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半绝缘GaAs衬底中位错对MESFETs旁栅效应的影响 被引量:7
1
作者 吴巨 何宏家 +2 位作者 范缇文 王占国 张绵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第7期558-560,共3页
在位错密度不同的LEC半绝缘(SI)GaAs衬底上离子注入制做MESFETs,观察衬底位错对MESFETs旁栅效应的影响.结果表明,衬底中高位错密度可以抑制旁栅效应.
关键词 砷化镓 衬底 位错 MESFETS 旁栅效应
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快速率生长MBE InAs/GaAs(001)量子点 被引量:1
2
作者 吴巨 曾一平 +2 位作者 王宝强 朱占平 王占国 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第2期79-83,98,共6页
用快速率(1.0ML/s)生长MBE InAs/GaAs(001)量子点。原子力显微镜观察结果表明,在量子点体系形成的较早阶段,量子点密度N(θ)随InAs沉积量θ的变化符合自然指数形式N(θ)∝ek(θ-θc),这与以前在慢速生长(≤0.1ML/s)条件下出现的标度规... 用快速率(1.0ML/s)生长MBE InAs/GaAs(001)量子点。原子力显微镜观察结果表明,在量子点体系形成的较早阶段,量子点密度N(θ)随InAs沉积量θ的变化符合自然指数形式N(θ)∝ek(θ-θc),这与以前在慢速生长(≤0.1ML/s)条件下出现的标度规律N(θ)∝(θ-θc)α明显不同。另外,在N(θ)随θ增加的过程中,快速率生长量子点的高度分布没有经历量子点平均高度随沉积量θ逐渐增加的过程。这些实验观察说明,以原子在生长表面作扩散运动为基础的生长动力学理论至少是不全面的,不适用于解释InAs量子点的形成。这些观察和讨论说明,即使在1.0ML/s的快速率生长条件下,量子点密度也可以通过InAs沉积量有效地控制在1.0×108cm-2以下,实现低密度InAs量子点体系的制备。 展开更多
关键词 分子束外延 InAs/GaAs(001) 量子点 InAs沉积量 形态变化 密度
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MBE自组装量子点生长和结构形态研究 被引量:1
3
作者 吴巨 金鹏 +4 位作者 吕小晶 王占国 曾一平 王宝强 姚然 《微纳电子技术》 CAS 2008年第8期435-439,457,共6页
综述了对自组装量子点形态和生长过程所做的探讨和研究。介绍了关于量子点成核和形态的热力学理论、量子点生长过程的计算机模拟及Ge/Si(001)和InAs/GaAs(001)量子点生长和形态的实验观察。鉴于InAs/GaAs(001)体系的复杂性,把对InAs量... 综述了对自组装量子点形态和生长过程所做的探讨和研究。介绍了关于量子点成核和形态的热力学理论、量子点生长过程的计算机模拟及Ge/Si(001)和InAs/GaAs(001)量子点生长和形态的实验观察。鉴于InAs/GaAs(001)体系的复杂性,把对InAs量子点的观察和研究分为"微观"和"宏观"两种。微观研究对象包括量子点原子尺度上的结构、量子点表面小晶面的晶体学的精确取向等,这些性质可能受热运动的影响比较大,在一定程度上是随机的,它们代表了量子点生长行为的复杂性;宏观研究的对象是指量子点密度、纳米尺度形态等大量粒子统计意义上的集体行为,这些性质和行为可能更具有实际意义。因此作者认为,目前研究量子点生长和形态更为有效的方法应该是探寻以量子点宏观行为所表征的简单性。重点介绍中科院半导体所半导体材料重点实验室最近所做的对InAs/GaAs(001)量子点生长过程的实验观察。结果表明,在一般生长条件下(富As,500℃,0.1ML/s),InAs量子点成核和生长应该都是连续的,没有经历被普遍认为的不连续(一级)相变。按照作者的观察,把InAs量子点成核看作是连续(二级)相变更为贴切。 展开更多
关键词 分子束外延 SK生长模式 量子点 形态和生长 Ge/Si(001) InAs/GaAs(001)
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薄膜和量子点的外延生长(英文) 被引量:1
4
