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h-LuFeO_(3)/YSZ异质结的显微结构与光学带隙研究
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作者 钱珍 乔贝贝 +3 位作者 姚婷婷 江亦潇 杨志卿 陈春林 《电子显微学报》 北大核心 2026年第1期27-34,共8页
h-LuFeO_(3)多铁薄膜与衬底构成的高质量异质结是其器件应用的基础,然而高温工艺下的界面稳定性是关键挑战。通过综合运用X射线衍射、透射电子显微术与光谱学分析,本研究系统探讨了h-LuFeO_(3)/YSZ异质结在高温退火过程中的界面演化及... h-LuFeO_(3)多铁薄膜与衬底构成的高质量异质结是其器件应用的基础,然而高温工艺下的界面稳定性是关键挑战。通过综合运用X射线衍射、透射电子显微术与光谱学分析,本研究系统探讨了h-LuFeO_(3)/YSZ异质结在高温退火过程中的界面演化及其对微观结构与光学性质的影响。研究结果表明,高温退火将导致Lu元素和少量Fe元素从h-LuFeO_(3)薄膜向YSZ衬底扩散,Lu和Fe在界面处的偏聚随温度升高而加剧并最终形成(Y,Zr,Lu,Fe)O_(2-x)固溶体扩散层。伴随着界面元素扩散及薄膜微观结构演化,带隙由初始的3.4 eV显著增大至4.2 eV。本工作从原子尺度揭示了界面元素扩散对多铁薄膜性能的决定性调控作用,为多铁异质结的界面设计与工艺优化提供了关键依据。 展开更多
关键词 h-LuFeO_(3)/YSZ异质界面 元素扩散 透射电子显微学 脉冲激光沉积 带隙
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同位素^(150)Sm和^(147)Sm核反应靶的制备
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作者 孙乐妍 孟波 +3 位作者 王华 张榕 马海亮 樊启文 《原子能科学技术》 北大核心 2026年第2期458-465,共8页
通过库仑激发实验研究稀土区Sm系列同位素的核结构需要使用同位素^(150)Sm和^(147)Sm金属单质靶作为核反应靶。为将^(150)Sm_(2)O_(3)和^(147)Sm_(2)O_(3)高效率地还原成^(150)Sm和^(147)Sm金属单质,设计和建立了新型还原与蒸馏装置,研... 通过库仑激发实验研究稀土区Sm系列同位素的核结构需要使用同位素^(150)Sm和^(147)Sm金属单质靶作为核反应靶。为将^(150)Sm_(2)O_(3)和^(147)Sm_(2)O_(3)高效率地还原成^(150)Sm和^(147)Sm金属单质,设计和建立了新型还原与蒸馏装置,研究了Sm_(2)O_(3)的还原与蒸馏工艺,并成功将粉末状^(150)Sm_(2)O_(3)和^(147)Sm_(2)O_(3)还原蒸馏成钟乳石状^(150)Sm和^(147)Sm。结果显示,Zr是一种优选的还原剂,密闭式水冷DLC/Cu针收集器的效果更好,最佳还原温度和还原时间分别为1500℃和30 min,^(150)Sm_(2)O_(3)和^(147)Sm_(2)O_(3)的还原收集效率分别为94.8%和95.3%,还原蒸馏过程几乎没有引入额外的杂质。采用滚轧技术制备自支撑同位素^(150)Sm和^(147)Sm单质靶,厚度分别为2.1 mg/cm^(2)和2.3 mg/cm^(2),材料利用率均接近100%。采用碳弧-超短源衬距离转动衬底蒸发复合镀膜技术制备^(150)Sm/C和^(147)Sm/C靶,使用扫描电子显微镜研究蒸发电流对Sm靶表面质量的影响。结果显示,蒸发电流为75~80 A时沉积的Sm靶表面光洁度较好,无明显缺陷和液滴;C衬厚度为25μg/cm^(2),^(150)Sm和^(147)Sm靶厚度分别为255μg/cm^(2)和267μg/cm^(2),^(150)Sm和^(147)Sm的材料利用率分别为7.19%和7.32%。 展开更多
关键词 ^(150)Sm靶 ^(147)Sm靶 还原蒸馏 滚轧 真空蒸发
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周期性光学薄膜应力建模
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作者 董莹 刘莹奇 +3 位作者 陶忠 贠平平 胡荣 韩娟妮 《应用光学》 北大核心 2026年第1期73-79,共7页
