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硬质合金基体FCVA沉积TiAlN薄膜的试验研究
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作者 周友龙 谷祥帅 黄楠 《工具技术》 北大核心 2008年第9期22-24,共3页
采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜,用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度;采用X射线衍射(XRD)分析技术进行了TiAlN薄膜的相分析;并进行了摩擦磨损试验和对基体与薄膜的结合... 采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜,用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度;采用X射线衍射(XRD)分析技术进行了TiAlN薄膜的相分析;并进行了摩擦磨损试验和对基体与薄膜的结合力进行定性的分析。结果表明:TiAlN薄膜厚度在450~520nm之间;最高硬度为2754Hv,对应氮气分压为N2分压在8.0×10-2Pa^1.1×10-1Pa;薄膜中主要存在Ti2AlN、Ti2N与TiN相。 展开更多
关键词 fcva 显微硬度 XRD 摩擦磨损 结合力
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FCVA沉积TiAlN薄膜的工艺研究 被引量:1
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作者 谷祥帅 周友龙 +2 位作者 夏侯良 黄楠 孙鸿 《工具技术》 北大核心 2007年第7期48-51,共4页
采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,在高速钢(HSS)基体上沉积TiAlN薄膜,用显微硬度计测定TiAlN薄膜的硬度和厚度,用X射线衍射(XRD)分析技术进行TiAlN薄膜的相分析并进行了摩擦磨损实验,为在刀具表面沉积TiAlN薄膜打下较好的工艺基础。
关键词 fcva 硬度 XRD 摩擦系数
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FCVA制备超薄类金刚石薄膜的拉曼光谱分析 被引量:4
3
作者 尹云飞 车晓舟 +1 位作者 李国锋 马洪涛 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI 2010年第2期75-79,共5页
采用FCVA方法制备厚度分别为50nm、30nm、10nm、5nm、2nm的DLC薄膜,利用可见光拉曼光谱分析薄膜的G峰位置、I_d/I_g和A_g/A_d,发现随着薄膜厚度的减小,I_d/I_g不断增大,A_g/A_d减小,G峰位置向低波数方向移动。紫外拉曼光谱分析结果表明... 采用FCVA方法制备厚度分别为50nm、30nm、10nm、5nm、2nm的DLC薄膜,利用可见光拉曼光谱分析薄膜的G峰位置、I_d/I_g和A_g/A_d,发现随着薄膜厚度的减小,I_d/I_g不断增大,A_g/A_d减小,G峰位置向低波数方向移动。紫外拉曼光谱分析结果表明,薄膜厚度减薄会减小I_t/_g,使T峰位置向高波数方向移动。结合两种不同波长的拉曼光谱进行分析,G峰偏移量随薄膜厚度减小呈下降趋势;随薄膜厚度的减小,FCVA法制备的类金刚石薄膜中的sp^3键含量减少,同时有序化的sp^2团簇增加。EELS结果也证实,薄膜厚度的减小会减少薄膜中sp^3键的含量。对于50nm和30nm的非晶碳膜,拉曼光谱分析的结果与薄膜硬度和内应力实际测试结果存在一致的对应关系。 展开更多
关键词 fcva 超薄类金刚石薄膜 可见光拉曼光谱 紫外拉曼光谱
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FCVA法制备的超薄类金刚石薄膜的结构分析 被引量:2
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作者 车晓舟 尹云飞 +1 位作者 马洪涛 刘凡新 《真空》 CAS 北大核心 2011年第2期28-32,共5页
