期刊导航
期刊开放获取
vip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
离子镀的特点及其应用
在线阅读
下载PDF
职称材料
导出
摘要
引言 以钛为主的过渡金属,其碳化物、氮化物薄膜作为硬质膜有着良好的耐摩性和耐蚀性,已经开始用于工具、模具、机械零件、装饰品等许多领域。为了得到这些硬质膜,出现了PVD(物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积)工艺方法。PVD包括:热蒸发、溅射、离子镀和分子束外延等方法。它们的特点是用热能使固体原料蒸发。
作者
张丽梅
出处
《电子工业专用设备》
1992年第3期44-48,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
镀膜
离子镀
应用
化学气相沉积
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
Haef.,RA,陈文浩.
离子镀膜[J]
.四川真空,1990(2):29-45.
2
邸英浩,曹晓明.
真空镀膜技术的现状及进展[J]
.天津冶金,2004(5):45-48.
被引量:40
3
万立骏,陈宝清.
极间距对离子镀Al膜组织影响的TEM研究[J]
.薄膜科学与技术,1990,3(3):67-71.
4
宋泽润.
氮化铝薄膜金属化的离子镀技术研究[J]
.混合微电子技术,2010,21(2):61-63.
5
真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺[J]
.电子科技文摘,1999(11):43-43.
6
王茂祥,吴建宁.
与等离子体相关的真空沉积技术及其应用[J]
.电子工程师,1999(7):1-3.
7
袁哲,张树林,李争显,王福贞.
多弧离子镀设备阴极电弧蒸发源工作稳定性的研究[J]
.真空,1992(2):24-30.
被引量:1
8
许锦茂,袁庆龙,何育红,梁文萍,李燕琴.
高温离子镀渗金属的研究[J]
.真空电子技术,1995,8(6):38-41.
9
赵秀秀.
PDP用电子束蒸镀装置[J]
.显示器件技术,2004(3):60-61.
10
毛德才,张秀娥.
复合靶磁控溅射离子镀膜技术[J]
.航天工艺,2000(1):5-8.
被引量:2
电子工业专用设备
1992年 第3期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部