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基于SiO_(2)衬底的超薄β-Ga_(2)O_(3)MOSFET特性
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作者 吴宗烜 赵旭 +2 位作者 刘旭阳 陈春伶 陈海峰 《半导体技术》 北大核心 2026年第2期119-124,共6页
基于超宽禁带β-Ga_(2)O_(3)的MOSFET在功率驱动电路领域具有重要的应用潜力。研究了SiO_(2)衬底上的超薄β-Ga_(2)O_(3)MOSFET的特性。通过采用不同工艺参数制备不同结构的MOSFET,研究薄膜厚度(60、120、180 nm)、退火温度(700、800、... 基于超宽禁带β-Ga_(2)O_(3)的MOSFET在功率驱动电路领域具有重要的应用潜力。研究了SiO_(2)衬底上的超薄β-Ga_(2)O_(3)MOSFET的特性。通过采用不同工艺参数制备不同结构的MOSFET,研究薄膜厚度(60、120、180 nm)、退火温度(700、800、900℃)、源漏电极间距(30、35、40μm)、栅源电极间距(5、10、15μm)等关键工艺与结构参数对器件性能的影响。结果表明:薄膜厚度和退火温度显著影响器件的阈值电压,考虑阈值电压和饱和电流等因素,120 nm厚的薄膜制备的器件性能最好;受亚阈值摆幅及阈值电压的限制,退火温度为900℃时器件性能最优;源漏和栅源电极间距直接调制器件的导通电阻与饱和电流,源漏电极间距为35μm和栅源电极间距为10μm的器件综合性能最佳。本研究为β-Ga_(2)O_(3)基MOSFET的发展提供了参考。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 原子层沉积 MoSFET 退火 电极间距
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β-Ga_(2)O_(3)MOS界面缺陷表征方法研究进展
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作者 张雲龙 马培培 《微纳电子技术》 2026年第3期46-57,共12页
β-Ga_(2)O_(3)MOSFET凭借其高击穿电场强度、低导通电阻和较低的材料成本等优势,在高压及大功率应用领域展现出重要的应用前景。然而,在强电场、高低温循环等苛刻工作条件下,界面缺陷会显著影响器件性能,引发阈值电压漂移和击穿电压退... β-Ga_(2)O_(3)MOSFET凭借其高击穿电场强度、低导通电阻和较低的材料成本等优势,在高压及大功率应用领域展现出重要的应用前景。然而,在强电场、高低温循环等苛刻工作条件下,界面缺陷会显著影响器件性能,引发阈值电压漂移和击穿电压退化等可靠性问题。鉴于陷阱效应是制约β-Ga_(2)O_(3)MOSFET可靠性的核心因素,系统综述了β-Ga_(2)O_(3)MOS结构中典型的界面缺陷表征方法,从测试原理、适用场景与技术特点等方面对各类方法进行了对比分析。其中,传统表征手段(如Terman法、高低频电容-电压(C-V)法、电导法)适用于提取界面态密度,但难以探测深能级缺陷;而新兴技术(如深能级瞬态光谱法(DLTS)、深紫外光辅助C-V法)不仅能够精准表征深能级缺陷,还能获取缺陷的能级位置、俘获截面等信息。在总结当前β-Ga_(2)O_(3)MOS界面缺陷研究进展的基础上,对界面质量优化的关键研究方向进行了展望,以期为提升β-Ga_(2)O_(3)MOSFET的长期可靠性提供理论参考。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 可靠性 阈值电压漂移 电容-电压(C-V)迟滞 界面缺陷表征
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Impact of fluorine plasma and electrothermal annealing on the interfacial properties at Ni/β-Ga_(2)O_(3) Schottky contacts
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作者 Jianggen Zhu Jiaren Feng +7 位作者 Shuting Huang Ning Yang Binju Qiu Enchuan Duan Sheng Liu Bo Zhang Zhaofu Zhang Qi Zhou 《Journal of Semiconductors》 2026年第2期23-31,共9页
The interfacial properties of Schottky contacts crucially affect the performance of power devices. While a few studies have explored the impact of fluorine on Schottky contacts, a comprehensive theoretical explanation... The interfacial properties of Schottky contacts crucially affect the performance of power devices. While a few studies have explored the impact of fluorine on Schottky contacts, a comprehensive theoretical explanation supported by experimental evidence remains lacking. This work investigates the effects of fluorine incorporation and electrothermal