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溅射羟基磷灰石薄膜与钛合金基体结合强度的研究 被引量:14

Study on Bonding Strength between Sputtering Hydroxyapatie Film and Tiatnium Alloy
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摘要 采用射频磁控溅射法 ,在 Ti- 6Al- 4V合金基体上制备了羟基磷灰石 ( HA)及 HA和Ti O2 复合薄膜。通过显微压入法及粘结拉伸法 ,定量及定性分析了涂层与基体之间的结合强度 ,重点探讨了涂层在热处理前后结合强度的变化规律。结果表明 ,几种材料膜 -基结合强度均达到 1 5~ 2 0 MPa。
出处 《新技术新工艺》 北大核心 2004年第1期35-36,共2页 New Technology & New Process
基金 天津市自然科学基金 ( 0 2 36 15 311) 天津市高等学校科技发展基金 ( 0 1- 2 0 2 15 )
关键词 羟基磷灰石薄膜 水蒸气处理 结合强度 钛合金 射频磁控溅射 hydroxyapatie film,heat treatment at water vapour,bonding strength
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