作者 吴巨 金鹏 +2 位作者 曾一平 王宝强 王占国 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第6期321-329,共9页
首先简短地综述了人们关于外延薄膜材料层状(layer-by-layer)生长机制的认识;给出了作者关于自组装量子点外延生长过程的评价和观点,强调了量子点自组装生长过程的复杂性和非线性性质。在对已经发表过的实验数据进一步分析的基础上,作... 首先简短地综述了人们关于外延薄膜材料层状(layer-by-layer)生长机制的认识;给出了作者关于自组装量子点外延生长过程的评价和观点,强调了量子点自组装生长过程的复杂性和非线性性质。在对已经发表过的实验数据进一步分析的基础上,作者对一个量子点自组装生长形成所需要的时间作了一个估算,说明这是一个非常快的过程(<10-4s)。最后,作者提出了一个理解量子点自组装生长过程机制的模型。 展开更多
关键词 外延生长 薄膜 自组装量子点 InAs/GaAs(001)
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InAs/GaAs量子点材料和激光器 被引量:4
5
作者 吴巨 王占国 《微纳电子技术》 CAS 2005年第11期489-494,共6页
介绍了近年来长波长InAsG/aAs量子点材料的生长、结构性质和量子点激光器的研究进展。
关键词 INAS/GAAS 量子点 激光器
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量子点外延生长新模型(英文) 被引量:1
6
作者 吴巨 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第3期141-146,共6页
目前在原子尺度上人们对量子点分子束外延生长过程了解很少,所有关于量子点外延生长的理论模型和计算机模拟都是建立在传统的外延生长理论框架内。在传统理论框架内,量子点的生长过程被理解为发生在生长表面上一系列的单一的原子事件,... 目前在原子尺度上人们对量子点分子束外延生长过程了解很少,所有关于量子点外延生长的理论模型和计算机模拟都是建立在传统的外延生长理论框架内。在传统理论框架内,量子点的生长过程被理解为发生在生长表面上一系列的单一的原子事件,如原子沉积、扩散、聚集等。在这种理论中,外延生长表面原子之间的相互作用被忽略;另外,按照这种理论,量子点生长过程必须是一个相对缓慢的过程。这种理论模型不可能恰当地解释所观察到的大量复杂的量子点外延生长实验现象。作者在两个实验现象基础上,提出了在InAs/GaAs(001)体系中量子点外延生长过程的新模型。这两个实验现象分别是在InAs/GaAs(001)生长表面有大量的"浮游"In原子,一个量子点的生长过程可以在很短的时间内完成(<10-4 s)。在提出的新模型中,量子点的自组装过程是一个大数量原子的集体、协调运动过程。 展开更多
关键词 InAs/GaAs(001) 量子点 自组装 原子集体运动 外延生长
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MBE自组装量子点生长和结构形态研究(续)
7
作者 吴巨 金鹏 +4 位作者 吕小晶 王占国 曾一平 王宝强 姚然 《微纳电子技术》 CAS 2008年第9期498-504,共7页
关键词 自组装量子点 生长条件 结构形态 INAS/GAAS INAS量子点 MBE GAAS(001) 平衡形态
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InAs Wires on InP (001)
8
作者 吴巨 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期197-203,共7页
The heterostructure of InAs/In0.52Al0.48As/InP is unique in that InAs wires instead of dots self-assemble in molecular beam epitaxy. These InAs wires have some distinctive features in their growth and structure. This ... The heterostructure of InAs/In0.52Al0.48As/InP is unique in that InAs wires instead of dots self-assemble in molecular beam epitaxy. These InAs wires have some distinctive features in their growth and structure. This paper summarizes the investigations of the growth and structural properties of InAs wires that have been performed in our laboratory recently. 展开更多
