电子俘获材料KCl:Eu^(2+)的光存储特性研究 被引量：4

1

作者 孙力 王永生 +2 位作者 何志谊 段宁 赵辉 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期117-118,120,共3页

采用高温固相反应法制备出了粉末态的 KCl:Eu2 + 样品 ,研究了 Eu掺杂浓度与光激励发光的关系。测试了样品的发光性能和存储性能 ,并分析了 KCl:Eu2 +的光存储的机制。

关键词 电子俘获材料 光存储 KCl:Eu^2+ 粉末态

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用于光存储的菁染料-聚合物薄膜 被引量：3

2

作者 姚祖光 顾超 +2 位作者 陈欣 唐福龙 顾冬红 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1997年第6期48-50,共3页

用于光存储的菁染料－聚合物薄膜姚祖光＊顾超陈欣唐福龙顾冬红（华东理工大学精细化工研究所上海２００２３７）（中国科学院上海光学精密机械研究所上海）关键词光存储材料，菁染料，合成，激光光盘１９９７－０４－０２收稿，１９９... 用于光存储的菁染料－聚合物薄膜姚祖光＊顾超陈欣唐福龙顾冬红（华东理工大学精细化工研究所上海２００２３７）（中国科学院上海光学精密机械研究所上海）关键词光存储材料，菁染料，合成，激光光盘１９９７－０４－０２收稿，１９９７－０７－０２修回国家自然科学基金... 展开更多

关键词 光存储材料 菁染料 激光光盘 聚合物薄膜

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有机光存储材料及其进展 被引量：16

3

作者 李军 陈萍 《功能材料》 EI CAS CSCD 1996年第1期1-6,共6页

本文介绍了光盘写入及读出过程的基本原理，并就有机光存储材料性能、作用以及当前的发展趋势进行了讨论。

关键词 光盘 光数据存储 有机光存储材料

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光致变色液晶高分子信息存储材料研究进展 被引量：17

4

作者 张会旗 李晨曦 +1 位作者 黄文强 何炳林 《高分子通报》 CAS CSCD 1998年第2期63-69,共7页

光致变色液晶高分子以其独特的优点在信息存储领域显示了光明的应用前景，成为目前国际上研究的热点。本文系统阐述了光致变色液晶高分子的研究概况、光信息存储机理以及信息存储应用方面的研究进展。

关键词 光信息存储 信息存储 液晶高分子

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溅射功率对TbFeCo磁光薄膜特性的影响 被引量：2

5

作者 杨峰 张晓卫 张鹰 《真空电子技术》 1997年第6期43-45,48,共4页

研究直流磁控溅射中溅射功率对ＴｂＦｅＣＯ磁光薄膜成分均匀性、厚度均匀性、克尔旋转角θｋ和矫顽力Ｈｃ的影响。实验结果表明对于全金属互化物相（１００％ＩＭ）ＴｂＦｅＣｏ合金靶，若采用适当的溅射功率，不但能够实现高速率溅射... 研究直流磁控溅射中溅射功率对ＴｂＦｅＣＯ磁光薄膜成分均匀性、厚度均匀性、克尔旋转角θｋ和矫顽力Ｈｃ的影响。实验结果表明对于全金属互化物相（１００％ＩＭ）ＴｂＦｅＣｏ合金靶，若采用适当的溅射功率，不但能够实现高速率溅射，而且可获得较好的成分和厚度均匀性，同时溅射所得薄膜具有大的克尔旋转角和合适的矫顽力。此工艺参数被用于磁光盘的生产。 展开更多

关键词 磁光薄膜 溅射功率 磁光记录技术

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石榴石型磁光存储材料 被引量：1

6

作者 黄敏 张守业 《材料科学与工程》 CSCD 1997年第4期43-46,共4页

稀土铁石榴石薄膜被认为是最具应用前景的下一代磁光记录材料。稀土铁石榴石薄膜具有高的矫顽力、良好的热、化学稳定性及强的磁光效应等特点；特别是当Ｂｉ３＋和Ｃｅ３＋离子部分取代石榴石结构中的稀土离子后，可以极大地增强其磁光... 稀土铁石榴石薄膜被认为是最具应用前景的下一代磁光记录材料。稀土铁石榴石薄膜具有高的矫顽力、良好的热、化学稳定性及强的磁光效应等特点；特别是当Ｂｉ３＋和Ｃｅ３＋离子部分取代石榴石结构中的稀土离子后，可以极大地增强其磁光效应。本文就磁光记录的原理、磁光存储材料、稀土铁石榴石磁光薄膜的制备及其如何降低石榴石薄膜中的晶界噪声等问题作了一些探讨。 展开更多

