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硅离子注入对Ge2Sb2Te5结构和电阻的影响 被引量:3
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作者 刘波 宋志棠 +2 位作者 封松林 Chen Bomy 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期158-160,共3页
采用磁控射频溅射法制备了Ge2Sb2Te5薄膜,利用离子注入法研究了硅掺杂对薄膜结构和电阻性能的影响.研究发现,由于硅的掺杂,Ge2Sb2Te5薄膜的结构不仅保留了原有的面心立方低温晶相和六方高温晶相,而且出现了菱形六面体的Sb2Te3晶相;掺杂... 采用磁控射频溅射法制备了Ge2Sb2Te5薄膜,利用离子注入法研究了硅掺杂对薄膜结构和电阻性能的影响.研究发现,由于硅的掺杂,Ge2Sb2Te5薄膜的结构不仅保留了原有的面心立方低温晶相和六方高温晶相,而且出现了菱形六面体的Sb2Te3晶相;掺杂硅后,Ge2Sb2Te5薄膜的电阻有较大变化,晶态电阻的提高有利于降低非晶化相变过程的操作电流,薄膜电阻-温度稳定性的改善可保证有较宽的操作电流波动范围. 展开更多
关键词 ge2sb2te5 硅离子注入掺杂 方块电阻
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Ge2Sb2Te5相变薄膜的结构及结晶温度研究
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作者 刘巧丽 刘军伟 +2 位作者 孟繁强 王璐 李廷取 《吉林化工学院学报》 CAS 2016年第9期41-44,共4页
利用射频磁控溅射法在室温下沉积了GST相变薄膜,利用XRD、AFM对其结构进行表征,原位XRD及DSC测试确定其结晶温度.(原位)XRD测试表明,室温下沉积的GST薄膜为非晶态,且在室温-375℃温度范围内,样品经历了非晶态→立方晶态→六方晶态相转... 利用射频磁控溅射法在室温下沉积了GST相变薄膜,利用XRD、AFM对其结构进行表征,原位XRD及DSC测试确定其结晶温度.(原位)XRD测试表明,室温下沉积的GST薄膜为非晶态,且在室温-375℃温度范围内,样品经历了非晶态→立方晶态→六方晶态相转变;通过原位XRD和DSC测试确定的GST薄膜的结晶温度一致,为-150℃. 展开更多
关键词 相变材料 ge2sb2te5 结构 DSC 结晶温度
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制备条件对Ge2Sb2Te5薄膜电学性能的影响 被引量:2
3
作者 夏吉林 刘波 +1 位作者 宋志棠 封松林 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期155-157,共3页
研究了磁控溅射制备Ge2Sb2Te5薄膜时,制备条件诸如功率、气压等对薄膜性能的影响.主要通过测量薄膜方块电阻随退火温度的变化情况,探索Ge2Sb2Te5薄膜的成长机理.实验结果表明,不同溅射功率下制备的薄膜经不同温度退火后方块电阻没有明... 研究了磁控溅射制备Ge2Sb2Te5薄膜时,制备条件诸如功率、气压等对薄膜性能的影响.主要通过测量薄膜方块电阻随退火温度的变化情况,探索Ge2Sb2Te5薄膜的成长机理.实验结果表明,不同溅射功率下制备的薄膜经不同温度退火后方块电阻没有明显的区别,而随着溅射气压的上升,薄膜方块电阻随退火温度的增加,下降的速率增加,意味着由面心立方结构转变为六方结构所需的结晶温度降低. 展开更多
关键词 ge2sb2te5 电学性能 制备条件 相变
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Ge2Sb2Te5的电化学特性及化学机械抛光
4
作者 刘奇斌 张楷亮 +2 位作者 王良咏 宋志棠 封松林 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期161-164,共4页
从电化学角度研究了Ge2Sb2Te5薄膜在化学机械抛光液中的作用,以及不同的pH值和H2O2浓度下的电化学特性.采用Solartron SI1287电化学设备测试了Ge2Sb2Te5薄膜在溶液中的开路电位和动电位扫描.开路电位结果表明:Ge2Sb2Te5在pH值为10的抛... 从电化学角度研究了Ge2Sb2Te5薄膜在化学机械抛光液中的作用,以及不同的pH值和H2O2浓度下的电化学特性.采用Solartron SI1287电化学设备测试了Ge2Sb2Te5薄膜在溶液中的开路电位和动电位扫描.开路电位结果表明:Ge2Sb2Te5在pH值为10的抛光液中表现出钝化行为;而抛光液的pH值为11时,开始向活化转变;当pH值为12时,薄膜处于活化状态.在动电位扫描过程中,不同的pH值和H2O2浓度下,薄膜的扫描曲线形状相似,表明薄膜腐蚀具有相同的反应机理.自制碱性抛光液,对Ge2Sb2Te5薄膜进行化学机械抛光,用SEM和EDS对抛光后的结构进行分析.结果表明,通过CMP实现了Ge2Sb2Te5填充结构. 展开更多
