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三甲基铝双聚体的结构和键合作用 被引量：3

Structure and Bonding of Al_2(CH_3)_6
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摘要 以杂化理论、闭合的三中心两电子键模型对Al2 (CH3 ) 6之键角、键长等作出合理的解释 ,明确Al2 (CH3 ) The bond angles and bond lengths of Al 2(CH 3) 6have reasonably been explained with the theory of hybridzation and the model of dielectron and tricentre bond ,and the spacial structure of Al 2(CH 3) 6 has been clarified.
作者 刘亨 李业霞
机构地区 滨州师范专科学校
出处 《滨州师专学报》 2001年第4期55-57,共3页 Journal of Binzhou Teachers College
关键词 三甲基铝双聚体 轨道杂化 三中心两电子键 空间构型 键合作用 hybyidzation of oybitals dielectron and tricentre bond electron cloud
分类号 O627.31 [理学—有机化学]
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同被引文献17

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  • 4Philip R,Davies,Nicholas G,et al.The chemisorption of organophosphorus compounds at an Al (Ⅲ) surface[J].Applied Surface Science,2001,(181):296-306.
  • 5Victor O,Nava S,Marte A V.Synthesis of 4-substituted hexahydro-2 (3 H)benzofuranones by addition of hydrides or trimethylaluminium to 2-ethoxycarbonylmrthylcyclohexanones[J].Journal of Chemical Research,1998,(1):482 -483.
  • 6Janusz L,Janchara,Kazimierz B,et al.Structure investigation of dimethyl-aluminium,-gallium and-indium O,O'-chelate complexes in solution and the solid state.Molecular structure of five-co-ordinated[Me2 M (μ-OC6 H4 CO2 Me-2)] adducts[J].J Chem Soc,1997,4 217-4 222.
  • 7Uwe Eilitz,Frank Le,βmann,et al.Stereoselective michael addition of triminium to nitro acrylates:A route to 2-methyl-3 -amino propionic acid[J].Tetrahedron:Asymmetry,2003,(14):3095 -3097.
  • 8Ecke G,Eichhorn G,Pezoldt J,et al.Deposition of aluminium nitride films by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition[J].Surface Coating Technology,1998,(98):1 503 -1 509.
  • 9Herng Liu,Bertolet D C,Rogers J W,et al.Reaction of trimethylaluminum and ammonia on alumina at 600 K-surface chemical aspects of AlN thin film growth[J].Surface Science,1995,(340):88-100.
  • 10Wands Ziemkowska.Alkylaluminium derivatives of 2,2' -di(hydroxylmethyl) biphenyl:Suuctural of trinuclear complexes[J].Polyhedron,2002,(21):281-286.

引证文献3

二级引证文献4

滨州师专学报
2001年 第4期

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