光学薄膜应力会严重影响光学器件的表面面形,研究多层薄膜残余应力是高面形精度多层薄膜器件研制的核心。基于膜系结构和工艺过程重构周期性多层膜结构,建立了周期性多层膜残余应力模型,此模型与中心波长λ_(0)、单周期应力σ_(C)、周期... 光学薄膜应力会严重影响光学器件的表面面形,研究多层薄膜残余应力是高面形精度多层薄膜器件研制的核心。基于膜系结构和工艺过程重构周期性多层膜结构,建立了周期性多层膜残余应力模型,此模型与中心波长λ_(0)、单周期应力σ_(C)、周期数m及周期间应力σ_(C|C)有关。设计了中心波长λ_(0)=900 nm的周期性多层膜,使用应力模型估测残余应力,沉积该样片并通过基底形变法测试残余应力。测试结果表明,使用应力模型估测的残余应力与实测残余应力的误差约为30%,证明建立的周期性多层膜应力模型具有较高的精确度,适用于周期性多层膜应力估测。 展开更多
关键词 光学薄膜 膜层应力 周期性多层膜 表面面形 界面应力
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集光效应对InGaN太阳能电池性能的影响研究
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作者 袁天昊 王党会 +3 位作者 张梦凡 许天旱 冯超宇 赵淑 《电子与封装》 2026年第1期89-94,共6页
InGaN以其高吸收系数、直接带隙特性及与太阳光谱的良好匹配,成为高效光伏电池的理想材料。基于Silvaco仿真软件,研究了室温下不同光照强度对p-n结InGaN太阳能电池性能参数的影响。结果表明,太阳能光伏电池的性能参数均与光照强度具有... InGaN以其高吸收系数、直接带隙特性及与太阳光谱的良好匹配,成为高效光伏电池的理想材料。基于Silvaco仿真软件,研究了室温下不同光照强度对p-n结InGaN太阳能电池性能参数的影响。结果表明,太阳能光伏电池的性能参数均与光照强度具有明显的相关性,其中短路电流密度和功率转换效率受光照强度影响较为明显,而开路电压受光照强度的影响变化较小——这是由于较高的光照强度虽然提高了电子-空穴对的生成率,但同时耗尽区对载流子俘获与复合增大了反向饱和电流。得出的结论对进一步设计和开发更高效能的太阳能光伏电池提供了理论依据。 展开更多
关键词 集光效应 InGaN太阳能电池 功率转换效率 光电性能
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区域选择性原子层沉积的研究现状与发展趋势
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作者 武晓瑞 欧阳亦 +2 位作者 石建军 陆雪强 左雪芹 《功能材料与器件学报》 2026年第1期53-66,共14页
近年来,随着制造技术进入原子级时代,纳米制造技术取得了显著进步。然而,随着制造尺寸的不断缩小,传统的“沉积—光刻—刻蚀”工艺在精度、效率及成本等方面面临前所未有的挑战,亟须开发新型的技术路线。区域选择性原子层沉积技术可利... 近年来,随着制造技术进入原子级时代,纳米制造技术取得了显著进步。然而,随着制造尺寸的不断缩小,传统的“沉积—光刻—刻蚀”工艺在精度、效率及成本等方面面临前所未有的挑战,亟须开发新型的技术路线。区域选择性原子层沉积技术可利用材料在不同区域的成核差异来实现选择性沉积,因而能够在特定区域实现纳米尺度的高效、精确和可控沉积,被认为是替代传统工艺的潜在技术之一。本文从区域选择性原子层沉积的基本原理出发,系统综述其工艺发展现状,并简要介绍区域选择性原子层沉积的主要应用领域,最后对该技术的未来发展趋势进行展望。 展开更多
关键词 原子层沉积 区域选择性沉积 纳米制造 原子制造
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基于离心制膜技术制备石墨烯导电薄膜
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作者 雷金龙 刘锐 张辉 《辽宁化工》 2026年第1期85-91,共7页