关键词 ge2sb2te5 相变存储器 化学机械抛光 电化学
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相变材料Ge2Sb2Te5的性质及其面向新型数据存储的应用(续)
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作者 杨冲 韩伟华 +3 位作者 陈俊东 张晓迪 郭仰岩 杨富华 《微纳电子技术》 北大核心 2020年第6期421-429,共9页
3相变材料GST的介电性质及其应用GST的介电性质主要体现在其对光的调控作用,在GST相变过程中伴随的折射率变化可以使其应用于光学存储。不仅是多媒体光盘,GST材料与波导材料结合还可以形成非易失性的光子存储单元。3.1相变材料GST介电... 3相变材料GST的介电性质及其应用GST的介电性质主要体现在其对光的调控作用,在GST相变过程中伴随的折射率变化可以使其应用于光学存储。不仅是多媒体光盘,GST材料与波导材料结合还可以形成非易失性的光子存储单元。3.1相变材料GST介电性质的机理以正、负电荷中心不重合的电极化方式来传递或记录(存储)电场的作用和影响是材料介电性质的体现。对于应用于光学存储的GST来说,其相变过程中的性质状态,尤其是介电性质会对存储性能产生重要的影响。 展开更多
关键词 光学存储 ge2sb2te5 多媒体光盘 存储单元 非易失性 介电性质 存储性能 数据存储
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Anion-site-modulated thermoelectric properties in Ge2Sb2Te5-based compounds
6
作者 Ping Hu Tian-Ran Wei +5 位作者 Shao-Ji Huang Xu-Gui Xia Peng-Fei Qiu Jiong Yang Li-Dong Chen Xun Shi 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第10期1127-1133,共7页
The amalgamation of multi-subjects often elicits novel materials,new concepts and unexpected applications.Recently,Ge2 Sb2 Te5,as the most established phasechange material,has been found to exhibit decent thermoelectr... The amalgamation of multi-subjects often elicits novel materials,new concepts and unexpected applications.Recently,Ge2 Sb2 Te5,as the most established phasechange material,has been found to exhibit decent thermoelectric performance in its stable,hexagonal phase.The challenge for higher figure of merit(zT) values lies in reducing the hole carrier concentration and enhancing the Seebeck coefficient,which,however,can be hardly realized by conventional doping.Here in this work,we report that the electrical properties of Ge2 Sb2 Te5 can be readily optimized by anion-site modulation.Specifically,Se/S substitution for Te induces stronger and more ionic bonding,lowering the hole density.Furthermore,an increase in electronic density of state is introduced by Se substitution,contributing to a large increase in Seebeck coefficient.Combined with the reduced thermal conductivity,maximum zT values above 0.7 at 800 K have been achieved in Se/S-alloyed materials,which is ~30% higher than that in the pristine Ge2Sb2 Te5. 展开更多
