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关于光谱干版底层新工艺的研究 被引量:1

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作者 段俊娥
出处 《影像技术》 CAS 1992年第3期29-30,33,共3页 Image Technology
  • 相关文献

同被引文献2

  • 1章基凯.-[J].有机材料,1999,6:339-339.
  • 2张洪奎.抑制有机硅烷偶联剂KH-560在光谱干版乳剂中增长灰雾的途径.照相乳剂及有机助剂的应用学术研讨会论文集[M].,1996,10.31.

二级引证文献1

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