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高硒砷二氧化碲的处理 被引量:6

Treatment of Tellurium Oxide Containing Selenium and Arsenic
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摘要 对含杂质的无法直接配液的二氧化碲进行 Se、As脱除处理 ,选择的方法有煅烧法及还原法。煅烧法的Se脱除率为 90 .80 % ,As脱除率为 2 8.82 % ;还原法的 Se脱除率 89.91 % ,As脱除率为 77.79%。采用还原法进行生产 ,精碲一级品率达 1 0 0 %。 The test on removing selenium and arsenic from tellurium oxide has been carried out by roasting and reduction.The results show that the removal rate of arsenic are 28.82% and 77.79%,respectively.The removal rate of selenium are 90.88% and 89.9%,respectively.Treating this TeO 2 material by reduction,primary rate of refined tellurium can reach 100%.
机构地区 贵溪冶炼厂
出处 《湿法冶金》 CAS 2001年第1期30-33,共4页 Hydrometallurgy of China
关键词 高硒砷二氧化碲 煅烧法 还原法 脱砷 脱硒 tellurium oxide selenium arsenic removl
  • 相关文献

参考文献1

  • 1赖建林.有色金属科学技术进展[M].长沙:中南工业大学出版社,1994.515-520.

同被引文献48

引证文献6

二级引证文献44

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