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高速水基两相流对SLMCoCrMo燃油喷嘴微细复杂流道的光整研究
1
作者 边娟鸽 王百川 +3 位作者 王超 张超 米天健 郝娟 《电镀与精饰》 北大核心 2025年第5期120-127,共8页
随着SLM CoCrMo燃油喷嘴在航空航天等领域的应用需求不断提升,化学、电化学、磨粒流、磨料水射流等目前常见抛光方法对消除燃油喷嘴内流道表面缺陷均存在较大局限性,因此改善SLM CoCrMo燃油喷嘴微细复杂内流道的表面质量是目前亟待解决... 随着SLM CoCrMo燃油喷嘴在航空航天等领域的应用需求不断提升,化学、电化学、磨粒流、磨料水射流等目前常见抛光方法对消除燃油喷嘴内流道表面缺陷均存在较大局限性,因此改善SLM CoCrMo燃油喷嘴微细复杂内流道的表面质量是目前亟待解决的关键问题之一。本文基于高速水基磨粒两相流抛光方法,选用碳化硅作为磨粒材料制备低黏水基抛光介质,在不同的抛光压力条件下对SLM燃油喷嘴二维试样内流道进行光整处理。采用扫描电子显微镜、激光共聚焦扫描显微镜、流体动力特性检测平台、洛氏硬度计等检测手段对比分析抛光前后内流道表面微观形貌、表面粗糙度、尺寸精度、流量及洛氏硬度。结果表明,高速水基磨粒两相流可显著去除SLM燃油喷嘴内流道表面的黏粉、台阶等缺陷,口径尺寸精度均在合理范围内。随着抛光压力由2 MPa增大至3.5 MPa,流道壁面由部分去除到基本完全去除,最终转变为明显子弹流状的过磨痕迹,流道表面粗糙度、洛氏硬度均呈现先减小后增大的变化趋势。当抛光压力为2.5 MPa时,抛光后的流道表面粗糙度达到最小值1.415μm(原始9.090μm),流道口径扩大尺寸控制精度较好,去除速率由0.0127 mm/min增大至0.0143 mm/min,喷嘴流量由原始12.47 kg/h增加至21.47 kg/h,流道表面洛氏硬度由原始27.4 HRC提升至32.6 HRC,内流道表面光整效果达到最佳。 展开更多
关键词 高速水基磨粒两相流 抛光压力 表面粗糙度 去除速率
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聚乙烯醇对单晶硅精抛的影响
2
作者 王雪洁 王辰伟 +4 位作者 罗翀 周建伟 陈志博 杨啸 刘德正 《润滑与密封》 北大核心 2025年第4期144-150,共7页
针对单晶硅精抛后存在沾污等缺陷,目前采用的高分子聚合物添加剂存在泡沫多或是大幅度影响去除速率等问题,选取高分子聚合物聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)作为抛光液添加剂。在SiO_(2)磨料质量分数为0.5%且抛光液pH为10.5的条件下,... 针对单晶硅精抛后存在沾污等缺陷,目前采用的高分子聚合物添加剂存在泡沫多或是大幅度影响去除速率等问题,选取高分子聚合物聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)作为抛光液添加剂。在SiO_(2)磨料质量分数为0.5%且抛光液pH为10.5的条件下,研究不同质量分数的PVA对单晶硅(Si)精抛的影响,并通过拉曼光谱、XPS分析PVA的吸附方式及其作用机制。大颗粒粒度仪、接触角测量仪以及AFM和SEM分析结果表明,单晶硅精抛光液中加入PVA可以提高抛光液的润湿性,降低硅表面的颗粒沾污,提高抛光后的表面质量;拉曼光谱、XPS表征结果表明,抛光液中加入PVA会生成更多的Si-OH,保护了Si表面,减少了Si表面的颗粒数量,改善了硅表面的表面质量;在单晶硅精抛光液中加入PVA,可以满足集成电路单晶硅CMP精抛的去除速率的要求,并且能够大幅降低硅表面的颗粒沾污;当PVA质量分数为0.15%时,单晶硅精抛的去除速率为210 nm/min且抛光后的表面颗粒数量下降95%以上,具有较好的表面质量(Sq=0.326 nm)。 展开更多