annealing(ETA) on the current transport process at Ni/β-Ga_(2)O_(3) Schottky contacts. X-ray photoelectron spectroscopy and first-principles calculations confirm the presence of fluorine substitutions for oxygen and oxygen vacancies and their lowering effect on the Schottky barrier heights. Additionally, accurate electrothermal hybrid TCAD simulations validates the extremely short-duration high temperatures(683 K) induced by ETA, which facilitates lattice rearrangement and reduces interface trap states. The interface trap states are quantitatively resolved through frequency-dependent conductance technique, showing the trap density(DT)reduction from(0.88-2.48) × 10^(11) cm^(-2)·eV^(-1) to(0.46-2.09) × 10^(11) cm^(-2)·eV^(-1). This investigation offers critical insights into the β-Ga_(2)O_(3) contacts with the collaborative treatment and solids the promotion of high-performance β-Ga_(2)O_(3) power devices. 展开更多
关键词 Ni/β-ga_(2)o_(3)interface first-principles calculations Schottky contact fluorine plasma electrothermal annealing
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Solar-blind UV light-modulatedβ-Ga_(2)O_(3)full-wave bridge rectifier
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作者 Haifeng Chen Yuduo Zhang +9 位作者 Xiexin Sun Jingguo Zong Qin Lu Yifan Jia Zhenfu Feng Zhan Wang Lijun Li Xiangtai Liu Shaoqing Wang Yue Hao 《Journal of Semiconductors》 2026年第1期24-28,共5页
A monolithic integrated full-wave bridge rectifier consisted of horizontal Schottky-barrier diodes(SBD)is prepared based on 100 nm ultra-thin β-Ga_(2)O_(3)and demonstrated the solar-blind UV(SUV)light-modulated chara... A monolithic integrated full-wave bridge rectifier consisted of horizontal Schottky-barrier diodes(SBD)is prepared based on 100 nm ultra-thin β-Ga_(2)O_(3)and demonstrated the solar-blind UV(SUV)light-modulated characteristics.Under SUV light illumination,the rectifier has the excellent full-wave rectification characteristics for the AC input signals of 5,12,and 24 V with different frequencies.Further,experimental results confirmed the feasibility of continuously tuning the rectified output through SUV light-encoding.This work provides valuable insights for the development of optically programmable Ga_(2)O_(3)ACDC converters. 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) Schottky-barrier diode full-wave bridge rectifier solar-blind UV
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Uniform wafer-scale MOCVD homoepitaxy of β-Ga_(2)O_(3)on 2-inch(010)substrates
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作者 Xuanze Zhou Haozhong Wu +7 位作者 Yuanjie Ding Ziyuan Wang Zhiyu Zhou Ning Xia Song Zhang Guangwei Xu Hui Zhang Shibing Long 《Chinese Physics B》 2026年第1期576-580,共5页