导电薄膜被广泛应用在各个领域,然而现有的制膜方法和材料都限制了导电薄膜的发展。本文采用石墨烯作为导电材料,用不同的分散剂和处理工艺制备了石墨烯分散液,采用一种新型离心制膜技术制备了石墨烯导电薄膜。结果表明:羧甲基纤维素钠... 导电薄膜被广泛应用在各个领域,然而现有的制膜方法和材料都限制了导电薄膜的发展。本文采用石墨烯作为导电材料,用不同的分散剂和处理工艺制备了石墨烯分散液,采用一种新型离心制膜技术制备了石墨烯导电薄膜。结果表明:羧甲基纤维素钠分散石墨烯的效果较好,当石墨烯和羧甲基纤维素钠在石墨烯分散液中的质量比为1∶1时,制备出的石墨烯分散液比较稳定,Zeta电位值为-41.2。采用离心制膜技术制备出了厚度为800 nm、平均方块电阻为4×10^(4)Ω/□、表面算术平均粗糙度R_(a)为94 nm的石墨烯超薄导电薄膜。 展开更多
关键词 石墨烯 离心制膜技术 超薄导电薄膜
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Thickness dependence of the magnetic properties of barium ferrite films prepared by pulsed laser deposition
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作者 Chengbo Zhao Bowei Han +5 位作者 Yuchen Zhao Yang Sun Lichen Wang Ruoshui Liu Yunzhong Chen Dengjing Wang 《Chinese Physics B》 2026年第2期591-594,共4页
BaFe_(12)O_(19)(BaM)thin films with thicknesses ranging from 15 nm–200 nm were deposited on Al_(2)O_(3)(0001)substrates by pulsed laser deposition(PLD).X-ray diffraction patterns show that a buffer layer with a thick... BaFe_(12)O_(19)(BaM)thin films with thicknesses ranging from 15 nm–200 nm were deposited on Al_(2)O_(3)(0001)substrates by pulsed laser deposition(PLD).X-ray diffraction patterns show that a buffer layer with a thickness of nearly 60 nm forms on the substrate,and then a c-axis perpendicularly oriented Ba M thin film grows on the buffer layer.Atomic force microscopy results indicate that the Ba M thin film exhibits a spiral island growth mode on the buffer layer.Magnetic hysteresis loop results confirm that the buffer layer exhibits no significant magnetic anisotropy,while the Ba M thin film exhibits perpendicular magnetic anisotropy.The out-of-plane coercivity decreases with increasing Ba M thin-film thickness due to the combined effect of grain size growth and lattice strain relaxation.The 200 nm thick film exhibits optimum magnetic properties with M_(s)=319 emu/cm^(3) and H_(c)=1546 Oe. 展开更多
关键词 pulsed laser deposition barium hexaferrite film self-made buffer layer perpendicular magnetic anisotropy film thickness
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气体分离膜材料从空气中分离氙气性能研究 被引量:2