关键词 石榴石薄膜 磁光存储 溅射 高温热解 存储器

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掺铬钛酸锶晶体的氧化还原诱导吸收及发光的退火效应和浓度效应

7

作者 李运奎 陈述春 +1 位作者 戴凤妹 干福熹 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第2期155-162,共8页

制备了纯的、掺0.005、0.01、0.2和0.5wt％Cr_2O_3的钛酸锶单晶.测量了不同退火条件下的室温透射光谱及6.5K以上的荧光光谱.对晶体的氧化和还原热处理诱导吸收及退火和掺杂浓度对晶体发光的影响进行了较为详细的研究.

关键词 掺铬钛酸锶 氧化 还原 吸收 发光

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无机光子选通光谱烧孔材料的研究

8

作者 虞家琪 黄世华 +7 位作者 张家骅 尉长江 秦伟平 高殿昆 张玲芬 王向军 穆诗今 查斌兵 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1991年第12期1-7,共7页

关键词 光谱烧孔 烧孔 无机材料 光存储

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光学用透明高分子材料 被引量：19

9

作者 朱勤勤 封麟先 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第5期1-6,共6页

介绍了用作光盘、光纤、非球面透镜、光学透明薄膜等光学用透明高分子材料的所需特性，分析了光学用高分子材料的现状和进展，讨论了目前在应用的ＰＣ、ＰＭＭＡ的缺点及改进方法，重点阐述了新型光学用透明高分子材料──非晶聚烯烃的... 介绍了用作光盘、光纤、非球面透镜、光学透明薄膜等光学用透明高分子材料的所需特性，分析了光学用高分子材料的现状和进展，讨论了目前在应用的ＰＣ、ＰＭＭＡ的缺点及改进方法，重点阐述了新型光学用透明高分子材料──非晶聚烯烃的优异光学特性和优良的物理力学性能。 展开更多

关键词 高分子材料 非晶聚烯烃 光盘 材料

全文增补中

光谱烧孔材料

10

作者 张光寅 《材料导报》 EI CAS CSCD 1992年第3期52-55,共4页

概述光谱烧孔效应及其用于高密度光存储的实用意义,并着重介绍光谱烧孔材料的最新进展与尚需解决的问题。

关键词 光谱烧孔 烧孔 光存储 材料

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一类电子俘获型红外可激发材料的制备和光学性质 被引量：19

11

作者 范文慧 王永昌 +4 位作者 龚平 过晓晖 张大慰 刘英 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 1997年第9期803-808,共6页

采用硫化助熔剂法（SFM）合成了具有红外上转换及光存储特性的稀土激活光子学材料CaS：Eu，Sm和CaS：Ce，Sm.利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）等测试了合成材料的物相结构和微观形貌，结果表明，合成材料具有单一相，相纯度在98．... 采用硫化助熔剂法（SFM）合成了具有红外上转换及光存储特性的稀土激活光子学材料CaS：Eu，Sm和CaS：Ce，Sm.利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）等测试了合成材料的物相结构和微观形貌，结果表明，合成材料具有单一相，相纯度在98．5％以上；采用CaCO3制备的合成材料晶化程度更好，生成的晶粒更大．利用荧光光谱仪和分光光度计测量了合成材料的光学性质，结果表明，这类电子俘获材料在紫外线或短波长可见光有效激发下，能通过电子俘获实现光存储，并对近红外光有上转换作用．通过对合成材料及有关稀土元素原子结构分析，提出了两种新的稀土激活剂． 展开更多