关键词 单晶硅 化学机械抛光 颗粒沾污 表面质量 去除速率
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椰油酰胺丙基甜菜碱对多晶硅栅极化学机械平坦化的影响
3
作者 刘德正 周建伟 +5 位作者 罗翀 王辰伟 王雪洁 张国林 田雨暄 孙纪元 《润滑与密封》 北大核心 2025年第5期150-157,共8页
为提高多晶硅化学机械抛光(CMP)过程中对SiO_(2)和Si_(3)N_(4)的去除速率选择比,通过抛光实验、接触角分析、XPS光电子能谱分析和AFM测试等手段,分析了椰油酰胺丙基甜菜碱(CAB)对多晶硅CMP的影响。结果表明:CAB的加入降低了抛光过程中... 为提高多晶硅化学机械抛光(CMP)过程中对SiO_(2)和Si_(3)N_(4)的去除速率选择比,通过抛光实验、接触角分析、XPS光电子能谱分析和AFM测试等手段,分析了椰油酰胺丙基甜菜碱(CAB)对多晶硅CMP的影响。结果表明:CAB的加入降低了抛光过程中的温度和摩擦力;当CAB质量分数为0.03%时,多晶硅去除速率降低至151.5 nm/min,降幅约为15.8%,但CAB提高了抛光液的润湿性,使多晶硅CMP后的表面粗糙度降至0.93 nm;在碱性条件下,由于多晶硅、二氧化硅、氮化硅表面ζ电位的差异,CAB通过氢键优先吸附在SiO_(2)和Si_(3)N_(4)表面,从而将二者的去除速率抑制至1 nm/min左右,此时多晶硅对SiO_(2)和Si_(3)N_(4)的去除速率选择比均达到120∶1以上,满足了实际生产要求。 展开更多
关键词 椰油酰胺丙基甜菜碱 多晶硅 二氧化硅 氮化硅 化学机械抛光 选择比
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脂肪醇聚氧乙烯醚对铝栅CMP中铝和多晶硅去除速率选择比的影响
4
作者 曹钰伟 王胜利 +5 位作者 罗翀 王辰伟 张国林 梁斌 杨云点 盛媛慧 《润滑与密封》 北大核心 2025年第4期73-79,共7页
为了提高高K金属栅结构(HKMG)化学机械拋光(CMP)中铝和多晶硅去除速率选择比,研究酸性环境下(pH=5)非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO9)对铝和多晶硅去除速率选择比的影响,并探究其作用机制。研究发现,AEO9质量分数为0.01%时,铝和... 为了提高高K金属栅结构(HKMG)化学机械拋光(CMP)中铝和多晶硅去除速率选择比,研究酸性环境下(pH=5)非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO9)对铝和多晶硅去除速率选择比的影响,并探究其作用机制。研究发现,AEO9质量分数为0.01%时,铝和多晶硅的速率选择比最高,达到了3.8,并且改善了铝和多晶硅的CMP后的表面质量,表面粗糙度分别为0.756、0.324 nm。电化学、XPS、接触角、表面张力表征结果表明,表面活性剂AEO9可以在被抛材料Al和多晶硅晶圆表面形成致密的吸附膜,从而通过影响抛光中的机械摩擦作用和化学作用,使抛光材料去除速率减小,并减小了Al和多晶硅晶圆表面的粗糙度。 展开更多
关键词 高K金属栅结构 化学机械拋光 脂肪醇聚氧乙烯醚 去除速率 多晶硅
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镍基高温合金微小孔重熔层化学抛光去除工艺
5
作者 白宇 郭策 +2 位作者 李秀红 胡傅俟 苏文豪 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第4期63-68,共6页
