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超高纯氨杂质分析 被引量:1

Analysis of Impurity in Ultra High Pure Ammonia
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摘要 论述了超高纯氨中痕量杂质分析方法
出处 《低温与特气》 CAS 2001年第6期25-27,共3页 Low Temperature and Specialty Gases
基金 国家 2 0 0 0年科技型中小企业技术创新基金无偿资助项目
  • 相关文献

参考文献4

  • 1GB/T14602-1993,电子工业用气体高纯氨[S].
  • 2高纯氨中痕量水、CH4、 C2H6分析[Z].光明化工研究设计院.
  • 3于凤来 尹恩华.高纯液氨痕量O2、Ar、N2、H2、CH4、H2O的色谱分析[J].特种气体,1983,(4):42-45.
  • 4孙福楠,冯庆祥.5.5N以上超纯氨的研制及产业化[A].全网特种气体信息网第八次全网大会论文集[C].大连:光明化工研究设计院,全国特种气体信息站,2001.

共引文献1

同被引文献4

引证文献1

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