非晶Fe_(78)B_(13)Si_(9)/Si调制膜的CEMS研究

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摘要我们用溅射技术制得了非晶Fe_(78)B_(13)Si_(9)/Si调制膜,并用转换电子的Mössbauer谱技术(CEMS)研究了它们的微观结构。实验结果表明,Fe原子和Si原子在界面处的互扩散所形成的过渡层的特性是决定这种调制膜性能的主要因素。

作者毕耜云李卫东梅良模

机构地区山东大学物理系

出处《科学通报》 1988年第19期1459-1462,共4页 Chinese Science Bulletin

关键词调制膜转换电子的Mssbauer谱原子扩散过渡层

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科学通报

1988年第19期

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