关键词 碱土金属硫化物 光谱上转换 光存储材料 红外

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一种含嘧啶、偶氮苯取代丁二炔衍生物的可逆光存储特性 被引量：2

12

作者 王江洪 余从煊 宋瑛林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期546-549,共4页

对PDABS－1/聚酰亚胺薄膜在514．5nmAr+单光子共振吸收下的偶氮存储行为进行了探讨。偶氮分子的存储特性与其光异构反应的能级结构有关。实验还表明，在低功率连续激光作用下该材料具有明显的双折射。其双折射源于线偏振光作用下极性分... 对PDABS－1/聚酰亚胺薄膜在514．5nmAr+单光子共振吸收下的偶氮存储行为进行了探讨。偶氮分子的存储特性与其光异构反应的能级结构有关。实验还表明，在低功率连续激光作用下该材料具有明显的双折射。其双折射源于线偏振光作用下极性分子的重新取向而引起的折射率的变化。在偏振全息实验中，PDABS—1具有较强的位相共轭信号和偏振特性，同时还有一部分全息成分。 展开更多

关键词 偶氮苯 可逆光存储 偶氮分子 光存储介质

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室温下的永久性光谱烧孔 被引量：2

13

作者 张家骅 黄世华 虞家琪 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第2期181-182,共2页

本文首次报导了Sm^(2+)掺杂的碱土金属氟卤化物在室温下的光谱烧孔.室温下永久性光谱烧孔的实现,将对频域光存储的应用起到推动作用.

关键词 室温 光谱烧孔 碱土金属 氟卤化物

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基于EPC材料编码系统的研究

14

作者 梁维民 《工程建设项目管理与总承包》 2010年第3期21-31,共11页

材料信息编码一直是工程公司信息化过程中的一个重要问题。公司要实施信息化，无论是EPC材料信息控制系统，还是其他与EPC工程有关的信息系统，首当其冲的问题就是如何进行信息分类编码。本文着眼于WISONEPC工程材料管理实务，旨在透过... 材料信息编码一直是工程公司信息化过程中的一个重要问题。公司要实施信息化，无论是EPC材料信息控制系统，还是其他与EPC工程有关的信息系统，首当其冲的问题就是如何进行信息分类编码。本文着眼于WISONEPC工程材料管理实务，旨在透过材料编码数据库配合工程材料管理信息系统的合理应用，阐述了一个基于EPC工程的面向多种材料的编码规则、体系结构以及信息处理的实施方法。 展开更多

关键词 EPC设备材料编码 编码体系结构 编码原则 软件实现

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光盘级聚碳酸酯及其注射成型工艺 被引量：4

15

作者 陈志东 《现代塑料加工应用》 CAS 1999年第5期32-35,42,共5页

介绍了光盘级聚碳酸酯的牌号、性能、市场及发展 ,分析了影响其注射成型的工艺因素 ,讨论了DVD用PC树脂的要求 ,提出了成型工艺控制要点。

关键词 光盘 聚碳酸酯 注射成型 材料

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吲哚啉苯并螺噻喃用于可擦光盘存储材料的研究概况 被引量：4