[目的]针对镍基高温合金Inconel 625电火花加工微小孔产生的重熔层缺陷,采用氢氟酸-硝酸混合液进行化学抛光试验。[方法]研究了氢氟酸与硝酸的体积比和抛光时间对试件质量损失率和孔壁粗糙度下降率的影响。分析了较优条件下化学抛光前... [目的]针对镍基高温合金Inconel 625电火花加工微小孔产生的重熔层缺陷,采用氢氟酸-硝酸混合液进行化学抛光试验。[方法]研究了氢氟酸与硝酸的体积比和抛光时间对试件质量损失率和孔壁粗糙度下降率的影响。分析了较优条件下化学抛光前后孔壁各部位的表面形貌、轮廓及元素成分。[结果]当氢氟酸与硝酸的体积比为1∶6时,化学抛光90 min后试件的质量损失率为0.56%,孔壁表面粗糙度下降率达到64.11%,孔壁重熔层被有效去除,表面品质显著提升。[结论]化学抛光能够有效去除镍基高温合金电火花加工微小孔的重熔层,改善孔壁表面品质,适用于复杂曲面和深孔的表面处理。 展开更多
关键词 镍基高温合金 化学抛光 电火花加工 重熔层 微小孔 表面品质
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镍钛合金心血管支架的电化学抛光工艺
6
作者 王雅丽 李志永 +2 位作者 张威 于亚洲 柴明霞 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第2期30-35,共6页
[目的]选择性激光熔化(SLM)技术制备的镍钛合金组件表面品质往往较差,表面常附着一些部分熔化的粉末,应进行适当的表面处理。[方法]采用氯化钠-乙二醇电解液对选区激光熔化制备的镍钛合金心血管支架进行电化学抛光。研究了电压、温度和... [目的]选择性激光熔化(SLM)技术制备的镍钛合金组件表面品质往往较差,表面常附着一些部分熔化的粉末,应进行适当的表面处理。[方法]采用氯化钠-乙二醇电解液对选区激光熔化制备的镍钛合金心血管支架进行电化学抛光。研究了电压、温度和抛光时间对镍钛合金心血管支架表面粗糙度的影响。分析了较佳条件下电化学抛光后心血管支架的表面形貌、化学成分和表面润湿性。[结果]较佳的电化学抛光参数为:电压25 V,温度28℃,时间25 min。在该条件下电化学抛光后,NiTi合金支架表面变得光滑均匀,表面粗糙度Sa低至0.31μm,水接触角增大到103.5°,即疏水性提升。[结论]电化学抛光能够显著提高以SLM工艺制备的镍钛合金心血管支架的表面品质,提高其生物兼容性。 展开更多
关键词 镍钛合金 心血管支架 电化学抛光 表面粗糙度 形貌 疏水性
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碳化硅晶圆化学机械抛光工艺优化
7
作者 李萍 张宝玉 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第3期127-132,共6页
[目的]化学机械抛光(CMP)技术广泛应用于半导体制造的多个环节,是实现晶圆表面平坦化的关键步骤,而工艺参数显著影响着CMP效果。[方法]通过正交试验研究了压力、抛光盘转速、磨料粒径及抛光液pH对SiC晶圆抛光时材料去除速率和表面粗糙... [目的]化学机械抛光(CMP)技术广泛应用于半导体制造的多个环节,是实现晶圆表面平坦化的关键步骤,而工艺参数显著影响着CMP效果。[方法]通过正交试验研究了压力、抛光盘转速、磨料粒径及抛光液pH对SiC晶圆抛光时材料去除速率和表面粗糙度的影响。[结果]当在压力400 N、抛光盘转速80 r/min、磨料粒径550 nm、pH 10的条件下抛光时,SiC晶圆Si面和C面的材料去除速率最大,分别为3.85μm/h和4.00μm/h,表面粗糙度也较小,Ra分别为0.165 nm和0.171 nm。[结论]工艺参数是影响材料化学机械抛光效果的重要因素,应合理控制,以实现晶圆表面高效率和高品质的抛光效果。 展开更多
关键词 碳化硅晶圆 化学机械抛光 材料去除速率 表面粗糙度
