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带超薄HfO2栅介质和多晶硅栅的n-MOSFET的热载流子可靠性
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《电子产品可靠性与环境试验》
2003年第6期70-70,共1页
Electronic Product Reliability and Environmental Testing
关键词
超薄HfO2栅介质
多晶硅栅
N-MOSFET
热载流子
可靠性
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
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1
蔡乃琼,刘红侠.
新型HfO_2栅介质电特性的理论分析与实验研究[J]
.西安电子科技大学学报,2008,35(3):513-516.
被引量:3
2
刘红侠,蔡乃琼.
针对新型HfO_2栅介质改进的四元件电路模型[J]
.西安电子科技大学学报,2008,35(6):1051-1055.
被引量:4
电子产品可靠性与环境试验
2003年 第6期
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