期刊文献+

遗传算法在湿法刻蚀设备温度PID控制中的应用 被引量:3

Genetic Algorithm in the Wet Etching Equipment Temperature Control
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 在湿法刻蚀的工艺过程中,影响刻蚀速度和刻蚀效果的元素有很多,温度是其中一个关键因素,所以在湿法刻蚀设备研制中对温度精度的控制成为重要技术之一。使用基于遗传算法的PID控制方法来实现对温度的控制,进行仿真以及和传统PID控制比较,在实际应用中得到了很好的结果。 In the wetetching process, the reason of etching speed and effect is very more, temperature is the key factor, the controlling of temperature precision is the one of important technology. The method of control temperature is PID control process basing on the genetic algorithm in this article, and this method obtains very wellresult in the simulation and actualapplication.
出处 《电子工业专用设备》 2014年第1期31-34,共4页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 遗传算法 湿法刻蚀 PID 控制 温度 Genetic algorithm Wetetching PID control Temperature
  • 相关文献

参考文献4

二级参考文献14

  • 1史鹏,张良莹,姚熹.微观结构对PZT薄膜反应离子刻蚀的影响[J].压电与声光,2005,27(4):415-417. 被引量:1
  • 2刘国营,刘祖黎,柳擎,刘红日.ITO玻璃衬底上PLZT铁电薄膜的制备与电性能[J].电子元件与材料,2006,25(2):48-51. 被引量:4
  • 3汤安东.ITO膜层蚀刻性能实验研究[J].激光与红外,1997,27(1):48-50. 被引量:7
  • 4陶永华,新型PID控制及其应用.机械工业出版社,2002.
  • 5周明,孙树栋,遗传算法的设计与应用.国防工业出版社,1999.
  • 6薛定宇,基于MATLAB/Simulink系统仿真技术与应用.清华大学出版社,2003.
  • 7LENG W J,YANG C R,JI H,et al. Structure-related optical properties of (Pb, La) (Zr, Ti) O3 thin films on indium tin oxide/quartz substrates[J].J Appl Phys, 2006,100(8): 083505-1-083505-6.
  • 8LENG W J ,YANG C R,JI H ,et al. Electrical and optical properties of lanthanum-modified lead zirconate titanate thin films by radio-frequency magnetron sputtering[J]. J Appl Phys, 2006,100 (10): 1-3.
  • 9TANAKA R, TAKAOKA T, MIZUKAMI H, et al. Laser etching of indium tin oxide thin films by ultrashort pulsed laser[C]. Munich: Proc of SPIE, 2003, 5 036:370-373.
  • 10ADESIDA I,BALLEGEER D G,SEO J W,et al. Etching of indium tin oxide in methane/hydrogen plasmas [J]. J Vac Sci Technol,1991,B 9(6):3 551-3 554.

共引文献25

同被引文献14

引证文献3

二级引证文献7

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部