摘要
利用化学镀铜方法 ,结合光刻技术 ,研究了在阳极氧化 Al基板上的金属化布线。设计了完成化学镀铜金属化图形的工艺流程 ,并对影响图形制作的主要因素进行了分析 。
出处
《新技术新工艺》
北大核心
2003年第1期38-39,共2页
New Technology & New Process
基金
教育部留学回国人员科研启动基金
关键词
封装
金属化图形
光刻技术
化学镀铜
铝基板
Al substrate,metallization pattern,photolithography,electroless Cu plating