用CH_4—H_2直流弧光放电CVD法高速合成金刚石薄膜被引量：1

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摘要气相人工合成的金刚石薄膜具有与天然金刚石相同的超硬、高热导率、高电阻率及抗蚀性等独特的物理化学性质,具有重要的应用前景。近年来,用热等离子体的化学气相沉积(CVD)方法高生长速率的合成金刚石薄膜,如辉光、弧光转换区放电、弧光放电和等离子喷射等方法的研究报导,已引起学术界的兴趣和重视。

作者蒋翔六张仿清李敬超杨斌杨映虎陈光华

机构地区北京市科学技术研究院兰州大学物理系

出处《兰州大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1989年第3期163-164,共2页 Journal of Lanzhou University(Natural Sciences)

关键词金刚石薄膜直流弧光放电 CVD法

同被引文献1

兰州大学学报（自然科学版）

1989年第3期

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