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氧化钌在法拉第准电容器中的应用研究进展 被引量：4

The development of the study on application of ruthenium oxide toFaraday pseudocapacitor
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摘要 介绍氧化钌法拉第准电容器的工作原理、特点和制造方法,还对近年来这类电容器的发展状况和存在问题进行了评述。 The electrochemical processes, characteristics and manufacture methods offaraday pseudocapacitor prepared with ruthenium oxide are presented. Thedevelopment and existing problems of the capacitor are reviewed (14 refs.).
作者 陈斌 张剑荣 姜立萍 朱俊杰 方慧群 陈卫东 顾义明 丁继华
机构地区 南京大学化学系 南通市江海电容器厂
出处 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2001年第5期28-29,34,共3页 Electronic Components And Materials
关键词 法拉第准电容器 氧化钌 工作原理 metal oxide faraday pseudocapacitors ruthenium oxide electrode
分类号 TM53 [电气工程—电器]
  • 相关文献

参考文献9

二级参考文献10

  • 1王众,方瑛.双电层电容器国内外近况[J].电子元件,1993(2):62-63. 被引量：2
  • 2贾明.锂离子蓄电池研究与发展[J].世界电子元器件,1996(12):2-5. 被引量：1
  • 3Zheng J P，J Electrochem Soc，1997年，144卷，6期，2026页
  • 4Hang Shi，Electrochem Acta，1996年，41卷，10期，1633页
  • 5Sarangapani S，J Electrochem Soc，1996年，143卷，11期，3791页
  • 6Zheng J P，J Power Sources，1996年，62卷，2期，155页
  • 7Takashi Saito，NEC技报，1994年，47卷，10期，91页
  • 8松下电子部品株式会社，1993 1995年产品目录〔Z〕
  • 9松下电子部品株式会社，强电力电容器的实际应用〔Z〕
  • 10电子部四十九所，（Q/UNTKN121-1996）CSC-4B型系列超大容量电容器〔S）

共引文献46

同被引文献41

  • 1李永舫.导电聚合物的电化学制备和电化学性质研究——中国科学院有机固体重点实验室导电聚合物电化学研究工作简介(I)[J].电化学,2004,10(4):369-378. 被引量：16
  • 2徐艳,王本根,王清华,刘宏宇.超级电容器用氧化钌及其复合材料的研究进展[J].电子元件与材料,2006,25(8):7-10. 被引量：7
  • 3Jong H.Jang,Sangjin Han,Taeghwan Hyeon.Electrochemical capacitor performance of hydrous ruthenium oxide/mesoporous carbon composite electrodes[J].J Power Sources,2003,123:79-85.
  • 4He B L,Zhou Y K,Zhou W J.Preparation and characterization of ruthenium-doped polypyrrole composites for supercapacitor[J].Mater Sci Eng A,2004,374:322-326.
  • 5Rizzi G A,Magrin A,Granozzi G.Preparation of epitaxial ultrathin RuO2-TiO2 (110) films by decomposition of Ru3(CO)12[J].Surf Sci,1999,443:277-286.
  • 6Lim W T,Cho K R,Lee C H.Structural and electrical properties of rf-sputtered RuO2 films having different conditions of preparation[J].Thin Solid Films,1999,348:56-62.
  • 7Huang J H,Chen J S.Material characteristics and electrical property of reactively sputtered RuO2 thin films[J].Thin Solid Films.2001,382:139-145.
  • 8Masahiko Hiratani,Yuichi Matsui,Kazushige Imagawa.Growth of RuO2 thin films by pulsed-laser depositionp[J].Thin Solid Films,2000,366:102-106.
  • 9Marijan Vukovic.Electrochemical quartz crystal microbalance study of electrodeposited ruthenium[J].J Electroanalytical Chemistry,1999,474:167-173.
  • 10Park B O,Lokhande C D,Park H S.Cathodic electrodeposition of RuO2 thin films from Ru(III)Cl3 solution[J].Mater Chem Phys,2004,87:59-66.

引证文献4

二级引证文献20

电子元件与材料
2001年 第5期

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