.在d2ρ/dB2-1/B的快速傅里叶变换谱中,观察到除了通常强烈依赖温度的对应于各子带的频率f1和f2以及f1的倍频(2f1)外,还观察到对温度不敏感的频率f1-f2.这是由于量子阱中不同子带的电子具有相近的有效质量,两个子带之间发生了强烈的磁致子带间散射. 展开更多
关键词 inalas/ingaas单量子阱 SdH振荡 二维电子气 磁致子带间散射
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InAlAsInGaAs HEMT跨阻前置放大器的设计与实现 被引量:2
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作者 王蓉 王志功 +3 位作者 柯锡明 敖金平 李献杰 刘伟吉 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期46-49,共4页
提出了基于耗尽型InAlAs InGaAsHEMT器件的光纤通信接收机中的单电源跨阻前置放大器电路 ,并给出了设计方法与实验结果 .该前置放大器采用单电源供电 ,单端输入 ,双端差动输出 ,由两级源级跟随器 ,一级输出级以及一个反馈电阻组成 .当... 提出了基于耗尽型InAlAs InGaAsHEMT器件的光纤通信接收机中的单电源跨阻前置放大器电路 ,并给出了设计方法与实验结果 .该前置放大器采用单电源供电 ,单端输入 ,双端差动输出 ,由两级源级跟随器 ,一级输出级以及一个反馈电阻组成 .当前置放大器工作在 2 .5Gbit s时 ,跨阻可达 62 .5dBΩ .采用 + 5V电源供电 ,功耗为 2 展开更多
关键词 inalas/ingaasHEMT 光接收机 前置放大器 工艺 光纤通信接收机 设计
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晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池 被引量:1
16
作者 蒋卓宇 李娟 +2 位作者 孔祥力 代盼 孙强健 《半导体技术》 北大核心 2025年第4期365-371,共7页
为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起... 为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起,制备了晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池。测试结果显示,通过晶圆键合技术制备的双结太阳电池具有较低的电损耗,在聚光下获得了超过31.7%的光电转换效率。双结太阳电池的晶圆键合技术改善了常规直接材料生长方法因晶格失配造成的位错问题,可以更灵活地实现双结太阳电池的优化设计。 展开更多
关键词 分子束外延(MBE) ingaas GAAS 晶圆键合 双结太阳电池
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采用InGaAs或InAlAs缓冲层的高In组分InGaAs探测器结构材料特性(英文) 被引量:3
17
作者 顾溢 王凯 +3 位作者 李成 方祥 曹远迎 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期481-485,共5页
利用气态源分子束外延在InP衬底上生长了具有InxGa1-xAs或InxAl1-xAs连续递变缓冲层的高In组分In0.78Ga0.22As探测器结构.通过原子力显微镜、X射线衍射、透射电子显微镜和光致发光对它们的特性进行了表征和比较.结果表明,具有InxGa1-xAs... 利用气态源分子束外延在InP衬底上生长了具有InxGa1-xAs或InxAl1-xAs连续递变缓冲层的高In组分In0.78Ga0.22As探测器结构.通过原子力显微镜、X射线衍射、透射电子显微镜和光致发光对它们的特性进行了表征和比较.结果表明,具有InxGa1-xAs或InxAl1-xAs缓冲层的结构都能获得较平整的表面;具有InxGa1-xAs缓冲层的探测器结构表现出更大的剩余应力;具有InxAl1-xAs缓冲层的探测器结构所观察到的光学特性更优. 展开更多
关键词 光电探测器 高In组分 缓冲层 ingaas inalas
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应变补偿InGaAs/InAlAs量子级联激光器 被引量:5
18
作者 刘峰奇 张永照 +1 位作者 张权生 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第10期1038-1040,共3页
利用应变补偿的方法研制出激射波长 λ≈ 3.5— 3.7μm的量子级联激光器 .条宽 2 0 μm,腔长 1 .6mm的 Inx Ga1- x As/Iny Al1- y As量子级联激光器已实现室温准连续激射 .在最大输出功率处的准连续激射可持续 30 min以上 .
关键词 量子级联激光器 应变补偿 ingaas/inalas
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低温InGaAs/InAlAs多量子阱的分子束外延生长与表征 被引量:1
19
作者 万文坚 尹嵘 +3 位作者 韩英军 王丰 郭旭光 曹俊诚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1523-1526,共4页
采用气源分子束外延(GSMBE)生长了低温InGaAs材料,研究了生长温度及As压对InGaAs材料性质的影响,得到优化的生长条件为:生长温度为300℃、As压为77.3kPa。通过Be掺杂,并采用In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As多量子阱结构,将材料的方块电... 采用气源分子束外延(GSMBE)生长了低温InGaAs材料,研究了生长温度及As压对InGaAs材料性质的影响,得到优化的生长条件为:生长温度为300℃、As压为77.3kPa。通过Be掺杂,并采用In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As多量子阱结构,将材料的方块电阻提高到1.632×106Ω/Sq,载流子数密度降低至1.058×1014 cm-3。X射线衍射结果表明:InGaAs多量子阱材料具有较高的晶体质量。这种Be掺杂InGaAs多量子阱材料缺陷密度大且电阻率高,是制作太赫兹光电导天线较理想的基质材料。 展开更多
关键词 低温ingaas ingaas inalas 多量子阱 分子束外延
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基于线阵InGaAs相机的亮环境下光伏电池板缺陷检测方法
20
作者 徐晗 钱芸生 +2 位作者 张益军 郎怡政 黄益东 《应用光学》 北大核心 2025年第1期156-162,共7页
亮环境下太阳光容易淹没光伏电池板光致发光(photoluminescence,PL)现象的缺陷信息,使检测设备无法直接感知缺陷。针对此问题,提出了一种基于时域误差的检测方法,能够有效降低亮环境下太阳光的干扰。该方法利用快速PWM(pulse width modu... 亮环境下太阳光容易淹没光伏电池板光致发光(photoluminescence,PL)现象的缺陷信息,使检测设备无法直接感知缺陷。针对此问题,提出了一种基于时域误差的检测方法,能够有效降低亮环境下太阳光的干扰。该方法利用快速PWM(pulse width modulation)斩波恒流电源输出高频调制电流信号,驱动850 nm光源输出调制光激励光伏电池板,使用短波红外线阵InGaAs相机捕捉具有调制特性的图像序列,经现场可编程门阵列(field programmable gate array,FPGA)从图像序列中提取光伏电池板的缺陷信息。实验结果表明,该方法能够在2.9 lx~(12580±5)lx的照度范围内有效地检测缺陷图案信息,实现亮环境下光伏电池板的连续性缺陷检测。 展开更多
关键词 光致发光 线阵ingaas相机 亮环境 缺陷检测
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