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等离子体电化学抛光参数对GH2787变形高温合金的影响分析
8
作者 李欣 潘娜 +3 位作者 邓娟 程鑫 蒋玉平 辛彬 《新技术新工艺》 2025年第2期37-43,共7页
通过对GH2787合金材料表面进行等离子体电化学抛光试验,分别利用光学显微镜、X射线衍射仪(XRD)和电化学极化曲线测量技术对其表面形貌、相结构、残余应力和耐蚀性进行了表征。结果发现:在电解液浓度ω=5%、加热温度T=80℃、抛光时间t=5 ... 通过对GH2787合金材料表面进行等离子体电化学抛光试验,分别利用光学显微镜、X射线衍射仪(XRD)和电化学极化曲线测量技术对其表面形貌、相结构、残余应力和耐蚀性进行了表征。结果发现:在电解液浓度ω=5%、加热温度T=80℃、抛光时间t=5 min、电压U=260、280和300 V条件下,等离子体电化学抛光可快速将表面粗糙度Ra从530 nm降低至63.8 nm,基体表面未产生新的物相,并且残余应力、近表面硬度与初始状态相当,基体耐蚀性提高。该抛光方法为表面改性提供了良好基础,分析了电压对抛光效果和基体材质的影响:电压较低时,对材料去除速率较慢,升高至300 V时,基体材料吸氢增加且腐蚀速率未进一步提升。本试验采用的最佳抛光参数:U=280 V,ω=5%,T=80℃,t=5 min。 展开更多
关键词 等离子体电化学抛光 表面粗糙度 氢含量 变形高温合金 抛光参数 耐蚀性
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高温氧化316L不锈钢电解抛光工艺
9
作者 张硕 梁潇 +5 位作者 束春慧 朱晴晴 赵雪同 燕爱林 王振卫 汪玉 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第2期20-29,共10页
[目的]不锈钢在高温烧结后表面会形成致密的灰黑色氧化膜,影响后续加工及使用,因此需要采取措施去除该氧化膜。[方法]对高温氧化后的316L不锈钢先进行浸蚀和酸洗处理,再电解抛光。通过正交试验和单因素实验优化了酸洗液的配方和工艺条... [目的]不锈钢在高温烧结后表面会形成致密的灰黑色氧化膜,影响后续加工及使用,因此需要采取措施去除该氧化膜。[方法]对高温氧化后的316L不锈钢先进行浸蚀和酸洗处理,再电解抛光。通过正交试验和单因素实验优化了酸洗液的配方和工艺条件。重点研究了电解抛光过程中电流密度和抛光时间对316L不锈钢表面粗糙度和耐蚀性的影响。对比了不同工序处理后316L不锈钢的表面轮廓和微观形貌变化。[结果]较佳的酸洗配方和工艺条件为:盐酸220 mL/L,硫酸70 mL/L,金属盐X 60 g/L,温度70℃,时间6 min。电解抛光的较佳工艺条件为:电流密度50 A/dm^(2),抛光时间85 s。在此条件下处理后,316L不锈钢的表面粗糙度Ra降至0.3262μm,表面均匀平滑,耐蚀性显著提升。[结论]通过浸蚀和酸洗前处理再电解抛光,可有效去除高温氧化316L不锈钢表面的氧化膜,降低表面粗糙度,并显著提高其耐蚀性。 展开更多
关键词 不锈钢 高温氧化 表面处理 酸洗 电解抛光 耐腐蚀性能
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草酸对钨膜化学机械抛光性能的影响
10
作者 李丁杰 周建伟 +4 位作者 罗翀 孙纪元 刘德正 杨云点 冯鹏 《润滑与密封》 北大核心 2025年第5期109-114,135,共7页