用真空阴极过滤电弧(Filtered Cathode Vacuum Arc,FCVA)法制备厚度分别为50 nm,30 nm,10 nm,5 nm,2 nm的类金刚石(DLC)薄膜,利用拉曼光谱和电子能量损失谱研究了薄膜的结构,分析了硬度和内应力的变化趋势。结果表明,随着薄膜厚度的减小... 用真空阴极过滤电弧(Filtered Cathode Vacuum Arc,FCVA)法制备厚度分别为50 nm,30 nm,10 nm,5 nm,2 nm的类金刚石(DLC)薄膜,利用拉曼光谱和电子能量损失谱研究了薄膜的结构,分析了硬度和内应力的变化趋势。结果表明,随着薄膜厚度的减小,可见光拉曼光谱高斯分解的G峰位置向低波数方向移动,D峰和G峰强度之比Id/Ig不断增大,G峰面积与D峰面积之比Ag/Ad减小;说明随着薄膜厚度的减小,DLC薄膜中的sp3键含量减少,有序化的sp2团簇增加。电子能量损失谱的结果也表明薄膜厚度的减小会引起薄膜中sp3键含量的减少。当薄膜的厚度由50 nm变为30 nm时,薄膜硬度由53.85 GPa减小为39.64 GPa,内应力由4.63 GPa降低为3.47 GPa,随着厚度降低,薄膜的硬度和内应力呈下降趋势。 展开更多
关键词 真空阴极过滤电弧 类金刚石薄膜 结构
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气体流速对FCVA技术制备nc-ZrC/a-C:H复合膜的影响
5
作者 李作文 黄鑫 +5 位作者 廖斌 曹望 周福增 伏开虎 周晗 张旭 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期609-613,共5页
采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术,室温下通入C2H2在Si(100)与304不锈钢片上制备nc-ZrC/a-C:H复合薄膜.采用XRD、Raman、XPS、SEM-EDS研究了薄膜的成分及微观结构,利用纳米力学探针和摩擦磨损仪测试薄膜的硬度及摩擦磨损性能.主要讨论了... 采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术,室温下通入C2H2在Si(100)与304不锈钢片上制备nc-ZrC/a-C:H复合薄膜.采用XRD、Raman、XPS、SEM-EDS研究了薄膜的成分及微观结构,利用纳米力学探针和摩擦磨损仪测试薄膜的硬度及摩擦磨损性能.主要讨论了不同C2H2气体流速对复合膜成分、结构及其性能的影响,研究结果表明:C2H2气体流速由20mL·min-1增加到70mL·min-1时,薄膜中的C原子分数逐渐升高;气体流速超过70mL·min-1后,C原子分数趋于平稳(约为75%).随着气体流速的增加,薄膜硬度呈现先增后减的趋势,当气体流速为40mL·min-1时(C原子分数约为65%),制备的薄膜综合机械性能达到最佳(硬度41.49GP,摩擦因数0.25). 展开更多
关键词 磁过滤阴极真空弧(fcva) nc-ZrC/a-C:H 气体流速
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过滤阴极真空电弧(FCVA)镀膜新技术
6
《模具制造》 2002年第10期57-57,共1页
关键词 fcva 过滤阴极真空电弧法 镀膜 专利 刀具 新加坡纳峰科技私人有限公司
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Tuning C-C sp2/sp3 ratio of DLC films in FCVA system for biomedical application 被引量:1
7
作者 Xi Rao Jihan Yang +5 位作者 Zilin Chen Yidie Yuan Qiubing Chen Xue Feng Lizhao Qin Yongping Zhang 《Bioactive Materials》 SCIE 2020年第2期192-200,共9页
Diamond like carbon(DLC)films with different C-C sp2/sp3 ratios were prepared by tuning the N2 flow rate in a filtered cathodic vacuum arc(FCVA)system.The increase of N2 flow rate facilitated the increase of C-C sp2/s... Diamond like carbon(DLC)films with different C-C sp2/sp3 ratios were prepared by tuning the N2 flow rate in a