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作者 陈占营 刘蜀疆 +3 位作者 常印忠 盛毓强 王建龙 黑东炜 《膜科学与技术》 北大核心 2025年第1期137-145,共9页
大气放射性氙监测对于核试验检测具有重要意义.以从空气中分离浓缩氙为应用背景,实验测试了N_(2)、O_(2)、CO_(2)和Xe 4种气体在不同类别膜材料中的渗透性,评价了不同膜材料对4种气体之间的分离性能;考察了温度、压力等操作条件变化对... 大气放射性氙监测对于核试验检测具有重要意义.以从空气中分离浓缩氙为应用背景,实验测试了N_(2)、O_(2)、CO_(2)和Xe 4种气体在不同类别膜材料中的渗透性,评价了不同膜材料对4种气体之间的分离性能;考察了温度、压力等操作条件变化对氙气分离性能的影响.结果表明,在聚酰亚胺(PI)、聚苯醚(PPO)和聚砜(PSf)3类材料中,PI具有明显优于其他两类材料的氙气分离性能;温度和压力变化对氙气分离性能的影响均不明显.上述研究工作对于气体分离膜从空气中分离氙气的实际应用具有重要意义. 展开更多
关键词 气体分离膜 放射性氙 渗透性能 分离性能
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图案表面粗糙度对有机分子区域选择性生长的影响 被引量:1
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作者 聂青苗 石亮 +5 位作者 汪长超 蒋悦 陈乃波 胡来归 王文冲 鄢波 《浙江工业大学学报》 北大核心 2025年第1期52-57,共6页
区域选择性生长(ASG),即有机分子在预图案表面上的自组装技术,在有机微/纳米图案化方面具有巨大的发展潜力。为了研究图案表面粗糙度在ASG中的明确作用,在粗粒化各向异性相互作用的动力学蒙特卡罗(KMC)模型中引入了无序强度参数描述图... 区域选择性生长(ASG),即有机分子在预图案表面上的自组装技术,在有机微/纳米图案化方面具有巨大的发展潜力。为了研究图案表面粗糙度在ASG中的明确作用,在粗粒化各向异性相互作用的动力学蒙特卡罗(KMC)模型中引入了无序强度参数描述图案表面粗糙度,进一步模拟了有机分子在不同表面粗糙度图案上的沉积行为。研究结果表明图案表面粗糙度会影响有机分子沉积形貌:表面越光滑,图案顶部生长的薄膜越厚;相反,当图案表面变得更粗糙时,粒子更倾向于以台阶边缘诱导的方式生长在图案的间隔处,与实验结果高度吻合。由此可见粗糙度可用于控制有机图案的成核分配,以实现不同的应用,如全彩显示器和微透镜阵列。 展开更多
关键词 区域选择性生长 动力学蒙特卡罗 有机分子
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HfO_(2)基铁电材料准静态负电容机理
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作者 尹志岗 董昊 +3 位作者 程勇 吴金良 张志伟 张兴旺 《北京工业大学学报》 北大核心 2025年第3期269-276,共8页
HfO_(2)基铁电薄膜的负电容现象提供了解决微纳电子器件功耗问题的可行策略,但其物理图像却一直饱受争议。基于Landau-Devonshire和Landau-Khalatnikov方程,对铁电HfO_(2)/介质双层体系开展了理论模拟。结果表明:根植于零场吉布斯自由... HfO_(2)基铁电薄膜的负电容现象提供了解决微纳电子器件功耗问题的可行策略,但其物理图像却一直饱受争议。基于Landau-Devonshire和Landau-Khalatnikov方程,对铁电HfO_(2)/介质双层体系开展了理论模拟。结果表明:根植于零场吉布斯自由能及准静态极化-电场曲线的准静态负电容理论,难以如实反映极化-电场动态演化轨迹。与准静态负电容理论的预言不同,HfO_(2)/介质体系的负电容强烈依赖于介质层分压效应,具有瞬态属性。回滞现象与Landau-Khalatnikov方程中的阻尼系数相关,本质上起源于热耗散过程,基于电容匹配原理很难完全消除回滞。与阻尼系数相关的热耗散随频率增大而急剧增加,因此负电容场效应晶体管并不适用于高频应用领域。该研究有助于深入理解HfO_(2)基体系中的负电容物理起源。 展开更多
关键词 负电容 极化-电压曲线 回滞 吉布斯自由能 热耗散 氧化铪基铁电材料
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面向10 kV以上碳化硅器件耐压区厚外延技术研究
