基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控被引量：1

The Application of Matrix Assisted Laser Desorption-ionization Time of Flight Mass Sepectrometry in Monitoring the Reaction of End Group Modification of Polymer

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作者陈友存陈文章刘光祥

机构地区安庆师范学院化学系中国矿业大学北京校区

出处《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期127-127,共1页 Chinese Journal of Analytical Chemistry

基金国家自然科学基金资助项目 (No .2 0 0 3 5 0 10 2 0 1710 0 1)

关键词聚甲基丙烯酸丁酯水解反应末端酯基基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱高分子端基修饰反应

分类号 O657.63 [理学—分析化学]

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