filtered cathodic vacuum arc(FCVA)system.The increase of N2 flow rate facilitated the increase of C-C sp2/sp3 ratio(1.09-2.66),the growth of particle size(0.78-1.58 nm)and the improvement of surface roughness.The SBF immersion results,as well as WCAs(77.57°~71.71°),hemolysis rate(0.14-1.00%)and cytotoxicity level(0)demonstrated that the as-fabricated DLC film was promising for biomedical application.As a result of surface charge effect,the apatite layers formed in the SBF increased with the increase of C-C sp2/sp3 ratio until 1.74 and then showed a tiny decrease during 1.74-2.66.A raise of hemolysis and cytotoxicity was observed when sp2/sp3 ratio was increased.Moreover,a decrease of friction coefficient of Si surface induced by increasing sp2/sp3 ratio was respectively evidenced in ambient air and SBF lubrication environments. 展开更多
关键词 DLC film fcva system Apatite formation HEMOLYSIS CYTOTOXICITY
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类金刚石碳膜的研究进展 被引量:12
8
作者 江功武 于翔 王成彪 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1-6,共6页
从类金刚石碳膜作为耐磨薄膜的角度出发 ,综述了近年来类金刚石碳膜 (DLC)结构、沉积技术、沉积机理和性能方面的相关研究进展。介绍了DLC的相结构、过滤阴极真空弧 (FCVA)、类金刚石碳膜的沉积机理及主要工艺影响因素 ,同时指出了存在... 从类金刚石碳膜作为耐磨薄膜的角度出发 ,综述了近年来类金刚石碳膜 (DLC)结构、沉积技术、沉积机理和性能方面的相关研究进展。介绍了DLC的相结构、过滤阴极真空弧 (FCVA)、类金刚石碳膜的沉积机理及主要工艺影响因素 ,同时指出了存在的问题及研究发展趋势。 展开更多
关键词 相结构 过滤阴极真空弧(fcva) sp^3和氢含量 发展趋势
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磁过滤阴极弧制备类金刚石膜的疲劳性能及摩擦磨损性能研究 被引量:4
9
作者 王慧 张晨辉 +1 位作者 路新春 雒建斌 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期297-302,共6页
利用离面双弯曲磁过滤阴极真空弧沉积系统,在单晶硅片上制备类金刚石薄膜.采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,采用激光拉曼光谱仪对薄膜的结构进行分析,采用多功能纳米力学性能测试仪测定薄膜的硬度、弹性模量及耐疲劳性能,采用微摩擦... 利用离面双弯曲磁过滤阴极真空弧沉积系统,在单晶硅片上制备类金刚石薄膜.采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,采用激光拉曼光谱仪对薄膜的结构进行分析,采用多功能纳米力学性能测试仪测定薄膜的硬度、弹性模量及耐疲劳性能,采用微摩擦磨损试验机考察薄膜的摩擦磨损性能.结果表明:所制备的类金刚石薄膜表面光滑致密,硬度较高;镀膜参数中基体脉冲偏压占空比对薄膜的结构与性能有一定影响. 展开更多
关键词 fcva 类金刚石碳薄膜 疲劳性能 摩擦磨损性能
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纳米弹性复合DLC薄膜的制备及其摩擦性能研究 被引量:3
