新技术使晶体材料走向商业化

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摘要美国第12届晶体生长及外延会议于2000年8月13～18日在美国卡罗拉多州Vail市召开,与会者有美、英、法、德、中、日、印等20余国科技人员。会议内容丰富,包括块状大晶体生长技术及理论、半导体晶体及薄膜材料的研究、氧化物晶体材料及薄膜、探测器材料、非线性及光折变、激光晶体材料、SiC晶体及外延、Ⅲ-Ⅴ族化合物晶体生长等。

作者房昌水

机构地区山东大学晶体材料研究所

出处《国际学术动态》 2001年第2期40-40,48,共2页 International Academic Developments

关键词晶体生产晶体外延学术会议晶体材料商业化

分类号 O78－27 [理学—晶体学]

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