关键词 THERMOELECTRIC ge2sb2te5 Anion-site modulation Chemical bond Electronic density of states
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通过衬板加热控制Ge2Sb2Te5热电薄膜的结构
7
《金属功能材料》 CAS 2018年第5期62-62,共1页
Athorn Vora-ud等人采用脉冲直流磁控管溅射法,以最佳等离子条件(脉冲频率和脉冲反向时间)制备Ge2Sb2Te5薄膜,系统地研究250-450℃温度范围内衬板温度对沉积薄膜微结构、形貌、原子组成、载流子浓度和移动性及塞贝克系数的影响。研... Athorn Vora-ud等人采用脉冲直流磁控管溅射法,以最佳等离子条件(脉冲频率和脉冲反向时间)制备Ge2Sb2Te5薄膜,系统地研究250-450℃温度范围内衬板温度对沉积薄膜微结构、形貌、原子组成、载流子浓度和移动性及塞贝克系数的影响。研究结果表明,要得到立方结构薄膜,就必须对衬板进行加热。 展开更多
关键词 ge2sb2te5薄膜 热电薄膜 加热控制 内衬板 微结构 磁控管溅射法 脉冲直流 温度范围
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硫系化合物随机存储器研究进展 被引量:16
8
作者 封松林 宋志棠 +1 位作者 刘波 刘卫丽 《微纳电子技术》 CAS 2004年第4期1-7,39,共8页
系统地介绍了硫系化合物随机存储器(C-RAM)的原理、相关材料、研究现状、特点及今后的发展趋势以及中科院上海微系统与信息技术研究所在C-RAM方面的研究进展。C-RAM由于具有高速读取、高可擦写次数、非易失性、元件尺寸小、功耗低和成... 系统地介绍了硫系化合物随机存储器(C-RAM)的原理、相关材料、研究现状、特点及今后的发展趋势以及中科院上海微系统与信息技术研究所在C-RAM方面的研究进展。C-RAM由于具有高速读取、高可擦写次数、非易失性、元件尺寸小、功耗低和成本低等优点,被认为是最有可能取代目前的FLASH、DRAM和SRAM而成为未来半导体存储器的主流产品。 展开更多
关键词 硫系化合物随机存储器 ge2sb2te5 纳电子器件 C—RAM 工作原理
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溅射功率对Ge_2Sb_2Te_5薄膜光学常数的影响 被引量:2
9
作者 谢泉 侯立松 +3 位作者 干福熹 阮昊 李晶 李进延 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期501-504,共4页
研究了溅射功率对 Ge2Sb2Te5 薄膜的光学常数与波长关系的影响,结果表明,在波长小于 500nm的情况下,随溅射功率的增加非晶态薄膜的折射率n先增加然后减小,消光系数K则逐渐减小; 在波长大于 500nm的情况下,... 研究了溅射功率对 Ge2Sb2Te5 薄膜的光学常数与波长关系的影响,结果表明,在波长小于 500nm的情况下,随溅射功率的增加非晶态薄膜的折射率n先增加然后减小,消光系数K则逐渐减小; 在波长大于 500nm的情况下,随溅射功率的增加折射率 n逐渐减少,消光系数k先减小后增加.对于晶 态薄膜样品,在整个波长范围折射率n随溅射功率的增加先减小后增加,消光系数k则逐渐减少.薄膜样 品的光学常数,在长波长范围随波长变化较大,在短波长范围变化较小.讨论了溅射功率对 Ge2Sb2Te5 薄膜的光学常数影响的机理. 展开更多
关键词 溅射功率 ge2sb2te5薄膜 光学常数 波长
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Ge_2Sb_2Te_5相变薄膜光学及擦除性能研究 被引量:3
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作者 张广军 顾冬红 干福熹 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期577-581,共5页
利用蓝绿激光对非晶态Ge2Sb2Te5相变薄膜进行擦除性能的研究,分别用1000ns, 500ns,100ns, 60ns脉宽的蓝绿激光进行实验.结果表明,一定脉宽下,反射率对比度随擦除功率的增加而增大 并且,在1000ns, 500ns, 100ns, 60ns的激光作用时间范围... 利用蓝绿激光对非晶态Ge2Sb2Te5相变薄膜进行擦除性能的研究,分别用1000ns, 500ns,100ns, 60ns脉宽的蓝绿激光进行实验.结果表明,一定脉宽下,反射率对比度随擦除功率的增加而增大 并且,在1000ns, 500ns, 100ns, 60ns的激光作用时间范围内,非晶态薄膜均可转变成晶态 对于脉宽为60ns的蓝绿激光,擦除功率大于4. 49mW以后,薄膜的反射率对比度高于15%,这表明Ge2Sb2Te5 相变薄膜在短脉宽、低擦除功率条件下,可具有较高的晶化速度 同时,分析了非晶态和晶态Ge2Sb2Te5 相变薄膜的光谱特性,对比研究了780nm, 650nm, 514nm和405nm波长处的反射率和反射率对比度。 展开更多