在钨(W)化学机械抛光(CMP)过程中,虽然加入过多的硝酸铁可以提高钨的去除速率,但会引入较多的Fe^(3+),可能对器件性能产生不利影响。选择成本低并且对环境友好的草酸作为钨抛光液中的络合剂,研究草酸对CMP过程中钨去除速率和表面质量的... 在钨(W)化学机械抛光(CMP)过程中,虽然加入过多的硝酸铁可以提高钨的去除速率,但会引入较多的Fe^(3+),可能对器件性能产生不利影响。选择成本低并且对环境友好的草酸作为钨抛光液中的络合剂,研究草酸对CMP过程中钨去除速率和表面质量的影响。结合电化学实验、X射线光电子能谱(XPS)和密度泛函理论(DFT),揭示草酸在CMP中的作用机制。结果表明:抛光速率随草酸质量分数的增加先增大后减小,当草酸质量分数为0.04%时抛光速率最大。这可能是由于草酸质量分数较小时,草酸与Fe^(3+)的络合反应较弱,而与WO_(3)的溶解反应较强;草酸浓度较高时,草酸与Fe^(3+)的络合反应增强,而与WO_(3)的溶解反应减弱。当加入质量分数0.04%的草酸时,钨的去除速率显著提高。 展开更多
关键词 化学机械抛光 钨去除速率 表面质量 草酸 硝酸铁
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OLED柔性屏印痕改善验证及叠层设计
11
作者 乐其河 郭峰 +1 位作者 缪骋 陈梅玲 《液晶与显示》 北大核心 2025年第7期976-982,共7页
OLED柔性屏因超薄、高对比度及优异的色彩表现,已成为移动终端显示技术的核心发展方向。然而,其组装过程中易因外力作用产生“印痕”缺陷,直接影响产品良率与用户体验。本文以柔性手表为例,系统分析了两种典型印痕(FPC边缘拉扯型与器件... OLED柔性屏因超薄、高对比度及优异的色彩表现,已成为移动终端显示技术的核心发展方向。然而,其组装过程中易因外力作用产生“印痕”缺陷,直接影响产品良率与用户体验。本文以柔性手表为例,系统分析了两种典型印痕(FPC边缘拉扯型与器件压应力型)的成因,并通过两轮实验验证了不同材料、叠层结构及泡棉组合对印痕的抑制效果。实验结果表明,采用更硬质材料(如PET替换PI)、优化叠层顺序(硬质材料靠近受力点)、增强NFC基材厚度与覆盖膜设计,可显著提升抗印痕能力。提出的叠层优化方案使印痕压力阈值最高提升128%,为柔性屏工业化设计提供了理论依据。 展开更多
关键词 OLED柔性屏 印痕 叠层设计 抗压性能
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增材制造细长内流道结构金属工件的电解抛光工艺
12
作者 范会玉 卢岩 +3 位作者 钟晓红 王建超 姜金朋 杨宇阔 《金属加工(冷加工)》 2025年第3期44-47,共4页
通过对不锈钢管件内表面的电解抛光试验,研究了一种增材制造细长内流道结构金属工件的电解抛光工艺方法,包括工具阴极、绝缘工装夹具设计,电解抛光装置搭建及工艺参数的选择适配等,进一步提高了产品内表面质量。
关键词 增材制造 内流道结构 电解抛光 工艺参数
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基于NaCl溶液的电解抛光工艺参数研究
13
作者 龚伟明 朱威 《中国新技术新产品》 2025年第6期53-55,共3页
针对地震仪器中存在的一些形状特殊的铜质零部件,本文提出以NaCl溶液作为电解液,通过正交试验的方式确定铜片电解抛光工艺的最佳温度、电解液流速和电解液浓度,并研究了通电时间对抛光效果的影响。结果表明,随着通电时间增加,铜片表面... 针对地震仪器中存在的一些形状特殊的铜质零部件,本文提出以NaCl溶液作为电解液,通过正交试验的方式确定铜片电解抛光工艺的最佳温度、电解液流速和电解液浓度,并研究了通电时间对抛光效果的影响。结果表明,随着通电时间增加,铜片表面粗糙度先减小后增大。当温度为60℃、电解液浓度为50%、电解液流速为800mL/min、电流密度为50A/dm^(2)、通电100s时,铜片表面粗糙度最低,为0.175μm。 展开更多
关键词 NACL溶液 铜片 电解抛光 表面粗糙度
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车架号电化学复现反应过程优化与作用机理研究
14