关键词 quantum wires INAS MBE
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量子点外延生长新模型(续)(英文)
9
作者 吴巨 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第4期213-221,共9页
3.2 Wetting Layer Tailored by Epitaxial Stress Most epitaxial films wet the substrates to var-ying degrees in heteroepitaxy.In the paradigm systems of the QD epitaxial growth,In As/GaAs(001)and Ge/Si(001),the critical... 3.2 Wetting Layer Tailored by Epitaxial Stress Most epitaxial films wet the substrates to var-ying degrees in heteroepitaxy.In the paradigm systems of the QD epitaxial growth,In As/GaAs(001)and Ge/Si(001),the critical wetting layer(WL)for 展开更多
关键词 量子点 外延生长 EPITAXIAL WETTING indium BONDS floating DIMER crystalline COMPRESSIVE
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白发与钙、镁及遗传关系探讨 被引量:6
10
作者 姜英勤 刘艳 +5 位作者 吴巨 张朝红 李秋梅 孟繁玲 张业芸 仲立辉 《微量元素与健康研究》 CAS 1995年第1期43-44,共2页
本文对沈阳、铁岭两地区81例18~70岁白发者进行了7种元素钙、镁、锌、铁、铜、锰、镍含量分析及有关白发者家族史和发丝粗细的调查。结果表明:白发中的钙、镁含量显著低于黑发;白发组中有家族史的为60~70%;白发组中发... 本文对沈阳、铁岭两地区81例18~70岁白发者进行了7种元素钙、镁、锌、铁、铜、锰、镍含量分析及有关白发者家族史和发丝粗细的调查。结果表明:白发中的钙、镁含量显著低于黑发;白发组中有家族史的为60~70%;白发组中发丝较粗的为94.5%。 展开更多
关键词 白发 家族史
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Ge_xSi_(1-x)/Si中应变的会聚束电子衍射研究 被引量:1
11
作者 范缇文 吴巨 王占国 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第4期403-405,共3页
介绍了会聚束电子衍射 (CBED)技术与计算机模拟相结合测定GexSi1-x Si化学梯度层中应变分布的实验结果 ,提供了一种高空间分辨率、高灵敏度 ,且适用于任何材料系中微区晶格常数测定及应变分布研究的技术途径。
关键词 会聚束电子衍射 计算机模拟 应变 GESI/SI
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高效液相色谱法测定饮料中塑化剂邻苯二甲酸二辛酯的研究 被引量:4
12
作者 谢跃勤 杨小萍 吴巨 《合肥师范学院学报》 2014年第6期53-55,共3页