10
作者 程广贵 丁建宁 +3 位作者 凌智勇 坎标 范真 石超燕 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期207-212,共6页
利用磁过滤阴极真空弧沉积系统在硅片及以硅片为基底的2种弹性体材料表面沉积厚度为2.7nm的DLC膜,采用原子力显微镜和拉曼光谱仪对薄膜的形貌及成分进行分析,用纳米力学测试系统测量薄膜的弹性模量和硬度,用UMT-2型多功能微摩擦磨... 利用磁过滤阴极真空弧沉积系统在硅片及以硅片为基底的2种弹性体材料表面沉积厚度为2.7nm的DLC膜,采用原子力显微镜和拉曼光谱仪对薄膜的形貌及成分进行分析,用纳米力学测试系统测量薄膜的弹性模量和硬度,用UMT-2型多功能微摩擦磨损试验机考察其摩擦性能.结果表明,以γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷(187)为偶联剂的薄膜试样表面比以γ-氨丙基三乙氧基硅烷(APS)为偶联剂的薄膜试样表面更致密且粗糙度更低,薄膜的最上层为DLC膜.在硅表面沉积DLC薄膜可以显著降低其表面的摩擦系数(0.117~0.137),在低载荷条件下,含偶联剂及弹性体的DLC薄膜的摩擦系数低于硅表面沉积DLC的薄膜,且以187为偶联剂的薄膜试样的摩擦性能更佳;在高载荷条件下,硅表面沉积DLC的薄膜具有更优异的摩擦性能. 展开更多
关键词 磁过滤阴极真空弧沉积系统(fcva) 弹性复合薄膜 DLC膜 偶联剂 摩擦性能
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C_2H_2/N_2气流下nc-ZrCN/a-CN_x薄膜成分、结构和力学性能的研究 被引量:1
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作者 周福增 伏开虎 +2 位作者 张旭 廖斌 于晶晶 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期1083-1089,共7页
采用磁过滤阴极真空弧技术(FCVA),以金属Zr为阴极靶,通入不同流速的C_2H_2和N_2气体(两者比例保持为1∶1),在单晶Si(100)晶面上制备nc-ZrCN/a-CN_x纳米复合薄膜。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、X射线电子能谱(XPS... 采用磁过滤阴极真空弧技术(FCVA),以金属Zr为阴极靶,通入不同流速的C_2H_2和N_2气体(两者比例保持为1∶1),在单晶Si(100)晶面上制备nc-ZrCN/a-CN_x纳米复合薄膜。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、X射线电子能谱(XPS)和拉曼散射能谱(Raman)多种材料分析技术研究薄膜的成分和结构。实验结果表明:薄膜是由两种相结构组成,分别为ZrCN纳米晶相(nc-ZrCN)和非晶相(a-CN_x);结构是由平均晶粒尺寸为5~12nm的nc-ZrCN弥散于非晶相a-CN_x中。纳米晶相nc-ZrCN中键态为Zr-C和Zr-N,非晶相aCN_x中键态为C-C,C=C和C-N。利用表面形貌仪(SM)和纳米力学探针(Nanotest)测量了薄膜的内应力、硬度和约化模量等力学性能。分析发现:薄膜中sp3和sp2的含量比(sp3/sp2)越大,内应力越大,内应力最大可达11.5GPa。ZrCN纳米晶粒细化和高的sp3/sp2含量比会提高薄膜的硬度和约化模量。当气流在15~35ml·min^(-1)范围时,薄膜具有很高的硬度和约化模量。当气流为25ml·min^(-1)时,硬度可达35.1GPa,约化模量达297.2GPa。 展开更多
关键词 磁过滤阴极真空弧(fcva) nc-ZrCN/a-CN_x 纳米晶粒细化 sp3/sp2含量比
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超硬超厚类金刚石薄膜合成研究
12
作者 张文英 黄楠 +3 位作者 孙鸿 冷永祥 杨文茂 陈俊英 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期2178-2179,2182,共3页
采用过滤真空阴极直流弧源(FilteredCathodic Vicuum Arc Deposition,FCVA)方法沉积超硬(>6000HV)超厚(微米级)的DLC/DLC多层薄膜.通过显微硬度、内应力测量、XPS等方法表明,该薄膜显著优于普通单层薄膜.