关键词 相变薄膜 蓝绿激光 ge2sb2te5 擦除 反射率对比度 光盘
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激光致溅射沉积Ge_2Sb_2Te_5薄膜的结晶行为研究 被引量:2
11
作者 刘波 阮昊 干福熹 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期637-640,共4页
利用XRD研究了激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为;研究发现,与热致相变不同的是,激光致相变只发生从非晶态到FCC晶态结构的转变,从FCC到HCP的结构转变不再发生,这有利于提高相变光盘的信噪比.Ge2Sb2... 利用XRD研究了激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为;研究发现,与热致相变不同的是,激光致相变只发生从非晶态到FCC晶态结构的转变,从FCC到HCP的结构转变不再发生,这有利于提高相变光盘的信噪比.Ge2Sb2Te5薄膜的结晶程度受初始化功率和转速的影响. 展开更多
关键词 激光致溅射沉积 ge2sb2te5薄膜 结晶行为 激光致相变 X射线衍射 面心立方 光盘 相变光存储材料
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基于相变存储器的相变存储材料的研究进展 被引量:3
12
作者 汪昌州 翟继卫 姚熹 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第15期96-102,共7页
相变存储器具有非易失性、循环寿命长、元件尺寸小、功耗低、多级存储、与现有集成电路工艺相兼容等诸多优点,被认为是最具潜力的下一代存储器。简要介绍了相变存储材料的工作原理和对相变存储材料的性能要求,综述了近年来国内外在相变... 相变存储器具有非易失性、循环寿命长、元件尺寸小、功耗低、多级存储、与现有集成电路工艺相兼容等诸多优点,被认为是最具潜力的下一代存储器。简要介绍了相变存储材料的工作原理和对相变存储材料的性能要求,综述了近年来国内外在相变材料存储性能的优化、存储机理以及面临的关键问题等方面的最新研究成果,最后展望了相变存储材料的研究和发展趋势。 展开更多
关键词 相变存储器 相变存储材料 ge2sb2te5
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生长温度对Ge_2Sb_2Te_5薄膜的相变行为以及微观结构的影响 被引量:2
13
作者 都健 潘石 +1 位作者 吴世法 张庆瑜 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第4期328-332,共5页
采用射频磁控溅射方法,分别在玻璃和具有本征氧化层的Si(100)基片上制备了Ge2Sb2Te5相变薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计等对薄膜进行了表征,研究了不同生长温度(室温~300℃)的Ge2... 采用射频磁控溅射方法,分别在玻璃和具有本征氧化层的Si(100)基片上制备了Ge2Sb2Te5相变薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计等对薄膜进行了表征,研究了不同生长温度(室温~300℃)的Ge2Sb2Te5薄膜的表面形貌和结晶特性。分析结果表明:室温沉积的薄膜为非晶态;沉积温度为100℃~250℃时,薄膜转变为晶粒尺度约14nm的面心立方结构;300℃~350℃沉积的薄膜有少量的六方相出现。薄膜表面粗糙度随着沉积温度的升高逐渐递增,且薄膜的反射率变化与表面粗糙度有直接的关系。 展开更多
关键词 ge2sb2te5薄膜 射频磁控溅射 表面形貌 薄膜反射率
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Ge_2Sb_2Te_5不同晶相对相变存储单元RESET电流影响 被引量:2
14
作者 王玉婵 康杰虎 王玉菡 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2016年第1期61-63,共3页
相变存储器(Phase Change Memory,PCM)的RESET电流是决定其功耗的最重要参数。基于相变材料Ge_2Sb_2Te_5(GST)的PCM单元,不同的SET条件下晶粒表现出两种不同的晶态结构,分别为立方晶相和六方晶相。针对这两种不同晶态结构的晶粒,应用数... 相变存储器(Phase Change Memory,PCM)的RESET电流是决定其功耗的最重要参数。基于相变材料Ge_2Sb_2Te_5(GST)的PCM单元,不同的SET条件下晶粒表现出两种不同的晶态结构,分别为立方晶相和六方晶相。针对这两种不同晶态结构的晶粒,应用数值模拟计算,对PCM单元的RESET电流进行研究,并将模拟结果与实际测试结果对比验证。结果表明:基于立方晶粒GST的PCM单元需要的RESET电流更小。 展开更多
