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光刻技术的发展被引量：1

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摘要简述目前微电子及半导体领域主流的光刻技术及其发展，介绍了目前主流的光刻技术有是紫外（UV）光刻技术、深紫外（DUV）光刻技术、极紫外（EUV）光刻技术和X射线（X-ray）光刻技术及它们的应用领域。同时探讨了光刻技术的发展和覆盖的范畴。

作者李亚明张飞

机构地区南京中电熊猫液晶材料科技有限公司

出处《电子世界》 2014年第24期464-465,共2页 Electronics World

关键词光刻技术 UV DUV EUV

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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