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膏剂空心阴极放电离子渗硼机理研究

Mechanism Research of Plasma Boronizing by Hollow Cathode Discharge
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摘要 本文对空心阴极放电离子渗硼的机理以及渗入速度快的原因作了分析,并结合试验结果提出了强化渗速的机理。 This Paper deals with the mechanism of plasma boronizing which is of high permeance rate by hollow cathode discharge. The causes that plasma boronizing rate is quicker are put forward.
出处 《太原工业大学学报》 1991年第3期30-35,共6页
关键词 空心阴极放电 膏剂 渗硼 热处理 hollow cathode discharge glow discharge arc light discharge
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