关键词 相变存储器 ge2sb2te5 RESET 数值计算 立方晶相 六方晶相
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溅射参数对Ge_2Sb_2Te_5薄膜光学常数的影响 被引量:1
15
作者 谢泉 侯立松 +2 位作者 阮昊 干福熹 李晶 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期187-192,共6页
研究了溅射参数对 Ge2 Sb2 Te5 薄膜的光学常数随波长变化关系的影响 ,结果表明 :(1)当溅射功率一定时 ,随溅射氩气气压的增加 Ge2 Sb2 Te5 薄膜的折射率先增大后减小 ,而消光系数先减小后增大 .(2 )当溅射氩气气压一定时 ,对于非晶态... 研究了溅射参数对 Ge2 Sb2 Te5 薄膜的光学常数随波长变化关系的影响 ,结果表明 :(1)当溅射功率一定时 ,随溅射氩气气压的增加 Ge2 Sb2 Te5 薄膜的折射率先增大后减小 ,而消光系数先减小后增大 .(2 )当溅射氩气气压一定时 ,对于非晶态薄膜样品 ,在 5 0 0 nm波长以下 ,折射率随溅射功率的增加先增加后减小 ,消光系数则逐渐减小 ;在 5 0 0 nm以上 ,折射率随溅射功率的增加逐渐减少 ,消光系数先减小后增加 .对于晶态薄膜样品 ,在整个波长范围折射率随溅射功率的增加先减小后增加 ,消光系数则逐渐减少 .(3)薄膜样品的光学常数都随波长的变化而变化 ,在长波长范围变化较大 ,短波长范围变化较小 .探讨了影响 Ge2 Sb2 Te5 展开更多
关键词 光学常数 ge2sb2te5薄膜 溅射参数 三元化合物半导体
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N-Ge_2Sb_2Te_5薄膜的相变特性研究 被引量:2
16
作者 刘巧丽 刘军伟 +2 位作者 李春波 李廷取 路大勇 《吉林化工学院学报》 CAS 2016年第3期80-82,共3页
采用射频磁控溅射法在室温下沉积了N-GST相变薄膜,利用原位XRD研究了其相变过程.结果表明:室温下沉积薄膜均为非晶态,且在室温~375℃温度范围内,纯GST薄膜发生了非晶态→立方晶态→六方晶态相转变;然而,当N2流量为12.8 sccm时,N掺杂GS... 采用射频磁控溅射法在室温下沉积了N-GST相变薄膜,利用原位XRD研究了其相变过程.结果表明:室温下沉积薄膜均为非晶态,且在室温~375℃温度范围内,纯GST薄膜发生了非晶态→立方晶态→六方晶态相转变;然而,当N2流量为12.8 sccm时,N掺杂GST薄膜则发生了非晶态→六方晶态直接相转变.此外,通过原位XRD确定结晶温度,表明N引入能够显著提高GST薄膜的结晶温度,这有利于提高相变薄膜的非晶热稳定性. 展开更多
关键词 相变特性 ge2sb2te5 N掺杂 原位XRD 结晶温度
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激光致晶态Ge_2Sb_2Te_5相变介质的光学常数 被引量:1
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作者 刘波 阮昊 干福熹 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期479-483,共5页
利用椭偏仪和光谱仪研究了结晶程度对 Ge2 Sb2 Te5相变薄膜光学常数的影响 .当初始化仪转速固定时 ,随激光功率的增加 ,折射率基本随之减小 ,消光系数逐渐增大 ,透过率逐渐减小 ;当激光功率固定时 ,随转速的增大 ,折射率也随之增大 ,消... 利用椭偏仪和光谱仪研究了结晶程度对 Ge2 Sb2 Te5相变薄膜光学常数的影响 .当初始化仪转速固定时 ,随激光功率的增加 ,折射率基本随之减小 ,消光系数逐渐增大 ,透过率逐渐减小 ;当激光功率固定时 ,随转速的增大 ,折射率也随之增大 ,消光系数随之减小 ,透过率逐渐增加 .非晶态与晶态间的变换、薄膜微结构的变化 (包括原子间键合状态的变化 )以及薄膜内残余应力是影响 Ge2 Sb2 Te5相变薄膜复数折射率的主要原因 .测量了 CD- RW(可擦重写光盘 )中 Ge2 Sb2 展开更多
关键词 ge2sb2te5 光学常数 相变薄膜 折射率 消光系数 光存储介质
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Sn掺杂Ge-Sb-Te相变薄膜的晶化特性 被引量:1