关键词 DLC 类金刚石薄膜 fcva 超硬超厚
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X光电子谱辅助Raman光谱表征N含量对非晶金刚石薄膜的结构影响 被引量:3
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作者 陈旺寿 朱嘉琦 +2 位作者 韩杰才 田桂 檀满林 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期268-272,共5页
用过滤阴极真空电弧沉积系统制备掺N非晶金刚石(ta-C∶N)薄膜,通过在阴极电弧区和沉积室同时通入N2气实现非晶金刚石薄膜的N原子掺杂,并通过控制N2气流速制备不同N原子含量的ta-C∶N薄膜。用X射线光电子能谱(XPS)和Raman光谱分析N含量对... 用过滤阴极真空电弧沉积系统制备掺N非晶金刚石(ta-C∶N)薄膜,通过在阴极电弧区和沉积室同时通入N2气实现非晶金刚石薄膜的N原子掺杂,并通过控制N2气流速制备不同N原子含量的ta-C∶N薄膜。用X射线光电子能谱(XPS)和Raman光谱分析N含量对ta-C∶N薄膜微观结构的影响。XPS分析结果显示:当N2气流速从2 cm3.min-1增加到20 cm3.min-1时,薄膜中N原子含量从0.84 at.%增加到5.37 at.%,同时随薄膜中N原子含量的增加,XPS C(1s)芯能谱峰位呈现单调增加的趋势,XPS C(1s)芯能谱的半高峰宽也随着N含量的增加而逐渐变宽。在Raman光谱中,随N原子含量增加,G峰的位置从1 561.61 cm-1升高到1 578.81 cm-1。XPS C(1s)芯能谱和Raman光谱分析结果表明:随N含量的增加,XPS C(1s)芯能谱中sp2/sp3值和Raman光谱中ID/IG值均呈上升的趋势,两种结果都说明了随N原子含量增加,薄膜中sp2含量也增加,薄膜结构表现出石墨化倾向。 展开更多
关键词 ta-C∶N薄膜 过滤阴极真空电弧沉积(fcva) XPS RAMAN光谱
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非晶金刚石离子镀膜机自动化控制系统的设计 被引量:1
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作者 李冬梅 赵玉清 +1 位作者 赵华森 时立峰 《真空》 CAS 北大核心 2003年第5期19-23,共5页
结合非晶金刚石离子镀膜机的工艺特点和要求 ,本文介绍了一种成功应用的分布式控制系统的设计 ,重点讨论了控制系统的硬件配置、软件设计。
关键词 非晶金刚石离子镀膜机 自动化控制系统 设计 阴极真空等离子电弧技术 fcva
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磁过滤真空弧源沉积技术制备C/C多层类金刚石膜及其摩擦磨损性能研究 被引量:20
15
作者 沟引宁 孙鸿 +2 位作者 黄楠 张文英 冷永祥 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期121-124,共4页
采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在S i基体和GCr15基体表面制备了C/C多层DLC膜,通过X射线光电子能谱仪分析薄膜结构特征;用原子力显微镜观察C/C多层DLC膜的表面形貌;采用台阶仪测试薄膜厚度;利用纳米硬度仪测试薄膜纳米硬度;在销盘... 采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在S i基体和GCr15基体表面制备了C/C多层DLC膜,通过X射线光电子能谱仪分析薄膜结构特征;用原子力显微镜观察C/C多层DLC膜的表面形貌;采用台阶仪测试薄膜厚度;利用纳米硬度仪测试薄膜纳米硬度;在销盘式摩擦磨损试验机上进行C/C多层DLC膜在大气下的摩擦性能评价,同时比较了单层DLC膜、TiN膜和C/C多层DLC膜的耐磨性能.结果表明:C/C多层DLC膜表面光滑、致密,厚度达0.7μm,硬度高达68 GPa,与S iC球对摩时的摩擦系数为0.10左右,耐磨性明显优于单层DLC膜和TiN膜. 展开更多
关键词 磁过滤阴极真空弧源 C/C多层DLC膜 摩擦磨损性能
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MEVVA离子束技术的发展及应用 被引量:8
16
作者 吴先映 廖斌 +4 位作者 张旭 李强 彭建华 张荟星 张孝吉 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期132-138,共7页
金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是MEVVA离子源技术.将载能离子束用于离子注入,可以实现材料表面改性.经过MEVVA源离子注... 金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是MEVVA离子源技术.将载能离子束用于离子注入,可以实现材料表面改性.经过MEVVA源离子注入处理的工具和零部件,改性效果显著,因此MEVVA离子源在离子注入材料表面改性技术中得到很好的应用.另一方面,利用弯曲磁场把等离子体导向到视线外的真空靶室中的同时,过滤掉真空弧产生的液滴(大颗粒),当工件加上适当的负偏压时,等离子体中的离子在工件表面沉积,可以得到高质量的、平整致密的薄膜,称为磁过滤等离子体沉积.是一种先进的薄膜制备的新技术.此外,将MEVVA离子注入与磁过滤等离子体沉积相结合的复合技术,可以首先用离子注入的方法改变基材表面的性能,再用磁过滤等离子体沉积的方法制备薄膜,可以极大的增强薄膜与基材的结合强度,得到性能极佳的薄膜.适用于基材与薄膜性能差别大,结合不易的情况(例如陶瓷、玻璃表面制备金属膜).本文简要介绍了MEVVA离子注入技术、磁过滤等离子体沉积技术和MEVVA复合技术的发展和应用状况. 展开更多