The(010)orientation ofβ-Ga_(2)O_(3)is a highly promising platform for next-generation lateral power electronics due to its superior theoretical transport properties.However,progress has been impeded by the unavailabi... The(010)orientation ofβ-Ga_(2)O_(3)is a highly promising platform for next-generation lateral power electronics due to its superior theoretical transport properties.However,progress has been impeded by the unavailability of large-area substrates,limiting studies to small-scale samples.Leveraging the recent emergence of 2-inch wafers,we report the first demonstration of homoepitaxial growth on a 2-inch,Fe-doped semi-insulating(010)β-Ga_(2)O_(3)substrate by metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD).A systematic,wafer-scale characterization reveals the successful growth of a highquality epitaxial film.High-resolution x-ray diffraction shows an excellent crystalline structure,with a rocking curve full-width ranging from 21.0 arcsec to 103.0 arcsec.Atomic force microscopy confirms an atomically smooth surface with a root-mean-square roughness below 1.53 nm,displaying a distinct step-flow growth mode across the wafer.Furthermore,mercury-probe capacitance-voltage mapping indicates a well-controlled carrier concentration of~2×10~(18)cm~(-3)with a RSD of 5.12%.This work provides the first comprehensive assessment of 2-inch(010)Ga_(2)O_(3)epitaxial wafers,validating a critical material platform for the development and future manufacturing of high-performance power devices. 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) metal-organic chemical vapor deposition(MoCVD) wafer scale UNIFoRMITY
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Self-powered horizontally structured n–n heterojunction photodetector based on Si–GaN/β-Ga_(2)O_(3) for UV detection
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作者 Muzi Li Maolin Zhang +3 位作者 Xueqiang Ji Shan Li Lili Yang Weihua Tang 《Chinese Physics B》 2026年第2期639-646,共8页
With the rapid advancement of optoelectronic technology,high-performance photodetectors are increasingly in demand in fields such as environmental monitoring,optical communication,and defense systems,where ultraviolet... With the rapid advancement of optoelectronic technology,high-performance photodetectors are increasingly in demand in fields such as environmental monitoring,optical communication,and defense systems,where ultraviolet detection is critical.However,conventional semiconductor materials suffer from limited