摘要
随着先进工艺的不断推进，从28nm，到目前的14nm，以及未来的7nm，3nm，工艺的复杂度也不断提升，制造成本也随之增加。制造过程中任何细小的错误都将导致重新流片，而其代价将会很大，因此在制造过程中，检测和量测变得越来越重要，越早发现问题所在，可挽回的损失越大。近期，工艺控制及良率管理解决方案的设备供应商KLA—Teneor在上海举办媒体会，分享了他们在先进工艺方面的产品进展以及他们在中国的发展现状。
出处
《中国集成电路》
2017年第12期4-4,共1页
China lntegrated Circuit