关键词 MEVVA离子注入 磁过滤等离子体沉积 材料表面改性
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类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备 被引量:4
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作者 丁万昱 高鹏 +2 位作者 邓新绿 董闯 徐军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期41-46,49,共7页
类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜。磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到 1万亿字节 /英寸2 。这要求读写磁头距离磁盘更近 ,即需要一层仅 1nm~ 2nm厚的类金刚石薄膜。四面体结构的非晶碳膜能够满足磁存储... 类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜。磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到 1万亿字节 /英寸2 。这要求读写磁头距离磁盘更近 ,即需要一层仅 1nm~ 2nm厚的类金刚石薄膜。四面体结构的非晶碳膜能够满足磁存储技术的要求 ,即形成原子尺度平滑、连续、致密 ,只有几个原子层厚的碳膜。磁过滤阴极弧方法、等离子体增强化学气相沉积方法可用来制备符合要求的超薄碳膜。 展开更多
关键词 非晶碳膜 连续 类金刚石膜 原子 类金刚石薄膜 上限 磁存储 等离子体增强化学气相沉积 超薄 磁头
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磁过滤真空弧源沉积C/C多层复合膜的结构和力学性能研究 被引量:6
18
作者 沟引宁 黄楠 +2 位作者 孙鸿 张文英 冷永祥 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期66-69,73,共5页
采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在不锈钢基体表面制备了C/C多层复合膜,通过X射线光电子能谱、Ra-man光谱对薄膜的结构进行表征;C/C多层膜大气下的摩擦损性能在销盘式摩擦磨损试验机上进行;用洛氏压痕法研究了薄膜与基体的结合强度... 采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在不锈钢基体表面制备了C/C多层复合膜,通过X射线光电子能谱、Ra-man光谱对薄膜的结构进行表征;C/C多层膜大气下的摩擦损性能在销盘式摩擦磨损试验机上进行;用洛氏压痕法研究了薄膜与基体的结合强度。结果表明:C/C多层复合膜为类金刚石结构。它与SiC球大气下的摩擦系数为0.10左右,其摩损性能由于多层膜的引入而显著提高。Ti过渡层的引入显著提高了膜基结合力。 展开更多
关键词 磁过滤直流阴极真空弧源 C/C多层复合膜 X射线光电子能谱 RAMAN光谱 磨损性能
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磁过滤阴极真空弧法制备纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜
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作者 周奎 张旭 +2 位作者 覃礼钊 廖斌 吴先映 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期487-490,共4页
采用磁过滤阴极真空弧法,以C2H2和N2混合气体为反应气体在单晶硅上沉积纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜的能谱仪(SEM-EDS)和X射线电子能谱(XPS)研究了薄膜的成分和结构.实验结果表明薄膜结构是由ZrCN晶粒镶嵌在... 采用磁过滤阴极真空弧法,以C2H2和N2混合气体为反应气体在单晶硅上沉积纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜的能谱仪(SEM-EDS)和X射线电子能谱(XPS)研究了薄膜的成分和结构.实验结果表明薄膜结构是由ZrCN晶粒镶嵌在无定形碳和碳氮化合物基体中;膜中的化合键主要以Zr—C,C C(sp2)和C—C(sp3)形式存在;随着混合气体流量的增加,薄膜的锆原子分数减小,而N和C的原子分数逐渐增大. 展开更多
关键词 磁过滤阴极真空弧法(fcva) 纳米nc ZrCN/a—C:H(N)复合膜 气体流量
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