UV-visible detection capabilities owing to their narrow bandgaps and high dark currents.To address these challenges,wide-bandgap semiconductors have emerged as promising alternatives.Here,we fabricated a horizontally structured n–n heterojunction photodetector by growingβ-Ga_(2)O_(3) on Si–GaN via plasma-enhanced chemical vapor deposition.The device exhibits a self-powered photocurrent of 3.5 nA at zero bias,enabled by the photovoltaic effect of the space charge region.Under 254-nm and 365-nm illumination,it exhibits rectification behavior,achieving a responsivity of 0.475 m A/W(0 V,220??W/cm~2 at 254 nm)and 257.6 mA/W(-5 V),respectively.Notably,the photodetector demonstrates a high photocurrent-to-dark current ratio of 10~5 under-5-V bias,highlighting its potential for self-powered and high-performance UV detection applications. 展开更多
关键词 Si–GaN/β-ga_(2)o_(3) horizontally structured n–n heterojunction SELF-PoWERED
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等离子喷涂Al_(2)O_(3)-40%TiO_(2)强化聚四氟乙烯不粘涂层的制备及其性能研究
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作者 曹达华 高岩 +4 位作者 雒晓涛 申继豪 程志喜 万鹏 李洪伟 《表面技术》 北大核心 2026年第3期252-261,共10页
目的针对传统不粘涂层耐磨性差、表面磨损后疏水性快速衰减等问题,提出一种离散Al_(2)O_(3)-40%TiO_(2)(AT40)陶瓷凸起结构强化的聚四氟乙烯(PTFE)耐磨不粘涂层结构设计,在摩擦磨损中,通过高硬度的陶瓷凸起对摩擦副的支撑作用,避免PTFE... 目的针对传统不粘涂层耐磨性差、表面磨损后疏水性快速衰减等问题,提出一种离散Al_(2)O_(3)-40%TiO_(2)(AT40)陶瓷凸起结构强化的聚四氟乙烯(PTFE)耐磨不粘涂层结构设计,在摩擦磨损中,通过高硬度的陶瓷凸起对摩擦副的支撑作用,避免PTFE被快速磨除,以提高不粘涂层的耐磨性。方法首先,采用等离子喷涂半熔化粒子沉积具有高表面粗糙度的AT40陶瓷涂层;其次,采用PTFE填充AT40陶瓷涂层表面半熔化粒子凸起间的空隙,获得复合涂层。研究喷涂距离对AT40涂层表面结构的影响,揭示AT40涂层表面粗糙度对复合涂层耐磨性能及持久不粘性能的影响规律。结果当喷涂距离从40mm分别提高到80、120、150mm时,等离子喷涂AT40陶瓷涂层的表面粗糙度先减小后增加,在喷涂距离为40mm时,粗糙度Ra最高,为19.3μm,R_(z)为220.4μm。将该条件下制备的AT40陶瓷涂层表面涂覆PTFE面层后,在摩擦磨损25000周后依然能够保持不粘性能,相较于传统的PTFE不粘涂层提升了约4倍。结论大气等离子喷涂的高粗糙度AT40陶瓷底层与PTFE面层的复合耐磨不粘涂层具有优异的耐磨性能和持久的不粘性能,可大幅提升不粘烹饪器皿的使用寿命。 展开更多
关键词 等离子喷涂 Al_(2)o_(3)-40%Tio_(2)/PTFE复合涂层 表面微凸结构 耐磨性 疏水性
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WO_(3)和TiO_(2)共掺V_(2)O_(5)复合薄膜的制备及其光电特性
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作者 王伟 李毅 +1 位作者 刘红薇 施张庆 《电子元件与材料》 北大核心 2026年第1期9-17,共9页
选用五氧化二钒、三氧化钨、二氧化钛粉末和过氧化氢溶液为原料,采用溶胶-凝胶法和后退火工艺在氟掺杂氧化锡导电玻璃基底上制备了三氧化钨和二氧化钛共掺五氧化二钒复合薄膜。通过场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱... 选用五氧化二钒、三氧化钨、二氧化钛粉末和过氧化氢溶液为原料,采用溶胶-凝胶法和后退火工艺在氟掺杂氧化锡导电玻璃基底上制备了三氧化钨和二氧化钛共掺五氧化二钒复合薄膜。通过场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪等表征了最佳配比下复合薄膜的表面形貌、结构和化学组成,利用分光光度计等测试手段分析了复合薄膜的光电特性。结果表明,在400~1200 nm波长范围内,复合薄膜在室温下的平均透过率为52.99%。当温度从室温升至400℃时,复合薄膜的电阻和透过率变化幅度分别达到83.7%和16.12%。在0~3.1 V的偏压下,复合薄膜的透过率随电压的增大而升高,在400~1200 nm波长范围内,平均透过率升高约12.21%;当偏压大于3.1 V时,复合薄膜的透过率随电压的增大而降低。经过多次高低温循环测试,该复合薄膜的光电特性具有较好的可逆热致光电性,在新型光电器件和传感器等领域展现出潜在应用前景。 展开更多