16

作者 刘蔚 姚祖光 《感光材料》 北大核心 1994年第6期8-11,16,共5页

综述了吲哚啉苯并螺噻喃研究现状与动向，介绍了它们的结构、合成方法和在可擦光盘存储材料中的光致变色性能。

关键词 存储材料 吲哚啉 苯并螺噻喃 光盘

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高强度防激光、防眩光PC材料的研究

17

作者 王丽熙 花超 +4 位作者 张其土 王庭慰 杨国甫 蒋海滨 李名琦 《应用激光》 CSCD 北大核心 2006年第1期39-41,38,共4页

随着激光技术的不断发展和应用领域的不断扩大,研制一种高性能的防激光、防眩光材料,具有重要的应用价值和国防意义。以聚碳酸酯作为基材,通过在基材中加入防激光、防眩光吸收剂IR530、IR580I、R1060,制备了能同时防护0.53μm、1.06μm... 随着激光技术的不断发展和应用领域的不断扩大,研制一种高性能的防激光、防眩光材料,具有重要的应用价值和国防意义。以聚碳酸酯作为基材,通过在基材中加入防激光、防眩光吸收剂IR530、IR580I、R1060,制备了能同时防护0.53μm、1.06μm波长激光和0.50-0.58μm范围眩光的高强度PC材料。研究结果表明,当在PC中加入0.10%的IR530、0.08%的IR580和0.48%的IR1060时,具有良好的防激光、防眩光性能,其中在0.53μm、1.06μm波长处的透过率都为0.01%(光学密度D=4),在0.50-0.58μm范围的透过率≤0.1%。同时该防激光、防眩光PC材料的可见光透过率为14.2%,冲击强度为54.8kJ/m2,抗弯强度为124MPa。因此,这是一种性能优良的防激光、防眩光材料。 展开更多

关键词 激光 眩光 防护 透过率 抗冲击强度

原文传递

红外光激励下稀土共掺杂SrS中的光存储

18

作者 孟宪国 何志毅 +1 位作者 孙力 王永生 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2000年第6期367-369,共3页

研究了 Sr S∶ Eu,Sm,Ce在紫外和蓝光辐照下的光激励发光 ,分析了不同写入光激发下光激励发射谱的差异 ,发现空穴束缚对其起决定性的作用。对电子发生转移的途径和光激励过程中电子的释放过程以及基质中不同稀土离子的作用进行了探讨。... 研究了 Sr S∶ Eu,Sm,Ce在紫外和蓝光辐照下的光激励发光 ,分析了不同写入光激发下光激励发射谱的差异 ,发现空穴束缚对其起决定性的作用。对电子发生转移的途径和光激励过程中电子的释放过程以及基质中不同稀土离子的作用进行了探讨。与双掺杂的 Sr S∶Eu,Sm及 Sr S∶Ce,Sm相比 ,Sr S∶ Eu,Sm,Ce的存储密度有进一步的提高。 展开更多

关键词 光存储 红外激励发光 稀土离子 掺杂 SRS

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与光学数据存储有关的非线性光学晶体的研究和关键问题(英文)

19

作者 张道昌 徐学武 《世界科技研究与发展》 CSCD 1998年第2期102-108,共7页

蓝光激光源和全息存储预示着未来光学数据存储中高记录密度的实现。倍频晶体和光折变晶体因其独特的光功能将在光存储领域中起重要作用。我们强调两种重要的非线性光学晶体一KLN和Ce:SBN,它们正在Data Storage Institute被生长和研究。... 蓝光激光源和全息存储预示着未来光学数据存储中高记录密度的实现。倍频晶体和光折变晶体因其独特的光功能将在光存储领域中起重要作用。我们强调两种重要的非线性光学晶体一KLN和Ce:SBN,它们正在Data Storage Institute被生长和研究。简要介绍了这两种晶体的性能和现状,并分别与两种著名的KN和Fe:LN晶体作了比较。 展开更多

关键词 非线性光学晶体 光学数据存储 光存储

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光学级聚碳酸酯在光盘应用方面的技术指南(二) 缺陷的原因与排除

20

作者 朱永 张纪州 《光盘技术》 2000年第1期40-44,共5页

在上一期中,我们就目前使用最广泛的光盘制作原料——光学级聚碳酸脂(PC)材料在复制生产各个环节的技术参数进行了初步的分析,并提供了长期实践过程中总结的技术参数。虽然,人们不断从各个方面吸取成功的经验,但在具体生产过程中还会因... 在上一期中,我们就目前使用最广泛的光盘制作原料——光学级聚碳酸脂(PC)材料在复制生产各个环节的技术参数进行了初步的分析,并提供了长期实践过程中总结的技术参数。虽然,人们不断从各个方面吸取成功的经验,但在具体生产过程中还会因为这样、那样的原因无可避免的出现各种质量缺陷,特别是国内大量新的复制单位和生产线处于调试和试生产阶段,各种缺陷的出现更为频繁。为此,本期我们就光盘生产过程中可能出现的各种缺陷进行分析,并分析出现缺陷的原因和解决的方法。 展开更多

关键词 光学材料 聚碳酸酯 光盘 缺陷

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