活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(中)
Reactive-environment,hollow cathode sputtering:basic characteristics and application to Al_2O_3,doped ZnO,and In_2O_3:Mo pt.2
摘要
2实验结果和讨论
2．1阴极和沉积特性
典型空心阴极I-V，特性如图2所示，HC中有铜靶块并用氩气作为工作气体。在气流量和放电电流一定时，压强越低需放电电压越高。在给定真空室压强情况下，两个不同气流量的I-V特性很接近，在一定电流下，较高的气流量电压略低一点（注：
出处
《太阳能》
2014年第7期16-18,22,共4页
Solar Energy
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