关键词 复合薄膜 V_(2)o_(5) Tio_(2) Wo_(3) 溶胶-凝胶 光电特性
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基于MOCVD的β-Ga_(2)O_(3)同质外延与Al掺异质结外延生长研究进展 被引量:1
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作者 刘洋 何云龙 +4 位作者 陈谷然 陆小力 郑雪峰 马晓华 郝跃 《固体电子学研究与进展》 2025年第1期1-15,共15页
β-Ga_(2)O_(3)是一种具有超宽带隙、高临界击穿场强和优异的巴利加优值的半导体材料,近年来在电力电子与深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用潜力。金属有机化学气相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术凭借其... β-Ga_(2)O_(3)是一种具有超宽带隙、高临界击穿场强和优异的巴利加优值的半导体材料,近年来在电力电子与深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用潜力。金属有机化学气相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术凭借其高生长速率、精确的膜厚控制、优异的薄膜质量和大尺寸生长等优势,成为未来β-Ga_(2)O_(3)走向产业化的潜在方法,并已被广泛应用于β-Ga_(2)O_(3)的外延生长研究。本文对几种常见晶向的β-Ga_(2)O_(3) MOCVD同质外延生长的研究成果进行了概述,并在此基础上介绍了极具潜力的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)的MOCVD外延生长研究现状。最后,总结了基于MOCVD技术的β-Ga_(2)O_(3)同质外延生长以及β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)生长过程中面临的主要问题,并对未来的发展进行了展望。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 金属有机化学气相沉积 同质外延 β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)o_(3)
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研磨和抛光参数对(001)面β-Ga_(2)O_(3)单晶衬底表面质量的影响
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作者 高飞 王英民 +3 位作者 程红娟 张嵩 董增印 辛倩 《半导体技术》 北大核心 2025年第9期915-921,共7页
衬底的表面质量对卤化物气相外延(HVPE)法生长的同质外延薄膜的质量至关重要。研究了(001)面β-Ga_(2)O_(3)单晶衬底研磨和抛光工艺中研磨盘材质、研磨压力、抛光垫种类等参数对材料去除速率(v_(R))、表面粗糙度(R_(a))和表面质量的影... 衬底的表面质量对卤化物气相外延(HVPE)法生长的同质外延薄膜的质量至关重要。研究了(001)面β-Ga_(2)O_(3)单晶衬底研磨和抛光工艺中研磨盘材质、研磨压力、抛光垫种类等参数对材料去除速率(v_(R))、表面粗糙度(R_(a))和表面质量的影响。实验结果表明,采用树脂铜盘、树脂锡盘和SUBA800抛光垫配合3μm粒径的多晶金刚石液研磨,均可以实现塑性域去除,v_(R)分别为3.13、1.23、0.25μm/min,R_(a)分别为16.2、13.2和7.81 nm。在化学机械抛光(CMP)过程中,抛光垫的物性参数直接影响v_(R)和表面质量,采用阻尼布可以实现R_(a)小于0.2 nm、无亚表面损伤的原子级平整表面。采用此衬底进行HVPE法生长的同质外延薄膜形貌均匀,未发现加工相关的缺陷。 展开更多
关键词 (001)面β-ga_(2)o_(3) 原子级平整 表面粗糙度 材料去除速率 化学机械抛光(CMP)
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快速凝固Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷材料先进制备与高温力学性能研究进展
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作者 米文元 王志刚 +9 位作者 付继轩 倪志豪 李鹏博 刘仍谦 张永和 王炫力 谢敏 宋希文 欧阳家虎 牟仁德 《材料工程》 北大核心 2026年第3期81-94,共14页
快速凝固Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷微观结构由超细、三维网状缠结的单晶Al_(2)O_(3)和ZrO_(2)组成,尤其在择优生长方向上表现出优异的高温力学性能,如强度、韧性和高温抗蠕变性等,使其成为高温氧化气氛下长期稳定服役的优选超高温... 快速凝固Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷微观结构由超细、三维网状缠结的单晶Al_(2)O_(3)和ZrO_(2)组成,尤其在择优生长方向上表现出优异的高温力学性能,如强度、韧性和高温抗蠕变性等,使其成为高温氧化气氛下长期稳定服役的优选超高温结构陶瓷材料。本文综述了近些年Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷材料体系、先进制备工艺技术、微观组织特征及高温力学性能的主要研究进展。介绍了当前国内外已开展的Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷的材料体系及其分类;阐述了Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷快速凝固先进制备技术的基本原理、技术优势、局限性及其主要应用领域。重点对快速凝固Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷的典型微观结构和高温力学性能,如高温抗蠕变性和高温抗弯强度进行了系统阐述。相较于传统技术制备的共晶陶瓷,利用快速凝固技术制备的具有独特微观结构和优异力学性能的Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)基共晶陶瓷,不仅提高了传统氧化物陶瓷材料的高温力学性能,尤其是在极端高温、高压及强氧化等恶劣环境下的应用,展现出前所未有的潜力和价值。 展开更多
