利用新型等离子CVD装置涂复陶瓷薄膜

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摘要在金属材料上涂复硬质陶瓷的方法,一般有CVD(化学气相沉积)法和PVD(物理气相沉积)法。这两种方法各有利弊,应根据具体工件灵活加以应用。CVD法的薄膜附着性高,但处理温度高达1000℃左右,母材容易发生变形和尺寸变化,需要二次热处理。PVD法的处理温度比CVD法低,变形和尺寸变化可得到控制。但薄膜的附着性差,且绕镀性也欠佳,因此不能用于形状复杂的工件。

作者河田一喜蒋修治

出处《模具技术》 1991年第6期95-102,共8页 Die and Mould Technology

关键词等离子 CVD 涂复陶瓷薄膜

分类号 TG174.453 [金属学及工艺—金属表面处理]

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