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作者 房玉龙 李帅 +3 位作者 芦伟立 王健 李建涛 王波 《微纳电子技术》 2025年第6期20-26,共7页
随着10 kV及以上超高压碳化硅(SiC)功率器件在柔性输电等领域的需求增长,开发低位错、低缺陷密度、长少子寿命的厚外延材料成为关键挑战,是当前SiC材料研究的核心问题。基于单片水平式SiC外延设备,通过引入双界面调制缓冲层外延生长技术... 随着10 kV及以上超高压碳化硅(SiC)功率器件在柔性输电等领域的需求增长,开发低位错、低缺陷密度、长少子寿命的厚外延材料成为关键挑战,是当前SiC材料研究的核心问题。基于单片水平式SiC外延设备,通过引入双界面调制缓冲层外延生长技术,成功实现了对缓冲层与衬底及漂移层之间界面应力的调控,显著降低了外延片基平面位错密度,结合漂移层生长速率、缓冲层工艺以及C/Si比的协同优化,显著提升了4H-SiC厚外延材料的性能。实验结果表明:优化后的缓冲层工艺通过渐变掺杂设计有效调控界面应力,将基平面位错密度从1.5 cm^(-2)降至0.07 cm^(-2);同时,通过将生长速率提升至70μm/h并优化C/Si比至0.85,成功制备了厚度100μm、掺杂浓度2.5×10^(14)cm^(-3)的高质量外延层,原生少子寿命均值达1.76μs,材料均匀性及表面缺陷密度均满足10 kV以上超高压器件耐压区需求。 展开更多
关键词 超高压 基平面位错 C/Si比 双界面调制缓冲层 少子寿命
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星载激光雷达用高面形精度分光镜的设计与制备(特邀)
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作者 余德明 李大琪 +2 位作者 刘保剑 庄秋慧 段微波 《光学学报(网络版)》 2025年第21期59-66,共8页
分光镜是星载激光系统中重要的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统的测距分辨率和精确度。采用离子束辅助电子束蒸发的沉积工艺在石英基底上制备了Nb_(2)O_(5)、SiO_(2)薄膜,研究了不同沉积条件对Nb_(2)O_(5)、SiO_(2)薄膜应力特性的... 分光镜是星载激光系统中重要的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统的测距分辨率和精确度。采用离子束辅助电子束蒸发的沉积工艺在石英基底上制备了Nb_(2)O_(5)、SiO_(2)薄膜,研究了不同沉积条件对Nb_(2)O_(5)、SiO_(2)薄膜应力特性的影响,并进行了沉积工艺参数优化。采用薄膜应力补偿技术,研制出具有高面形精度的可见近红外分光镜。该分光镜的工作角度为50°,在400~800 nm工作波段内平均反射率优于98%,1064 nm反射率约为5%,透射率大于94%,均方根粗糙度优于λ/40(λ为波长),膜层可靠性与空间环境适应性满足在轨工程应用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 分光镜 面形精度 薄膜应力
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Mg掺杂对TiO_(2)薄膜光学性能影响
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作者 王玉新 张虹宇 +3 位作者 周正凯 张心怡 李燕鑫 宋欣 《辽宁师范大学学报(自然科学版)》 2025年第3期373-380,共8页
以无水乙醇作为溶剂采用溶胶-凝胶法(Sol-gel)制备了Mg掺杂浓度分别为0at%、1.50at%、2.00at%、2.50at%、3.00at%的TiO_(2)薄膜.并利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见... 以无水乙醇作为溶剂采用溶胶-凝胶法(Sol-gel)制备了Mg掺杂浓度分别为0at%、1.50at%、2.00at%、2.50at%、3.00at%的TiO_(2)薄膜.并利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对Mg掺杂的TiO_(2)薄膜的结构、形貌和光学性能进行研究.结果表明,Mg掺杂的TiO_(2)薄膜仍为锐钛矿相,并取(101)晶面择优生长.与未掺杂TiO_(2)薄膜相比平均晶粒尺寸明显降低,且在紫外区域薄膜吸光度有所提高.其中,当Mg掺杂量为2.00at%时,TiO_(2)薄膜结晶质量最佳,平均晶粒尺寸最小为23.5439nm,薄膜表面孔隙最少,表面致密光滑,吸光度最高且带隙值最小为3.06eV. 展开更多