关键词 Al_(2)o_(3)-Zro_(2) 共晶陶瓷 快速凝固 高温力学 超高温陶瓷
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La_(2)O_(3)、Y_(2)O_(3)协同对Fe/FeAl_(2)O_(4)金属陶瓷显微结构和力学性能的影响
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作者 胡修勇 张福顺 常宏涛 《稀有金属与硬质合金》 北大核心 2026年第1期49-56,82,共9页
基于对稀土协同强化金属陶瓷机制的认知不足问题,本研究通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及电子探针微区分析(EPMA)等,系统探讨了La_(2)O_(3)、Y_(2)O_(3)双掺杂对Fe/FeAl_(2)O_(4)金属陶瓷微观结构以及力学性能的耦合... 基于对稀土协同强化金属陶瓷机制的认知不足问题,本研究通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及电子探针微区分析(EPMA)等,系统探讨了La_(2)O_(3)、Y_(2)O_(3)双掺杂对Fe/FeAl_(2)O_(4)金属陶瓷微观结构以及力学性能的耦合作用。结果表明:La^(3+)优先固溶于FeAl_(2)O_(4)晶格,而Y^(3+)主要富集于晶界形成玻璃网状结构。与未掺杂稀土相比,当La_(2)O_(3)、Y_(2)O_(3)质量分数分别为0.2%和0.5%时,FeAl_(2)O_(4)相的平均晶粒尺寸由28.56 nm降低至27.03 nm。此时材料综合性能最优:相对密度为99.96%,维氏硬度为3766 HV,抗弯强度为138.9 MPa,较未掺杂稀土的样品分别提高4.1%、12.3%和18.6%。机理分析表明,双稀土协同效应促使La-Y-Si-O复合硅酸盐原位生成,La-Y-Si-O相以棒状微晶的形态,通过钉扎效应抑制晶粒粗化,促进相对密度提升,从而提升力学性能。本研究为稀土改性金属陶瓷提供了新的设计策略。 展开更多
关键词 铁基金属陶瓷 稀土协同掺杂 La_(2)o_(3) Y_(2)o_(3) 晶界调控 弥散强化 力学性能
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Cr_(2)O_(3)对CL-20热分解过程的催化机理
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作者 赵宁宁 马海霞 +2 位作者 姚二岗 安亭 赵凤起 《火炸药学报》 北大核心 2026年第1期45-54,I0002,共11页
为阐明Cr_(2)O_(3)纳米颗粒对CL-20热分解的催化机制,通过差示扫描量热法(DSC)结合多模型动力学分析,对比了CL-20及Cr_(2)O_(3)/CL-20复合体系的热行为与反应动力学;运用FWO法、KAS法和Friedman法解析了CL-20及Cr_(2)O_(3)/CL-20热分解... 为阐明Cr_(2)O_(3)纳米颗粒对CL-20热分解的催化机制,通过差示扫描量热法(DSC)结合多模型动力学分析,对比了CL-20及Cr_(2)O_(3)/CL-20复合体系的热行为与反应动力学;运用FWO法、KAS法和Friedman法解析了CL-20及Cr_(2)O_(3)/CL-20热分解过程的动力学参数,并基于Šesták-Berggren经验方程对相应热分解反应进行模型重建;采用热红联用技术探讨了CL-20及Cr_(2)O_(3)/CL-20的热分解路径和产物演化过程。结果表明,Cr_(2)O_(3)纳米颗粒可使CL-20热分解反应的自加速分解温度、临界热点火温度、热分解峰温和热爆炸临界温度分别降低12.8、13.4、8.4、8.7℃,表观活化能降低9.6 kJ/mol;Cr_(2)O_(3)/CL-20的热分解过程遵循n级动力学方程f(α)=2.633α^(0.788)(1-α)^(0.586),表明Cr_(2)O_(3)纳米颗粒可加速CL-20热分解过程,并改变其反应路径。Cr_(2)O_(3)/CL-20热分解气态产物为N_(2)O、CO_(2)、CO、NO、HNCO、HCN。 展开更多
关键词 物理化学 Cr_(2)o_(3) CL-20 燃烧催化剂 热分解行为 催化性能 热动力学
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Al_(2)O_(3)催化糠醛转移加氢制糠醇
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作者 楚紫寅 张臻浩 +2 位作者 于峰 范彬彬 李瑞丰 《精细化工》 北大核心 2026年第2期389-396,共8页
