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85MeV^(19)F离子辐照GaP的正电子湮没研究

A positron annihilation study of radiation effect in GaP irradiated by 85MeV^(19 ) F ion
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摘要 用正电子湮没寿命技术研究了 2 .4× 10 15 cm2 和 2 .2× 10 16 cm2 85MeV19F离子辐照GaP的辐照效应。结果表明 ,辐照在GaP中产生浓度较高的单空位 。 The radiation effect of N-type GaP irradiated by 2.4×10 15 /cm 2 and 2.2×10 16 /cm 2 85MeV 19 F ions was investigated by positron annihilation lifetime technique. Monovacancies were created in the irradiated N-type GaP, and the concentration of produced monovacancies increases with the increasing of irradiation fluence.
出处 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期274-276,共3页 Nuclear Techniques
基金 国家自然科学基金! (19835 0 5 0 ) 预研基金! (97J11.2 .8HZ0 10 )资助
关键词 辐照效应 正电子湮没 抗辐射性能 磷化镓半导体 氟19离子辐照 GaP, 19 F ions, Radiation effect, Positron annihilation
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