本文建立了高效液相色谱法测定饮料中塑化剂组分之一--邻苯二甲酸二辛酯的分析方法.饮料样品只需要进行简单的前处理后即可进样.实验的色谱条件:柱温30℃,流动相为甲醇,流速1 mL/min,检测波长280 nm.建立的方法在0.1935~2.9031 mg/L... 本文建立了高效液相色谱法测定饮料中塑化剂组分之一--邻苯二甲酸二辛酯的分析方法.饮料样品只需要进行简单的前处理后即可进样.实验的色谱条件:柱温30℃,流动相为甲醇,流速1 mL/min,检测波长280 nm.建立的方法在0.1935~2.9031 mg/L范围内具有良好的线性关系(r=0.9999),方法的检出限(LOD)为1.15 μg/L;应用该方法测定饮料中的邻苯二甲酸二辛酯,实际样品的加标回收率在97.43~103.85%范围;相对标准偏差(RSD%)低于0.28%.结果表明,该方法操作简单、快速、准确,用于饮料中塑化剂组分中邻苯二甲酸二辛酯的分析结果满意. 展开更多
关键词 邻苯二甲酸二辛酯 塑化剂 饮料 高效液相色谱法
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中国特色的工业化道路 被引量:2
13
作者 吴巨 《辽宁行政学院学报》 2003年第1期35-36,共2页
党的十六大报告提出 ,“走新型工业化道路”。这一科学论断是科学总结国内外工业化经验教训作出的重大决策 ,是顺应经济全球化和新的科技革命要求的必然选择 ,也是充分考虑我国基本国情得出的正确结论。只有通过大力推进产业结构优化升... 党的十六大报告提出 ,“走新型工业化道路”。这一科学论断是科学总结国内外工业化经验教训作出的重大决策 ,是顺应经济全球化和新的科技革命要求的必然选择 ,也是充分考虑我国基本国情得出的正确结论。只有通过大力推进产业结构优化升级 ,实施科教兴国战略和可持续发展战略 ,才能顺利地走出一条新型工业化道路 ,即中国特色的工业化道路。 展开更多
关键词 中国特色 工业化 发展战略
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浅谈国有煤炭企业不良资产产生的原因及处置方法 被引量:2
14
作者 吴巨 《中小企业管理与科技》 2009年第30期33-34,共2页
随着国有煤炭企业改革的不断深入,越来越多的不良资产和资产损失集中暴露出来,国有煤炭企业大量的不良资产的存在已经成为制约着企业的快速发展的重要因素。本文分析了国有煤炭企业不良资产产生的原因,提出了处置国有煤炭企业不良资产... 随着国有煤炭企业改革的不断深入,越来越多的不良资产和资产损失集中暴露出来,国有煤炭企业大量的不良资产的存在已经成为制约着企业的快速发展的重要因素。本文分析了国有煤炭企业不良资产产生的原因,提出了处置国有煤炭企业不良资产的方法。 展开更多
关键词 国有煤炭企业 不良资产 原因 处置方法
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无腺体棉籽蛋白粉的营养与食品卫生学研究
15
作者 徐超 何颖 +3 位作者 周波 吴巨 王露 侯菊倩 《解放军预防医学杂志》 CAS 北大核心 1992年第1期27-32,共6页
本文对无腺体棉籽蛋白粉和脱毒有腺体棉籽蛋白粉进行了营养学与食品卫生学研究。无腺体棉籽蛋白营养价值较高,接近酪蛋白,且食品卫生较为安全,有可能作为一种质量优良的蛋白质来源。而脱毒有腺体棉籽蛋白营养价值及食品卫生安全性稍差,... 本文对无腺体棉籽蛋白粉和脱毒有腺体棉籽蛋白粉进行了营养学与食品卫生学研究。无腺体棉籽蛋白营养价值较高,接近酪蛋白,且食品卫生较为安全,有可能作为一种质量优良的蛋白质来源。而脱毒有腺体棉籽蛋白营养价值及食品卫生安全性稍差,主要是残留的游离棉酚所致。因此,棉籽蛋白应用于人类食用之前还应经过严格的食品毒理学鉴定。当上述棉籽蛋白质分别与少量酪蛋白(7:3)混合时,各自的营养价值得到提高与酪蛋白相当。 展开更多
关键词 棉籽 蛋白质 营养价值 棉酚
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浅谈煤炭企业会计核算工作精细化 被引量:1
16
作者 吴巨 《经济技术协作信息》 2011年第21期60-60,117,共2页
文章根据笔者自身多年从事会计工作实践的亲身体会,在煤炭企业会计核算工作精细化管理经验的基础上,探讨了煤炭企业会计核算工作精细化的相关问题,有针对性的提出提高煤炭企业会计核算工作的规范和会计管理水平的相关建议:
关键词 煤炭企业 会计核算 精细化
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MPCVD生长半导体金刚石材料的研究现状 被引量:11
17
作者 付方彬 金鹏 +3 位作者 刘雅丽 龚猛 吴巨 王占国 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第9期571-581,587,共12页