选用3种含不同Si和P质量分数的Al_(2)O_(3)为催化剂,催化糠醛转移加氢制糠醇。利用XRD、SEM、EDS、N2吸附-脱附、Py-FTIR、NH_(3)-TPD和CO_(2)-TPD对催化剂的结构和酸碱性进行了表征,并考察了Al_(2)O_(3)的酸碱性、反应温度和催化剂用... 选用3种含不同Si和P质量分数的Al_(2)O_(3)为催化剂,催化糠醛转移加氢制糠醇。利用XRD、SEM、EDS、N2吸附-脱附、Py-FTIR、NH_(3)-TPD和CO_(2)-TPD对催化剂的结构和酸碱性进行了表征,并考察了Al_(2)O_(3)的酸碱性、反应温度和催化剂用量对糠醛转化率和糠醇选择性的影响。结果表明,3种Al_(2)O_(3)催化剂具有相同的晶体结构和相近的结构性质,但其酸碱性能存在较大的差异,拥有中等Lewis(L)酸量、碱量及Si和P质量分数分别为0.68%和0.22%的B-Al_(2)O_(3)催化剂表现出最好的催化性能。在糠醛转移加氢制糠醇反应中,L酸性位点与碱性位点的协同作用有利于提高糠醛的转化率和糠醇的选择性。B-Al_(2)O_(3)在反应温度为160℃、反应时间为2 h、催化剂用量为300 mg、糠醛用量为3 mmol时,糠醛的转化率和糠醇的选择性均>99%。催化剂经简单焙烧后可重复使用,当第5次使用时,糠醛转化率为96.1%,糠醇选择性为94.3%,催化剂具有良好的循环使用稳定性。 展开更多
关键词 糠醛 Al_(2)o_(3) 糠醇 转移氢化 催化技术
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Ca^(2+)/Mg^(2+)对(Y_(2)O_(3)+ZrO_(2))-YCr_(0.5)Mn_(0.5)O_(3)NTC陶瓷电学性能影响
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作者 谭健 蔡冰 +5 位作者 唐良颖 吴聪 黄婷 刘华臣 向正飞 邓腾飞 《陶瓷学报》 北大核心 2026年第1期78-84,共7页
本文通过在(54 mol%Y_(2)O_(3)+6 mol%ZrO_(2))-40 mol%YCr_(0.5)Mn_(0.5)O_(3)中掺入4 mol%~8 mol%的Ca^(2+)/Mg^(2+),经两步烧结制备负温度系数(Negative Temperature Coefficient,NTC)热敏陶瓷。所有掺杂样品均保持Y_(2)O_(3)与正交... 本文通过在(54 mol%Y_(2)O_(3)+6 mol%ZrO_(2))-40 mol%YCr_(0.5)Mn_(0.5)O_(3)中掺入4 mol%~8 mol%的Ca^(2+)/Mg^(2+),经两步烧结制备负温度系数(Negative Temperature Coefficient,NTC)热敏陶瓷。所有掺杂样品均保持Y_(2)O_(3)与正交钙钛矿相YCr_(0.5)Mn_(0.5)O_(3)双相结构,Ca^(2+)/Mg^(2+)主要固溶于钙钛矿相,显微结构呈“海岛”状分布且致密性良好。电学性能方面,Ca^(2+)能显著降低电阻率,当Ca^(2+)掺杂量为8 mol%时,电阻率较未掺杂样品降低约82%。相比之下,Mg^(2+)掺杂仅将电阻率降至5.14×10^(4)Ω·cm,且对应B值较高。XPS分析表明,掺杂Ca^(2+)/Mg^(2+)后,Mn^(4+)/Cr^(4+)比例上升,Ca^(2+)会取代Y^(3+)引发空穴补偿及小极化子跳跃增强,Mg^(2+)会取代半径接近Cr^(3+)/Mn^(3+),导致改性效果不佳。老化实验显示,Ca^(2+)/Mg^(2+)会增大电阻漂移率,但Zr^(4+)的存在通过提升致密度和细化晶粒抑制空位迁移,使漂移率降低1%~2%。综上,结果表明:Ca^(2+)可优化(Y_(2)O_(3)+ZrO_(2))-YCr_(0.5)Mn_(0.5)O_(3)NTC陶瓷的电阻率、B值及稳定性,具备实际应用潜力。 展开更多
关键词 NTC热敏陶瓷 YCr_(0.5)Mn_(0.5)o_(3) Ca^(2+)/Mg^(2+)掺杂 电阻率调控
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(B_(4)C+Al_(2)O_(3))/Al中子吸收材料的稳定化工艺
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作者 石宝铭 昝宇宁 +2 位作者 王全兆 肖伯律 马宗义 《科技导报》 北大核心 2026年第2期98-107,共10页
(B_(4)C+Al_(2)O_(3))/Al复合材料作为乏燃料干式贮存系统中的关键中子吸收材料,其在高温下长期服役的可靠性直接关系到核废料安全管理的有效性。该结构功能一体化材料在高温下存在非晶Al_(2)O_(3)(am-Al_(2)O_(3))向γ-Al_(2)O_(3)相... (B_(4)C+Al_(2)O_(3))/Al复合材料作为乏燃料干式贮存系统中的关键中子吸收材料,其在高温下长期服役的可靠性直接关系到核废料安全管理的有效性。该结构功能一体化材料在高温下存在非晶Al_(2)O_(3)(am-Al_(2)O_(3))向γ-Al_(2)O_(3)相变的风险,可能导致力学性能降低,但目前对其组织演化规律及性能稳定性的认识仍不足。为此,对(B_(4)C+Al_(2)O_(3))/Al复合材料进行了400℃/100 h和550℃/8 h 2种稳定化工艺处理,并通过400℃下最长4000 h的退火实验验证其长期稳定性。结果表明,经稳定化处理后,复合材料在室温及350℃下的抗拉强度分别保持在220.0和100.0 MPa以上,满足工程应用需求。微观组织分析表明,am-Al_(2)O_(3)部分转化为γ-Al_(2)O_(3),但材料在退火过程中组织与性能均趋于稳定。2种工艺均能有效提升材料的热稳定性,为(B_(4)C+Al_(2)O_(3))/Al复合材料制备的乏燃料干式贮存容器实现长期安全服役提供了材料学依据。 展开更多
关键词 中子吸收材料 (B_(4)C+Al_(2)o_(3))/Al复合材料 稳定化工艺 力学性能 微观组织
原文传递
纳米TiO_(2)对Al_(2)O_(3)陶瓷烧结特性的影响
