摘要
本文首先梳理了薄膜晶体管(TFT)常见漏电类型及其形成机理,分析了材料缺陷、工艺不完善与环境应力等因素的作用机制。随后,从通道与介质工艺优化、电极与结构设计改进及制程环境控制3方面探讨了典型工艺改进路径,并推演其在减小关态电流、改善阈值稳定性和提升电学性能中的作用。最后,进一步分析了漏电抑制对显示效果与可靠性的重要意义,指出多维度工艺协同优化是实现低功耗、高分辨率和长寿命LCD面板的关键。
出处
《科技视界》
2026年第1期93-95,共3页
Science & Technology Vision