作者 汪金涛 张晓顺 +2 位作者 张希昊 刘建国 谢瑾 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第8期143-152,共10页
[目的]针对目前车辆识别代码(VIN)主流复现方法存在腐蚀速率低、复现效果差、对人体和环境危害大等缺陷,亟需开发一种经济高效且绿色环保的复现技术,以满足司法鉴定与车辆管理的需求。[方法]通过构建基于盐酸的电化学腐蚀体系,引入强电... [目的]针对目前车辆识别代码(VIN)主流复现方法存在腐蚀速率低、复现效果差、对人体和环境危害大等缺陷,亟需开发一种经济高效且绿色环保的复现技术,以满足司法鉴定与车辆管理的需求。[方法]通过构建基于盐酸的电化学腐蚀体系,引入强电解质氯化钠,利用其在溶液中充分解离产生的大量载流子来提高体系的电导率,调控金属表面电化学溶解动力学过程。此外,得益于点蚀和缝隙腐蚀对金属表面电化学不均匀性的加剧作用,塑性形变区域与正常金属基体之间的电位差增大,促使车架号字符区域因微观结构差异而呈现出更高的选择性阳极氧化反应,进一步增强复现结果的对比度。[结果]在6 V电压下,采用浓度均为0.10 mol/L的盐酸与氯化钠混合电解液可在4~5 min内实现对经锉磨消除车架号的高效复现。[结论]该强电解质电化学蚀刻体系的构建有效增强了车架号复现效果,缩短了复现时间,且具有良好的环保特性。 展开更多
关键词 车辆识别代码 复现 碳钢 腐蚀 电化学 法庭科学
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激光功率对Fe68 Pro合金熔覆层显微组织和力学性能的影响 被引量：1
15
作者 高正华 王飞宇 +2 位作者 赵汉卿 孟玲玉 胡明 《表面工程与再制造》 2025年第3期45-52,共8页
钢铁冶金行业中大量热传输辊材质为Q235钢和球磨铸铁,尽管这些材料价格较低,但存在着服役性能低、寿命短、更换频繁等问题。为提高热传输辊的性能、延长服役寿命,采用激光熔覆技术在Q235钢表面制备Fe68 Pro合金熔覆层,对Q235进行表面改... 钢铁冶金行业中大量热传输辊材质为Q235钢和球磨铸铁,尽管这些材料价格较低,但存在着服役性能低、寿命短、更换频繁等问题。为提高热传输辊的性能、延长服役寿命,采用激光熔覆技术在Q235钢表面制备Fe68 Pro合金熔覆层,对Q235进行表面改性。利用金相显微镜、扫描电子显微镜、显微硬度仪、X射线衍射仪和摩擦磨损试验机研究不同激光功率对熔覆层组织结构、显微硬度及摩擦磨损性能的影响。结果表明,Fe68 Pro合金熔覆层具有由平面胞状晶、柱状晶,向柱状晶、树枝晶和细小等轴晶过渡的组织特征,主要由α-Fe、Fe-Cr和Cr-Ni-Fe-C相组成;熔覆层与基体形成良好的冶金结合,与基体相比,熔覆层的显微硬度和耐磨性显著增加;当激光功率为1400 W、扫描速度为10 mm/s时,可以获得最佳力学性能的熔覆层,显微硬度达到602 HV_(0.3),较Q235钢基体实现了265%的提升,耐磨性也显著提高,这为钢铁冶金行业中高性能长寿命热传输辊的工业应用奠定了一定的基础。 展开更多
关键词 Fe68 Pro合金粉 激光熔覆 组织结构 显微硬度 耐磨性
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选区激光熔化制备的多孔钛电解质等离子抛光工艺研究
16
作者 田宇星 李雪芝 杨帅波 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第6期76-86,共11页