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作者 陈友梅 李镒成 +5 位作者 何婷 刘应寿 黎阳 肖汉宁 袁谋云 张伟群 《硅酸盐通报》 北大核心 2026年第1期256-263,共8页
以煅烧α-Al_(2)O_(3)粉体为原料、纳米TiO_(2)为烧结助剂、羧甲基纤维素为成型黏结剂,采用模压成型-常压烧结制备了Al_(2)O_(3)陶瓷,研究了烧结温度及纳米TiO_(2)添加量对Al_(2)O_(3)陶瓷微观形貌、线收缩率、物相结构、体积密度、孔... 以煅烧α-Al_(2)O_(3)粉体为原料、纳米TiO_(2)为烧结助剂、羧甲基纤维素为成型黏结剂,采用模压成型-常压烧结制备了Al_(2)O_(3)陶瓷,研究了烧结温度及纳米TiO_(2)添加量对Al_(2)O_(3)陶瓷微观形貌、线收缩率、物相结构、体积密度、孔隙率、抗折强度和白度的影响,评估了烧结特性。结果表明,添加适量纳米TiO_(2)能够显著提高Al_(2)O_(3)陶瓷的烧结性能,而过量纳米TiO_(2)会造成Al_(2)O_(3)晶粒异常长大,进而导致收缩率和体积密度降低、孔隙率增大。当纳米TiO_(2)添加量为0.7%(质量分数)、烧结温度为1 500℃时,Al_(2)O_(3)陶瓷性能较为优异,其抗折强度达到最大值,为(188.89±5.87) MPa,体积密度、孔隙率和白度分别为3.45 g·cm^(-3)、7.78%和76.6。 展开更多
关键词 Al_(2)o_(3)陶瓷 纳米Tio_(2) 模压成型 烧结温度 烧结助剂
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基于长石结构设计高热稳定性BaGa_(2)Si_(2)O_(8):Cr^(3+)宽带近红外荧光粉
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作者 陈龙 王茂骅 +1 位作者 何久洋 艾尔肯·斯地克 《发光学报》 北大核心 2026年第2期289-298,共10页
NIR pc-LED作为新型便携的近红外光源被广泛用于夜视、植物生长、医疗诊断等领域,其性能主要取决于所开发的近红外荧光粉的特性。然而,当前报道的近红外荧光粉普遍面临带宽窄和热稳定性欠佳的挑战,这极大地限制了NIR pc-LED的性能提升... NIR pc-LED作为新型便携的近红外光源被广泛用于夜视、植物生长、医疗诊断等领域,其性能主要取决于所开发的近红外荧光粉的特性。然而,当前报道的近红外荧光粉普遍面临带宽窄和热稳定性欠佳的挑战,这极大地限制了NIR pc-LED的性能提升及其在实际应用中的推广。针对高性能近红外光源对荧光粉热稳定性与发射带宽的迫切需求,本研究基于Cr^(3+)-Cr^(3+)离子对,设计并合成了新型BaGa_(2)Si_(2)O_(8):Cr^(3+)近红外荧光粉。该荧光粉可被450 nm蓝光有效激发,产生半高宽达134 nm的宽带近红外发射(650~1000 nm)。其具有优异的热稳定性,在423 K高温下仍能保持83.67%的初始发光强度,性能优于多数同类材料。基于此制备的NIR pc-LED器件在夜视与生物成像中展现出应用潜力,证实了长石结构材料在开发高性能近红外荧光粉方面的较大潜力。 展开更多
关键词 近红外荧光粉 长石 BaGa_(2)Si_(2)o_(8) 热稳定性 Cr^(3+)-Cr^(3+)离子对
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酸性焙烧-水浸回收废旧LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)过程中添加剂的影响及其机理研究
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作者 宋晓龙 王大辉 +2 位作者 陈怀敬 李彦强 彭小平 《矿冶工程》 北大核心 2026年第1期114-119,共6页
为促进废旧锂离子电池资源化回收利用,提出“酸性焙烧-水浸”的新型工艺,以LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)材料为原料,研究了焙烧过程中添加剂对有价金属元素回收效果的影响。结果表明:LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)与添加剂NaHSO_... 为促进废旧锂离子电池资源化回收利用,提出“酸性焙烧-水浸”的新型工艺,以LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)材料为原料,研究了焙烧过程中添加剂对有价金属元素回收效果的影响。结果表明:LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)与添加剂NaHSO_(4)·H_(2)O、KHSO_(4)、Na_(2)S_(2)O_(7)、K_(2)S_(2)O_(7)分别按物质的量比1∶3、1∶3、1∶1.5、1∶1.5混合后焙烧,有明显的失重与吸热行为;在添加剂存在的情况下,焙烧后LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)中的Li、Ni、Co、Mn分别以相应的硫酸盐形式存在,焙烧产物为块状和致密结构;LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)O_(2)与添加剂的混合物经600℃、0.5 h焙烧后再经水浸,添加剂NaHSO_(4)·H_(2)O、KHSO_(4)、Na_(2)S_(2)O_(7)、K_(2)S_(2)O_(7)对应的金属元素浸出率分别为99.99%、98.97%、99.89%、98.86%。 展开更多
关键词 废旧锂离子电池 LiNi_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3)o_(2) 金属回收 酸性焙烧 添加剂 水浸
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