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TC4钛合金表面WSi2/W5Si3复合涂层制备及性能研究 被引量：1
1
作者 吴龙 马捷 +1 位作者 魏建忠 李洪义 《钛工业进展》 CAS 北大核心 2020年第5期18-22,共5页
利用磁控溅射(PVD)、化学气相沉积(CVD)以及热扩散渗硅方法在TC4钛合金表面制备WSi2/W5Si3复合涂层。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪对复合涂层的结构、组织形貌以及微区化学成分进行分析;对复合涂层显微硬度、附着力以及耐磨性进... 利用磁控溅射(PVD)、化学气相沉积(CVD)以及热扩散渗硅方法在TC4钛合金表面制备WSi2/W5Si3复合涂层。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪对复合涂层的结构、组织形貌以及微区化学成分进行分析;对复合涂层显微硬度、附着力以及耐磨性进行测试。结果表明:WSi2/W5Si3复合涂层的WSi2层和W5Si3层厚度分别为20、56μm,显微硬度平均值分别为10.70和8.32 GPa;WSi2/W5Si3复合涂层与基体结合力为171.6 N;WSi2/W5Si3复合涂层表面摩擦因数为0.75,磨损率为1.184×10^-6 mm 3·mm^-1。在TC4钛合金表面制备的WSi2/W 5Si3复合涂层结构均匀致密,与基体结合良好。 展开更多
关键词 钛合金 化学气相沉积 复合涂层 结合力 耐磨性
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