目的:合成一种可以反复进行钙磷离子充电、释放以防止釉质脱矿的正畸粘接剂,并探究钙磷离子充电持续时间和频率对于离子再释放效能的影响。方法:可反复进行钙磷离子充电的粘接剂由均苯四甲酸二甲基丙烯酸甘油酯(PMGDM)和乙氧基化双酚A...目的:合成一种可以反复进行钙磷离子充电、释放以防止釉质脱矿的正畸粘接剂,并探究钙磷离子充电持续时间和频率对于离子再释放效能的影响。方法:可反复进行钙磷离子充电的粘接剂由均苯四甲酸二甲基丙烯酸甘油酯(PMGDM)和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(EBPADMA)组成。纳米磷酸钙(NACP)以40%的质量分数混入树脂中。离体牙粘接托槽,使用万能试验机测试釉质粘接剂的抗剪切强度;在p H为4的酸性溶液中浸泡粘接剂样本,测量钙、磷离子的初期释放;再使用p H为7的充电液对释放完离子的样本进行充电,返回到p H为4的环境中测试再释放能力。结果:这种新型正畸粘接剂的抗剪切强度与商业化的正畸粘接剂无统计学差异(P>0.1)。样本在一次充电处理后,可以连续14 d持续释放钙、磷离子,而无需再次充电。离子再释放能力不会随着再充电/再释放循环次数的增加而降低(P>0.1)。14 d时离子的再释放浓度与不同的充电方式之间的关系为:1 min 3次>3 min 2次>1 min 2次>6 min 1次>3 min 1次>1 min 1次。结论:这种含NACP的可充电正畸粘接剂可以长期释放钙磷离子,抑制正畸托槽周围牙釉质脱矿。展开更多
文摘目的:合成一种可以反复进行钙磷离子充电、释放以防止釉质脱矿的正畸粘接剂,并探究钙磷离子充电持续时间和频率对于离子再释放效能的影响。方法:可反复进行钙磷离子充电的粘接剂由均苯四甲酸二甲基丙烯酸甘油酯(PMGDM)和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(EBPADMA)组成。纳米磷酸钙(NACP)以40%的质量分数混入树脂中。离体牙粘接托槽,使用万能试验机测试釉质粘接剂的抗剪切强度;在p H为4的酸性溶液中浸泡粘接剂样本,测量钙、磷离子的初期释放;再使用p H为7的充电液对释放完离子的样本进行充电,返回到p H为4的环境中测试再释放能力。结果:这种新型正畸粘接剂的抗剪切强度与商业化的正畸粘接剂无统计学差异(P>0.1)。样本在一次充电处理后,可以连续14 d持续释放钙、磷离子,而无需再次充电。离子再释放能力不会随着再充电/再释放循环次数的增加而降低(P>0.1)。14 d时离子的再释放浓度与不同的充电方式之间的关系为:1 min 3次>3 min 2次>1 min 2次>6 min 1次>3 min 1次>1 min 1次。结论:这种含NACP的可充电正畸粘接剂可以长期释放钙磷离子,抑制正畸托槽周围牙釉质脱矿。
