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高温热处理对SiGe:GaP中电子散射机构的影响

Effect of High Temperature Heat Treatment on Scattering Mechanisms of SiGe:GaP Alloys
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摘要 通过测量材料的塞贝克系数和电阻率随温度的变化,首先可以判断出测量是否处于载流子浓度的饱和温区,进而能够导出在该饱和温区上载流子的迁移率随温度的变化关系、对高温热处理前后迁移率-温度关系的实验研究表明:SiGe:GaP中电子-声子散射经高温热处理后得到相对增强。 The effect of high temperature heat treatment on the scattering mechanisms of SiGe:GaPalloys is reported. The scattering mechanisms were investigated through the temperature dependenceof the carder mobility obtained by measuring electrieal resistivity and Seebeck coefficientas a function of temperature. The results show that the relative strength of electronphononscattering in the alloys has been enhanced after high temperature heat treatment.
作者 高敏 D.M.Rowe
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第10期633-636,共4页 半导体学报(英文版)
  • 相关文献

参考文献2

  • 1高敏,J Appl Phys,1991年,70卷,7期,3843页
  • 2高敏,红外技术,1989年,12卷,2期,38页

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