关键词 TiO_(2)薄膜 溶胶-凝胶法 Mg掺杂 光学性能 晶体结构
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Nd(Hsal)_2·hq三元配合物薄膜的制备
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作者 王成云 李泳涛 +2 位作者 邓春涛 杨左军 赵贵文 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS 2002年第4期82-88,共7页
采用化学改性sol gel提拉法制备Nd(Hsal) 2·hq三元配合物薄膜 ,并对薄膜的性能进行研究 .在薄膜制备中 ,添加适量的表面活性剂可以极大地改善成膜的均匀性和所成膜的表面光洁度 ,且成膜的可重复性很好 .光声光谱研究结果表明 ,Nd3... 采用化学改性sol gel提拉法制备Nd(Hsal) 2·hq三元配合物薄膜 ,并对薄膜的性能进行研究 .在薄膜制备中 ,添加适量的表面活性剂可以极大地改善成膜的均匀性和所成膜的表面光洁度 ,且成膜的可重复性很好 .光声光谱研究结果表明 ,Nd3 + 水合离子、Nd2 O3 纳米薄膜中Nd3 + 和Nd(Hsal) 2·hq三元配合物薄膜中Nd3 + 的环境各不相同 ,其超灵敏跃迁峰有较大差别 . 展开更多
关键词 Nd(Hsal)2·hq三元配合物薄膜 制备 sol-gel提拉法 表面活性剂 吸收性能 8-羟基喹啉 水杨酸 光声光谱
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组分掺杂对YbF_(3)薄膜材料光学和理化特性的影响及其在红外光学薄膜元件制备中的应用 被引量:1
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作者 马秋静 段微波 +5 位作者 于天燕 李大琪 余德明 刘保剑 庄秋慧 刘定权 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第1期86-96,共11页
本文研究了沉积方式及氟化钙(CaF_(2))的掺杂对氟化镱(YbF_(3))薄膜材料光学和理化特性的影响。分别使用电子束蒸发工艺和电阻蒸发工艺,制备了纯YbF_(3)薄膜及掺杂不同比例CaF_(2)的YbF_(3)薄膜,通过光谱测量、应力测量、X射线衍射(XRD... 本文研究了沉积方式及氟化钙(CaF_(2))的掺杂对氟化镱(YbF_(3))薄膜材料光学和理化特性的影响。分别使用电子束蒸发工艺和电阻蒸发工艺,制备了纯YbF_(3)薄膜及掺杂不同比例CaF_(2)的YbF_(3)薄膜,通过光谱测量、应力测量、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等测试方式对单层膜样品进行了表征,并使用经典洛伦兹谐振子色散模型对其进行光学常数拟合。结果表明,在采用电子束蒸发工艺、CaF_(2)掺杂比例为1%的条件下,获得了光学和理化性能较好的单层膜。在该条件下,设计和制备了长波红外减反射膜系,并对其进行了光谱表征和可靠性测试,结果表明其在长波红外区的透过率达到99%以上,可靠性达到空间红外光学薄膜相关标准要求。 展开更多
关键词 红外 光学薄膜 氟化镱 掺杂 增透
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透光导电ITO膜的制备及其光电特性的研究 被引量:16
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作者 周引穗 王俊 +4 位作者 杨晓东 董庆彦 高爱华 胡晓云 陆治国 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1077-1080,共4页
采用溶胶 凝胶方法制备ITO膜 ,并从制备工艺上研究了各种因素对ITO膜光电特性的影响 最后制出的ITO膜厚度约为 5 0nm ,在可见光区平均透射比达 97% ,最高达 99.5 5 % ,电阻率在 2 .0Ω·cm左右 ,最低达到 0 .
