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采用温度测量的方法对直拉法熔体流动的研究
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摘要
本文通过温度测量实验,对直拉法硅熔体流动状态及强度进行了研究。证明熔体的温度梯度及热对流强度随熔体深度的减小而减小,并讨论了熔体对流对硅单晶中氧含量的影响。
作者
王健伟
万群
秦福
机构地区
北京有色金属研究总院
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第1期62-64,共3页
Semiconductor Technology
关键词
单晶硅
直拉法
温度测量
熔体流动
分类号
TN304.053 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
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