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化学镀Ni-WP合金沉积机理初探 被引量:21

Preliminary Study on the Deposition Mechanism of Electroless Ni-W-P Alloy
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摘要 通过对化学镀的Ni W P合金镀层镀态下的表面形貌特征及镀层断面组织的观察与分析 ,研究了化学镀Ni W P合金镀层的沉积机理。结果表明 ,合金原子优先在基底金属表面能量较高的划痕、蚀孔边缘处沉积。Ni W The formin conditions of the amorphous state and deposition mechanism of electroless Ni-W-P alloy coatings were studied by observing and analyzing the surface morphology and cross sectional structure of the as-plated alloy deposited at different times.
出处 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2001年第12期18-19,共2页 Materials Protection
  • 相关文献

参考文献4

  • 1渡边澈.非晶态电镀方法及应用[M].北京:北京航空航天大学出版社,1992.26-27.
  • 2赵文轸.材料表面工程导论[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,1995..
  • 3赵文轸,材料表面工程导论,1995年
  • 4渡边澈,非晶态电镀方法及其应用,1992年

共引文献6

同被引文献97

引证文献21

二级引证文献95

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