[目的]利用电解质等离子抛光技术(PEP)对选区激光熔化(SLM)制备的多孔钛表面进行抛光处理,以满足医疗植入物对表面粗糙度的要求。[方法]通过分析抛光中多孔钛装夹方式和抛光深度变化对内表面抛光效果的影响来揭示等离子气体层(VGE)对材... [目的]利用电解质等离子抛光技术(PEP)对选区激光熔化(SLM)制备的多孔钛表面进行抛光处理,以满足医疗植入物对表面粗糙度的要求。[方法]通过分析抛光中多孔钛装夹方式和抛光深度变化对内表面抛光效果的影响来揭示等离子气体层(VGE)对材料去除的作用机制,使用超景深显微镜考察工作电压、抛光时间及电解液温度对多孔钛内外表面抛光效果的影响。设计了三因素三水平的正交试验,以确定最佳工艺参数,并对抛光前后表面形貌、物相组成及元素成分进行表征。[结果]在水平装夹的情况下,抛光深度3 cm时多孔钛内表面呈现金属光泽。VGE波动是PEP材料去除的关键。通过正交试验得到最佳工艺参数为:电压260 V,温度70℃,时间35 min。达到了1.81μm的平均表面粗糙度(Ra)。各因素对多孔钛表面粗糙度影响的大小顺序为温度>时间>电压。抛光后多孔钛表面有如下变化:光泽度和平整度显著提升;各衍射峰不仅强度显著增加,而且半高宽显著减小;氧元素含量下降,钛元素含量上升。[结论]电解质等离子抛光可以有效降低多孔钛内外表面的粗糙度,该工艺在医学上具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 多孔钛 选区激光熔化 电解质等离子抛光 正交试验 表面粗糙度
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基于Jacquet黏膜模型的中碳钢EBSD电解制样工艺参数研究
17
作者 王震宇 王建梅 毛泱博 《重型机械》 2025年第1期38-43,共6页
为解决中碳钢在电子背散射衍射(EBSD)分析中存在的样品制备问题,本文对42CrMo钢进行了电解抛光实验。绘制了该材料的阳极极化曲线,研究了表面质量与电解电压及电解时间的关系。基于Jacquet黏膜模型,结合材料的阳极极化曲线和电流-时间曲... 为解决中碳钢在电子背散射衍射(EBSD)分析中存在的样品制备问题,本文对42CrMo钢进行了电解抛光实验。绘制了该材料的阳极极化曲线,研究了表面质量与电解电压及电解时间的关系。基于Jacquet黏膜模型,结合材料的阳极极化曲线和电流-时间曲线,通过微观表征及粗糙度测量,确定并验证了42CrMo钢的最佳电解抛光工艺参数。研究结果表明:随着电解电压、电解时间增加,试样表面质量先上升后下降,且钝化区电位宽度窄,易进入过钝化区。在0~5℃范围内,选用10%分析纯高氯酸无水乙醇溶液作为电解液时,42CrMo钢最佳电解抛光工艺参数为30 V电压和5 s电解时间。该工艺下制备的试样表面粗糙度(Ra)为0.021μm,EBSD标定率约为98%。研究结果为不同中碳钢材料及同种材料不同微观组织提供了确定最佳电解抛光工艺参数的参考。 展开更多
关键词 电子背散射衍射 试样制备 中碳钢 阳极极化曲线 电解抛光
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DD6镍基单晶高温合金电化学抛光实验
18
作者 马宁 李兴琦 李青 《沈阳航空航天大学学报》 2025年第2期1-8,共8页
为了进一步提高DD6镍基单晶高温合金表面质量和耐蚀性能,选取甲酰胺-氨基磺酸溶液,对DD6镍基单晶高温合金开展电化学抛光实验,研究了抛光电压、电解液浓度和抛光时间对抛光后表面质量的影响。结果表明,在抛光电压为20 V、电解液浓度为1.... 为了进一步提高DD6镍基单晶高温合金表面质量和耐蚀性能,选取甲酰胺-氨基磺酸溶液,对DD6镍基单晶高温合金开展电化学抛光实验,研究了抛光电压、电解液浓度和抛光时间对抛光后表面质量的影响。结果表明,在抛光电压为20 V、电解液浓度为1.2 mol/L、抛光时间为2 min条件下,表面粗糙度最低值为0.358μm,此时表面效果达到最佳。同时发现,在高电压(30 V)和高酸浓度(1.6 mol/L)的条件下,DD6样件表面出现不规则的蚀坑和杂质颗粒,表面质量较差。经过电化学抛光,DD6样件的光亮度明显提高,通过实验得出抛光电压是影响表面光亮度的关键参数。分析表面元素得出,抛光后表面O元素含量少,说明抛光过程中并未生成含有金属氧化物的钝化膜。DD6样件抛光前后Tafel曲线表明,抛光后DD6样件的自腐蚀电位更正,自腐蚀电流更小,因此电化学抛光也提升了DD6样件的耐蚀性能。 展开更多
