用蒸镀法制备了SiO2 Ag SiO2 复合膜 ,探讨了水浸腐蚀和薄膜厚度对该复合膜光学特性的影响。试验结果表明 :适当增加复合膜中SiO2 膜层的厚度不但可以提高SiO2 Ag SiO2 复合膜可见光的透光率 ,而且可以相对有效地防止复合膜进一步被氧...用蒸镀法制备了SiO2 Ag SiO2 复合膜 ,探讨了水浸腐蚀和薄膜厚度对该复合膜光学特性的影响。试验结果表明 :适当增加复合膜中SiO2 膜层的厚度不但可以提高SiO2 Ag SiO2 复合膜可见光的透光率 ,而且可以相对有效地防止复合膜进一步被氧化 ,提高SiO2 Ag SiO2展开更多
为了研究膜-基界面对薄膜中晶粒生长以及性能的影响,采用改进嵌入原子法(Modified Embedded Atom Method,MEAM)计算了(001)Ag/(001)Si、(011)Ag/(001)Si、(111)Ag/(001)Si扭转界面的界面能,结果表明:界面能按照(111)Ag/(001)Si,(001)Ag/...为了研究膜-基界面对薄膜中晶粒生长以及性能的影响,采用改进嵌入原子法(Modified Embedded Atom Method,MEAM)计算了(001)Ag/(001)Si、(011)Ag/(001)Si、(111)Ag/(001)Si扭转界面的界面能,结果表明:界面能按照(111)Ag/(001)Si,(001)Ag/(001)Si,(011)Ag/(001)Si的顺序依次增加;从界面能的最小化考虑,Ag的(111)面为择优晶面,择优扭转角为θ为8.16°.展开更多
文摘为了研究膜-基界面对薄膜中晶粒生长以及性能的影响,采用改进嵌入原子法(Modified Embedded Atom Method,MEAM)计算了(001)Ag/(001)Si、(011)Ag/(001)Si、(111)Ag/(001)Si扭转界面的界面能,结果表明:界面能按照(111)Ag/(001)Si,(001)Ag/(001)Si,(011)Ag/(001)Si的顺序依次增加;从界面能的最小化考虑,Ag的(111)面为择优晶面,择优扭转角为θ为8.16°.
