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SiGe材料及其在半导体器件中的应用 被引量：3

SiGe material and its applications on semiconductor devices
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摘要 介绍了ＳｉＧｅ材料的发展历史、特性、制备方法及其在半导体器件中的应用。 The historical background, characteristics and growth methods of the SiGe material are presented in this paper. The applications on semiconductor devices are also shown.
作者 朱泳 刘艳红 魏希文 沈光地 陈建新 邹德恕
机构地区 大连理工大学物理系 北京工业大学电子系
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第8期70-73,共4页 Semiconductor Technology
关键词 锗化硅 半导体材料 半导体器件 SiGe material HBT Si_1-xGe_x.alloy
分类号 TN304.24 [电子电信—物理电子学] TN303 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献6

共引文献4

同被引文献28

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引证文献3

二级引证文献7

半导体技术
2001年 第8期

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