下一代光刻用的新型反射镜
出处
《光机电信息》
2002年第1期47-47,共1页
OME Information
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1刘加峰,胡存刚,宗仁鹤.光刻技术在微电子设备的应用及发展[J].光电子技术与信息,2004,17(1):24-27. 被引量:5
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2纳米压印跃过IDM龙门[J].集成电路应用,2007,24(4):34-34.
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3邱孟通,P.Choi.极紫外光刻光源[J].半导体技术,2006,31(6):406-408. 被引量:2
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4王占山.极紫外光刻给光学技术带来的挑战[J].红外与激光工程,2006,35(z2). 被引量:2
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5黄俊峰.下一代光刻候选技术:极紫外光刻[J].光机电信息,2001(9):8-11.
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6SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位[J].电子工业专用设备,2010(12):57-57.
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7朱涛,李艳秋.极紫外光刻真空工件台技术研究[J].微细加工技术,2005(1):32-37. 被引量:1
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8温尚明,袁大发,唐勇,孙秋燕,白德开.下一代光刻技术展望[J].光电工程,1999,26(S1):161-167. 被引量:2
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9蒋文波,胡松.传统光学光刻的极限及下一代光刻技术[J].微纳电子技术,2008,45(6):361-365. 被引量:7
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10下一代光刻开发的进展[J].中国集成电路,2004(4):36-40.
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