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关于光谱干版底层新工艺的研究
被引量:
1
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职称材料
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作者
段俊娥
出处
《影像技术》
CAS
1992年第3期29-30,33,共3页
Image Technology
关键词
光谱干版
感光材料
工艺
分类号
TQ577.24 [化学工程—精细化工]
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1
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1
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2
1
章基凯.-[J].有机材料,1999,6:339-339.
2
张洪奎.抑制有机硅烷偶联剂KH-560在光谱干版乳剂中增长灰雾的途径.照相乳剂及有机助剂的应用学术研讨会论文集[M].,1996,10.31.
引证文献
1
1
张洪奎.
抑制有机硅烷偶联剂KH-550在光谱干版乳剂中增长灰雾的途径[J]
.影像技术,2000,12(4):39-40.
被引量:1
二级引证文献
1
1
周勤.
2000~2001年国内有机硅进展[J]
.有机硅材料,2001,15(6):22-29.
被引量:2
1
张洪奎.
抑制有机硅烷偶联剂KH-550在光谱干版乳剂中增长灰雾的途径[J]
.影像技术,2000,12(4):39-40.
被引量:1
影像技术
1992年 第3期
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