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一种新的锁模技术 被引量:2

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摘要 <正> 本文首次报道一种新的锁模技术——正反馈锁模,一种响应时间快而无雪崩过程,深能级掺杂的GaAs(掺Cr)光电导开关用来驱动普克尔盒实现锁模,这种光电导开关的暗电阻比本征单晶硅高近6个数量级,可达10~9Q,因此能承受几千伏直流高压长期工作。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第20期1542-1543,共2页 Chinese Science Bulletin
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