17．5Kev同步辐射光的干涉技术研究

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摘要 X射线干涉测量技术是以非常稳定的亚纳米量级的硅单晶的晶格作为基本长度单位，以建立纳米级长度基准，从而实现纳米级精度的测量、校验等功能。由于其在纳米测量范围内的特殊优越性，因而近年来该技术得到了迅速发展。该技术的前提是X射线干涉技术的实现。根据X射线干涉的特点，并考虑到X射线的吸收特性，用单晶硅制出了LLL型X射线干涉器件。在北京同步辐射实验室（BSRL）4W1A束线上选择17．5Kev能量的同步辐射光进行了X射线干涉实验，在拍摄的底片上比较清楚地观察到了X射线干涉条纹。

作者王林蒋建华等

机构地区清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室

出处《北京同步辐射装置年报》 1997年第1期45-47,共3页

关键词 17.5Kev同步辐射光干涉技术 X射线干涉测量技术

分类号 O436.1 [机械工程—光学工程]

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