关键词 制备 ITO膜 溶胶-凝胶 光电特性 掺锡氧化铟膜 透光导电膜
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两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析 被引量:14
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作者 周平 黄昱勇 +3 位作者 林宇翔 李海峰 刘旭 顾培夫 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期985-988,共4页
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5... 比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5 0nm附近的透过率可达 86%以上 ,消光系数约为 0 0 4 ,方电阻最低为 1 0 0Ω/□ . 展开更多
关键词 红外特性 ITO薄膜 光学特性 磁控溅射 电子束加热蒸发 氧化锡铟薄膜 制备方法
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化学溶液法制备的Ba_(0.9)Sr_(0.1)TiO_3薄膜的结构及光学特性研究 被引量:10
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作者 王根水 赖珍荃 +7 位作者 于剑 孟祥建 孙憬兰 郭少令 褚君浩 金承钰 李刚 路庆华 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期37-40,共4页
采用高度稀释的前驱体溶液在LaNiO3 (LNO)薄膜上沉积了Ba0 .9Sr0 .1TiO3 (BST)薄膜 .X 射线衍射分析表明BST薄膜呈高度的 (10 0 )择优取向 .原子力显微镜测量发现制备的BST薄膜具有大的晶粒尺寸 80~ 2 0 0nm .用椭偏光谱仪测量了光子... 采用高度稀释的前驱体溶液在LaNiO3 (LNO)薄膜上沉积了Ba0 .9Sr0 .1TiO3 (BST)薄膜 .X 射线衍射分析表明BST薄膜呈高度的 (10 0 )择优取向 .原子力显微镜测量发现制备的BST薄膜具有大的晶粒尺寸 80~ 2 0 0nm .用椭偏光谱仪测量了光子能量为 0 .7~ 3.4eV范围内BST薄膜的椭偏光谱 ,用Cauchy模型描述BST薄膜的光学性质 ,获得了BST薄膜的光学常数谱和禁带宽度Eg=3.36eV . 展开更多
关键词 化学溶液法 BST薄膜 椭偏光谱 光学常数谱 制备 结构 光学特性 钛酸锶钡化合物 钛电薄膜 Ba0.9Sr0.1TiO3
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氧分压对磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及光学特性的影响 被引量:13
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作者 徐小丽 马书懿 +3 位作者 陈彦 魏晋军 张国恒 孙小菁 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期730-735,共6页
采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出具有c轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射及紫外-可见吸收和透射光谱研究了氧分压变化对ZnO薄膜的微观结构及光吸收特性的影响。结果表明,当工作气压恒定时,用射频反应磁控溅射制备的Zn... 采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出具有c轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射及紫外-可见吸收和透射光谱研究了氧分压变化对ZnO薄膜的微观结构及光吸收特性的影响。结果表明,当工作气压恒定时,用射频反应磁控溅射制备的ZnO薄膜的生长行为主要取决于成膜空间中氧的密度,合适的氧分压能够提高ZnO薄膜的结晶质量;薄膜在可见光区的平均透过率达到90%以上,且随着氧分压的增大,薄膜的光学带隙发生了一定程度的变化。采用量子限域模型对薄膜的光学带隙作了相应的理论计算,计算结果与对样品吸收谱所作的拟合结果符合较好,二者的变化趋势完全一致,表明ZnO纳米晶粒较小时,薄膜光学带隙的变化与量子限域效应有很大关系。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 X射线衍射 光学特性 量子限域
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模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用 被引量:9
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作者 阳生红 余招贤 +2 位作者 李辉遒 张曰理 莫党 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期338-342,共5页
将模拟退火 (SA)法应用于椭偏光谱数值反演 ,以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱 ,并对 SA算法作了说明和改进 .作为应用实例 ,计算了 Si衬底上的 Si O2 薄膜和 Ba0 .9Sr0 .1 Ti O3(BST)铁电薄膜的膜厚及光学常数谱 ,同时讨论了... 将模拟退火 (SA)法应用于椭偏光谱数值反演 ,以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱 ,并对 SA算法作了说明和改进 .作为应用实例 ,计算了 Si衬底上的 Si O2 薄膜和 Ba0 .9Sr0 .1 Ti O3(BST)铁电薄膜的膜厚及光学常数谱 ,同时讨论了椭偏参数ψ和Δ随膜厚及折射率变化的灵敏度 . 展开更多
关键词 模拟退火法 椭偏光谱 数值反演 薄膜光学性质
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