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温室西芹高产栽培技术被引量：1

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摘要种植深度以埋住根茎为度，1～1．5厘米为宜，埋茎不埋心，定植株行距为30×20厘米。3分地3300株左右，定植后按畦浇足水缓苗。

作者黄朝军宋春红

机构地区一○四团农业公司

出处《农村科技》 2004年第3期34-34,共1页 Rural Science & Technology

关键词温室西芹栽培技术种植深度品种季节育苗定植病虫害防治

分类号 S636.3 [农业科学—蔬菜学]

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农村科技

2004年第3期

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