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作者 顾四朋 侯立松 赵启涛 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期181-186,共6页
用磁控溅射法制备了掺杂Sn的Ge_2Sb_2Te_5相变材料薄膜,研究了Sn含量对结晶性能的影响.薄膜的X射线衍射(XRD)表明,热处理使薄膜发生了从非晶态到晶态的相变,并出现Sn-Te相.通过示差扫描量热(DSC)实验测出在不同加热速率下非晶态薄膜粉... 用磁控溅射法制备了掺杂Sn的Ge_2Sb_2Te_5相变材料薄膜,研究了Sn含量对结晶性能的影响.薄膜的X射线衍射(XRD)表明,热处理使薄膜发生了从非晶态到晶态的相变,并出现Sn-Te相.通过示差扫描量热(DSC)实验测出在不同加热速率下非晶态薄膜粉末的结晶峰温度,计算了材料的结晶活化能.根据结晶动力学分析和结晶活化能数据,掺杂Sn后的Ge-Sb-Te具有更高的结晶速率,用于光存储时将具有更高的擦除速度. 展开更多
关键词 无机非金属材料 ge2sb2te5 Sn掺杂 热致相变 结晶活化能
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钛掺杂对Ge_2Sb_2Te_5薄膜相变特性的改善(英文)
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作者 张颖 魏慎金 +5 位作者 易歆雨 程帅 陈坤 朱焕锋 李晶 吕磊 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期658-662,共5页
利用椭偏光谱术与XRD对钛掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜中钛元素对体系的光学性质及其微结构的影响进行了实验研究.进而对该薄膜进行变温阻抗实验表明,钛掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜与未掺杂的薄膜相比具有更好的热稳定性.基于对薄膜样品的数据保持能... 利用椭偏光谱术与XRD对钛掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜中钛元素对体系的光学性质及其微结构的影响进行了实验研究.进而对该薄膜进行变温阻抗实验表明,钛掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜与未掺杂的薄膜相比具有更好的热稳定性.基于对薄膜样品的数据保持能力测试的实验数据,经阿伦纽斯外推处理可知,钛掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜样品的10年数据保持温度要高于未掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜样品.本文的实验结果均证实,钛掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜更适合应用于相变随机存取存储器中. 展开更多
关键词 钛掺杂ge2sb2te5薄膜 相变特性 热稳定性 数据保持能力
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Ge_2Sb_2Te_5薄膜相变行为及其对光存储特性影响
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作者 张庆瑜 都健 +1 位作者 潘石 吴世法 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期781-785,共5页
采用射频磁控溅射方法,在石英玻璃基片上制备了Ge2Sb2Te5相变薄膜.X射线衍射分析表明:室温沉积的薄膜为非晶态;170℃真空退火后,薄膜转变为晶粒尺度约为17nm的面心立方结构;250℃退火导致晶粒尺度约为40nm的密排六方相出现.研究了室温至... 采用射频磁控溅射方法,在石英玻璃基片上制备了Ge2Sb2Te5相变薄膜.X射线衍射分析表明:室温沉积的薄膜为非晶态;170℃真空退火后,薄膜转变为晶粒尺度约为17nm的面心立方结构;250℃退火导致晶粒尺度约为40nm的密排六方相出现.研究了室温至450℃下薄膜相变的热力学性能.差热分析显示:薄膜的非晶相向fcc相转变的相变活化能为(2.03±0.15)eV;fcc相向hex相转变的相变活化能为(1.58±0.24)eV.薄膜反射率测量表明:面心相与非晶相的反射率对比度随着波长从400nm增加到1000nm在15%~30%变化,六方相与非晶相的反射率对比度在30%~40%.不同脉冲宽度的激光对非晶态薄膜的烧蚀结果显示:激光的能量密度对薄膜的记录效果有显著影响,在5mW、50ns的脉冲激光作用下,Ge2Sb2Te5薄膜具有最好的光存储效果. 展开更多
关键词 ge2sb2te5薄膜 射频磁控溅射 相变 光学特性 激光辐照
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