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真空度对酞菁铜蒸发膜结晶形态的影响

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摘要前文我们已经报道了在10^(-5)乇(系数略,下同)下所得酞菁铜蒸发膜(α-型)的晶粒取向与分子束入射角的关系。本文介绍我们用x射线衍射、扫描电子显微镜等手段研究真空度对晶型及蒸发膜形态等影响的研究结果。文中特别注意了随着真空度下降,α-PcCu向光导性较好的X-PcCu的转变过程。

作者石祖荣杨启云常龙存

机构地区中国科学院化学研究所中国科学院物理研究所

出处《科学通报》 1985年第23期1797-1800,共4页 Chinese Science Bulletin

关键词酞菁铜真空度 X射线衍射结晶形态蒸发膜

分类号 O484.1 [理学—固体物理]

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科学通报

1985年第23期

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