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缩小投影电子束曝光系统的成像反差

Image Contrast of Projection Electron-beam Lithography with Demagnification Imaging(PELDI)
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摘要 结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差 。 The optimal image contrast which can be got when the illumination beam and the angular limitation aperture are in ideal conditions is presented with their woking principles.In the nonideal conditions their influence on the image contrast and the debug method for the ideal conditions are discussed in detail.
机构地区 中科院电工所
出处 《微细加工技术》 2002年第3期17-22,共6页 Microfabrication Technology
关键词 成像反差 缩小投影电子束曝光 照明束 角度限制光阑 PELDI illumination beam angular limitation aperture contrast
  • 相关文献

参考文献4

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共引文献3

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