摘要
采用X射线光电子能谱 (XPS)分析研究了金属铀的清洁表面在 10 0和 2 0 0℃时与H2 作用的表面化学行为。通入 12 0Pa·s口H2 即可观察到明显的氢化反应 ,UH3的U 4 f7/2 峰结合能为378 7eV。温度由 10 0℃升高至 2 0 0℃有利于UH3生成。深度分析表明 :清洁的金属铀表面与H2 作用后 ,表面层结构由表向里依次为UO2 、UH3和U。
The surface chemical behavior of clean uranium metal in hydrogen atmosphere at 100 and 200 ℃ is studied by X ray photoelectron spectroscopy (XPS), respectively. It leads to hydriding reaction when the hydrogen exposure is 12.0 Pa·s, and the U 4 f 7/2 binding energy of UH 3 is found to be 378.7 eV. The higher temperature (200 ℃) is beneficial to UH 3 formation at the same hydrogen exposures. XPS elemental depth profiles indicate that the distribution of uranium surface layer is UO 2, UH 3 and U after exposure to 174.2 Pa·s hydrogen.
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2001年第3期207-210,共4页
Atomic Energy Science and Technology
基金
国家自然科学基金资助项目! (2 98710 2 6 )
中国工程物理研究院科学基金资助项目! (96Z0 5 5 )