简要介绍了半导体金刚石材料优异的电学和光学性质、主要制备方法以及采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术在制备高质量半导体金刚石材料方面的优势。重点就MPCVD技术在半导体金刚石材料的高速率生长、大尺寸生长、高质量生长以及... 简要介绍了半导体金刚石材料优异的电学和光学性质、主要制备方法以及采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术在制备高质量半导体金刚石材料方面的优势。重点就MPCVD技术在半导体金刚石材料的高速率生长、大尺寸生长、高质量生长以及电学掺杂等四个方面的研究现状进行了详细总结。详细探讨了目前半导体金刚石材料在大尺寸单晶金刚石衬底制备、高质量单晶金刚石外延层生长以及金刚石电学掺杂等方面还存在的一些基本问题。指出在大面积单晶金刚石衬底还没有实现突破的情况下,半导体金刚石材料和器件结构的生长模式。 展开更多
关键词 金刚石 宽禁带 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 同质外延生长 掺杂
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隧穿注入量子点激光器概述 被引量:2
18
作者 金灿 金鹏 +1 位作者 吴巨 王占国 《微纳电子技术》 CAS 2007年第6期289-294,共6页
介绍了一种新型的载流子隧穿注入量子点激光器,具体内容涉及量子点激光器研究现状、存在的问题、隧穿注入量子点激光器的工作原理和优势、研究现状等。采用隧穿注入这一新的载流子注入方式,可有效提高量子点激光器的温度特性和高频调制... 介绍了一种新型的载流子隧穿注入量子点激光器,具体内容涉及量子点激光器研究现状、存在的问题、隧穿注入量子点激光器的工作原理和优势、研究现状等。采用隧穿注入这一新的载流子注入方式,可有效提高量子点激光器的温度特性和高频调制特性。 展开更多
关键词 量子点激光器 隧穿注入 特征温度 调制带宽
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浅谈营改增差额征税
19
作者 吴巨 《铁法科技》 2017年第A01期110-113,共4页
营改增的实施,对煤炭企业来说,既是机遇,也是挑战。煤炭企业多数是大中型企业,登记为增值税一般纳税人,“营改增”后,对企业来说,总体税负是有所下降的,煤炭企业需要灵活应对税制变革,紧紧抓住这个契机,从营改增的深刻内涵出... 营改增的实施,对煤炭企业来说,既是机遇,也是挑战。煤炭企业多数是大中型企业,登记为增值税一般纳税人,“营改增”后,对企业来说,总体税负是有所下降的,煤炭企业需要灵活应对税制变革,紧紧抓住这个契机,从营改增的深刻内涵出发,积极领会增值税抵扣的含义,充分利用营改增有利的一面,实现企业利益最大化。文中以铁煤集团劳务派遣服务为例,阐述了差额征税具体情况,对其会计处理及其开票方法进行详细分析。 展开更多
关键词 营改增 差额征税 会计处理 开票
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50周期的In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs应变超晶格的生长 被引量:1
20
作者 潘栋 曾一平 +3 位作者 吴巨 王红梅 李晋闽 孔梅影 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期470-473,共4页
在本文,我们用一个低组分的InxGa(1-x)As缓冲层(x~0.01),有效地限制了50周期的In0.3Ga0.7As/GaAs应变超晶格本身弛豫所产生的位错,X射线双晶衍射测量结果表明使用这样缓冲层的超晶格质量明显改善,可以观察到12级卫星峰,而在... 在本文,我们用一个低组分的InxGa(1-x)As缓冲层(x~0.01),有效地限制了50周期的In0.3Ga0.7As/GaAs应变超晶格本身弛豫所产生的位错,X射线双晶衍射测量结果表明使用这样缓冲层的超晶格质量明显改善,可以观察到12级卫星峰,而在没有这个缓冲层的样品上只能观察到3个衍射卫星峰.透射电子显微镜上观察到产生的位错被限制在这个缓冲层中或弯曲进入了衬底而没有进入所需要的外延层。 展开更多
关键词 半导体 应变超晶格 外延生长 50周期
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