期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息

直流磁控反应溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究 被引量：5

Study on deposition parameters of ZAO films by DC magnetron reactive sputtering
原文传递
导出
摘要 本文对直流磁控反应溅射制备 ZAO薄膜的工艺作了具体分析 ,探讨了沉积温度、氧分压、Al含量和靶基距等对 ZAO薄膜的电阻率、可见光区透射率的影响。 In this paper, the deposition parameters of ZAO films by DC magnetron reactive sputtering are specifically analyzed, and the effects of substrate temperature, oxygen partial pressure, Al content and target-substrate distance (TSD) on resistivity and optical transmittance of ZAO films are discussed.
作者 陆峰 徐成海 裴志亮 闻立时
机构地区 东北大学 中国科学院金属研究所
出处 《真空》 CAS 北大核心 2002年第3期23-26,共4页 Vacuum
关键词 直流磁控反应溅射 制备 ZAO薄膜 工艺参数 电阻率 透射率 氧化锌 氧化铝 ZAO resistivity transmittance
分类号 TB43 [一般工业技术] O484 [理学—固体物理]
  • 相关文献

参考文献1

  • 1裴志亮.透明导电薄膜ZnO:Al的制备、组织结构及光电特性研究.中国科学院金属研究所硕士学位论文[M].,2000..

同被引文献38

  • 1Yasuhiro Igasaki, Hirokazu Kanma. Argon gas pressure dependence of the properties of transparent conducting ZnO : Al films deposited on glass substrates [ J]. Applied surface science, 2001, 69-170:508-511 .
  • 2YOO J,LEE J,KIM S,et al.High transmittance and low resistive ZnO:Al films for thin film solar cells [J].Thin Solid Films,2005,480-481:213-217.
  • 3HU J,GORDON R G.Textured aluminum-doped zinc oxide thin films from atmospheric pressure chemical-vapor deposition [J].Appl.Phys.1992,71(2):880-890.
  • 4LEE J H,PARK B O.Transparent conducting ZnO:Al,In and Sn thin films deposited by the sol-gel method[J].Thin Solid Films,2003,426:94-99.
  • 5HIDEAKI A,AKIO S,TATSUHIKO M,et al.Low resistivity transparent conducting Al-doped ZnO films prepared by pulsed laser deposition[J].Thin Solid Films,2003,445:263-267.
  • 6TSUJINO J,HOMMA N,SUGAWARA T,et al.Preparation of Al-doped ZnO thin films by RF thermal plasma evaporation [J].Thin Solid Films,2002,407:86-91.
  • 7NUNES P.Performances presented by zinc oxide thin films deposited by spray pyrolysis [J].Thin Solid Films,1999,337:176-179.
  • 8JEONG S H,BOO J H.Influence of target-to-substrate distance on the properties of AZO films grown by RF magnetron sputtering[J].Thin Solid Films,2004,447-448:105-110.
  • 9HERRMANN D,OERTEL M,MENNER R,et al.Analysis of relevant plasma parameters for ZnO:Al film deposition based on data from reactive and non-reactive DC magnetron sputtering[J].Surface & Coatings Technology,2003,174-175:39-47.
  • 10CHEN M,PEI Z L,SUN C,et al.Formation of Al-doped ZnO films by dc magnetron reactive sputtering[J].Materials Letters,2001,48:194-198.

引证文献5

二级引证文献21

真空
2002年 第3期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部