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超纯水用过滤器 被引量:1

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摘要 随着半导体技术的发展,供半导体生产过程中洗涤等用的超纯水的要求规格也有所变化。现将集成电路(IC)的集成度与图形尺寸的关系示于表1。一般,尺寸为最小图形尺寸的1/10~1/3,或比之更大的粒子都应从超纯水中清除。
作者 吕洪久
出处 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1991年第8期34-36,共3页 New Chemical Materials
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