关键词 DD6镍基单晶高温合金 电化学抛光 表面粗糙度 耐蚀性能 表面质量
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高压扭转处理及快速退火对Fe_(50)Mn_(30)Co_(10)Cr_(10)多主元合金微观组织与力学性能的影响
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作者 赵文哲 周长山 +5 位作者 胡东奇 梁国珂 栾平凯 刘萍萍 宫建红 宋凯凯 《材料开发与应用》 2025年第3期15-25,44,共12页
系统研究了高压扭转(HPT)处理及快速退火对Fe_(50)Mn_(30)Co_(10)Cr_(10)多主元合金微观结构与力学性能的影响规律,旨在为多主元合金的设计和优化提供数据和理论依据。研究表明,HPT处理显著细化了合金晶粒,促进了马氏体相变,并引入了高... 系统研究了高压扭转(HPT)处理及快速退火对Fe_(50)Mn_(30)Co_(10)Cr_(10)多主元合金微观结构与力学性能的影响规律,旨在为多主元合金的设计和优化提供数据和理论依据。研究表明,HPT处理显著细化了合金晶粒,促进了马氏体相变,并引入了高密度位错和剪切带;退火温度对合金的相变、再结晶以及析出相的演变行为均具有显著影响。在400℃退火后,马氏体占主导地位,同时存在少量富Cr析出相;当退火温度升至600℃时,奥氏体体积占比增加,但马氏体仍为主导相,富Cr析出相的形貌发生变化;在700℃和800℃退火后,合金的再结晶程度显著提高,奥氏体成为主要相,富Cr析出相减少;当退火温度达到900℃时,合金几乎完全转变为奥氏体,富Cr析出相消失;在1000℃退火后,马氏体重新出现,晶粒显著粗化;硬度测试结果表明,HPT处理使合金的硬度从中心处沿径向方向整体逐渐上升。随着退火温度的升高,加工应力有效消除、再结晶程度逐渐提高、位错逐步湮灭以及富Cr析出相逐渐减少直至消失,在多种因素的综合作用下,合金的整体硬度逐渐下降。 展开更多
关键词 高熵合金 高压扭转 快速退火 微观组织演变
原文传递
电化学加工表面均匀性的多变量统计过程控制
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作者 樊双蛟 李登榜 +1 位作者 杨逸 庞桂兵 《机床与液压》 北大核心 2024年第19期21-26,共6页
零件表面粗糙度对其使用性能有重要影响。为了解决零件表面单一粗糙度参数不能全面反映零件加工表面缺陷的问题,提出一种将基于相关性分析和主元分析的多变量统计过程控制应用于电化学光整加工零件表面均匀性评价的方法。设计无表面缺... 零件表面粗糙度对其使用性能有重要影响。为了解决零件表面单一粗糙度参数不能全面反映零件加工表面缺陷的问题,提出一种将基于相关性分析和主元分析的多变量统计过程控制应用于电化学光整加工零件表面均匀性评价的方法。设计无表面缺陷和有表面缺陷两个样件进行对比实验,在电化学光整加工之后记录两个样件的多项表面粗糙度参数,先进行多个参数的单变量统计过程控制,再对多个粗糙度参数进行相关性分析和主元分析,得到综合评价值绘制统计控制图。对比分析结果表明:对于存在局部缺陷的表面,相比单一粗糙度参数,采用综合评价控制图检测零件表面缺陷更准确;基于相关性分析和主元分析的多变量统计过程控制是评价电化学光整加工零件表面均匀性的有效方法。 展开更多
关键词 表面质量 多变量统计过程控制 主元分析 粗糙度参数
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